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2019DSMC - simulation of the influence of hydrogen addition on the properties of silicon deposited by HWCVD
King, H.; Pflug, A.; Ortner, K.; Höfer, M.; Harig, T.; Sittinger, V.
Zeitschriftenaufsatz
2019Silicon films for heterojunction solar cells by hot-wire CVD
Justianto, M.; Harig, T.; Höfer, M.; Sittinger, V.
Konferenzbeitrag
2018Anti-reflective coatings deposited by HWCVD process on glass and plastics
Sittinger, V.
Abstract
2018Deposition of surface passivation layers for silicon heterojunction solar cells by hot-wire CVD
Justianto, M.; Höfer, M.; Harig, T.; Sittinger, V.
Konferenzbeitrag
2018Optical grade SiO₂ films prepared by HWCVD
Sittinger, V.; Höfer, M.; Harig, T.; Justianto, M.; Thiem, H.; Vergöhl, M.; Schäfer, L.
Zeitschriftenaufsatz
2015Growth condition of amorphous ZTO films from rotatable targets
Sittinger, V.; Pflug, A.; Schulz, C.; Siemers, M.; Melzig, T.; Meyer, B.; Kronenberger, A.; Oberste Berghaus, J.; Bosscher, W. de
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2015Heuristic modeling of the doping efficiency in sputtered TCO layers
Pflug, A.; Siemers, M.; Melzig, T.; Sittinger, V.; Schäfer, L.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2015Rotatable serial co-sputtering of doped titania
Sittinger, V.; Pflug, A.; Dewald, W.; Jung, S.; Britze, C.; Kaiser, A.; Werner, W.; Szyszka, B.; Bräuer, G.
Zeitschriftenaufsatz
2015Variable Glasbeschichtungen für beschlagfreie Scheiben
Sittinger, V.
Zeitschriftenaufsatz
2014High power impulse magnetron sputtering - HIPIMS
Bandorf, R.; Sittinger, V.; Bräuer, G.
Aufsatz in Buch
2014Material properties of high-mobility TCOs and application to solar cells
Ruske, F.; Schönau, S.; Ring, S.; Neubert, S.; Stannowski, B.; Sittinger, V.; Götzendörfer, S.; Rech, B.
Konferenzbeitrag
2014NIR-CW-Laser annealing of room temperature sputtered ZnO:Al
Schütz, V.; Sittinger, V.; Götzendörfer, S.; Kalmbach, C.C.; Fu, R.; Witzendorff, P. von; Britze, C.; Suttmann, O.; Overmeyer, L.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2014Recent developments in the field of transparent conductive oxide films and emerging applications for automotive and architectural glazing, oxide electronics and photovoltaics
Szyszka, B.; Muydinov, R.; Pflug, A.; Rech, B.; Ruske, F.; Scherg-Kurmes, H.; Schlatmann, R.; Sittinger, V.; Stannowski, B.; Ulrich, S.
Konferenzbeitrag
2014Rotatable serial co-sputtering of doped titania
Sittinger, V.; Pflug, A.; Dewald, W.; Jung, S.; Britze, C.; Kaiser, A.; Werner, W.; Szyszka, B.; Bräuer, G.
Konferenzbeitrag
2014Superposition of mid-frequency and high power impulse magnetron sputtering
Gerdes, H.; Sittinger, V.; Bandorf, R.; Lenck, O.; Vergöhl, M.; Bräuer, G.
Konferenzbeitrag
2013Advanced properties of Al-doped ZnO films with a seed layer approach for industrial thin film photovoltaic application
Dewald, W.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Säuberlich, F.; Stannowski, B.; Köhl, D.; Ries, P.; Wuttig, M.
Zeitschriftenaufsatz
2013Applications of HIPIMS metal oxides
Sittinger, V.; Lenck, O.; Vergöhl, M.; Szyszka, B.; Bräuer, G.
Zeitschriftenaufsatz
2012Light trapping in a-SI:H/µc-SI:H tandem solar cells on differently textured TCOS
Dewald, W.; Feser, C.; Nowak, R.; Chakanga, K; Sergeev, O.; Sittinger, V.; Maydell, K. von
Konferenzbeitrag
2012Recent developments in the field of transparent conductive oxide films for spectral selective coatings, electronics and photovoltaics
Szyszka, B.; Dewald, W.; Gurram, S.K.; Pflug, A.; Schulz, C.; Siemers, M.; Sittinger, V.; Ulrich, S.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2011Evaluation of textured TCOs for a-SI:H/µc-SI:H thin film solar cells by angular resolved light scattering measurements
Dewald, W.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Wippler, D.; Hüpkes, J.; Obermeyer, P.; Hamelmann, F.; Stiebig, H.; Säuberlich, F.; Severin, D.; Klein, S.; Rohde, M.; Schmidt, U.
Konferenzbeitrag
2011In-line processing of hot wire CVD a-SI:H solar cells using different ZnO:Al morphologies as front contact
Sittinger, V.; Laukart, A.; Harig, T.; Höfer, M.; Dewald, W.; Britze, C.; Schäfer, L.; Szyszka, B.; Bräuer, G.
Konferenzbeitrag
2011Influence of process parameter and magnetic field strength on DC magnetron sputtered ZnO:Al films from ceramic targets
Sittinger, V.; Dewald, W.; Werner, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2011Neue Produktionstechnik für leitfähige Schichten auf Glas
Szyszka, B.; Sittinger, V.; Ulrich, S.; Beontoro, W.; Werner, W.
Zeitschriftenaufsatz
2011New approach towards an optimized light trapping morphology of Al-doped ZnO films
Sittinger, V.; Dewald, W.; Szyszka, B.; Säuberlich, F.; Stannowski, B.
Zeitschriftenaufsatz
2011Reactive magnetron sputtering of ZnO:Al
Sittinger, V.; Dewald, W.; Szyszka, B.; Ruske, F.
Zeitschriftenaufsatz
2011Simulation of plasma potential and ion energies in magnetron sputtering
Pflug, A.; Siemers, M.; Schwanke, C.; Febty Kurnia, B.; Sittinger, V.; Szyszka, B.
Zeitschriftenaufsatz
2010Angular resolved light scattering of structured TCOs for the application in a-Si:H/µc-Si:H solar cells
Dewald, W.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Gordijn, A.; Hüpkes, J.; Hamelmann, F.; Stiebig, H.; Säuberlich, F.
Konferenzbeitrag
2010Dünnschicht-Photovoltaik in Deutschland
Sittinger, V.; Diehl, W.; Szyszka, B.
Zeitschriftenaufsatz
2010Heat treatable TCO film for position 1 based on HiPIMS
Sittinger, V.; Horstmann, F.; Boentoro, W.; Werner, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2010Large area DC sputtered zinc oxide front TCO for a-Si/µc-Si tandem modules
Ring, S.; Säuberlich, F.; Wendelmuth, T.; Sittinger, V.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2010New approach towards an optimized light trapping morphology of Al-doped ZnO films
Sittinger, V.; Dewald, W.; Szyszka, B.; Säuberlich, F.; Stannowski, B.
Konferenzbeitrag
2010Optical on-line monitoring for the long-term stabilization of a reactive mid-frequency sputtering process of Al-doped zinc oxide films
Sittinger, V.; Ruske, F.; Pflug, A.; Pflug, A.; Dewald, W.; Szyszka, B.; Dittmar, G.
Zeitschriftenaufsatz
2010Rotatable target serial co-sputtering
Szyszka, B.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Ulrich, S.; Vergöhl, M.; Werner, W.; Kaiser, A.; Jung, S.; Bringmann, U.; Bräuer, G.; Köhl, D.; Austgen, M.; Wuttig, M.; Weis, H.; Herwig, W.; Polle, A.; Herlitze, L.
Konferenzbeitrag
2010Sputteryield-Amplification. Ein lange bekannter, doch bisher kaum genutzter Effekt zur Ratenerhöhung von Sputterprozessen
Szyszka, B.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Ulrich, S.
Zeitschriftenaufsatz
2010Transparent conducting oxide deposition techniques for thin-film photovoltaics
Sittinger, V.; Dewald, W.; Werner, W.; Szyszka, B.; Ruske, F.
Zeitschriftenaufsatz
2010Übersicht über die Einsatzgebiete und Anwendungen von transparent leitfähigen Oxiden (TCOs)
Sittinger, V.; Szyszka, B.; Ulrich, S.; Pflug, A.; Ruske, F.; Dewald, W.
Zeitschriftenaufsatz
2009Anordnung umfassend eine transparente elektrisch leitfaehige Schicht, Anordnung umfassend eine photoelektrische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer transparenten Elektrode
Säuberlich, F.; Stannowski, B.; Wendelmuth, T.; Sittinger, V.; Szyszka, B.
Patent
2009Comparison of different ceramic Al-doped ZnO target materials
Sittinger, V.; Dewald, W.; Werner, W.; Szyszka, B.
Zeitschriftenaufsatz
2009Heat treatable indium tin oxide films deposited with high power pulse magnetron sputtering
Horstmann, F.; Sittinger, V.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2009Heat treatable TCO film for position 1 based on HiPIMS
Sittinger, V.; Horstmann, F.; Boentoro, W.; Werner, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2009HiPIMS - Technologie und Anwendungsfelder
Bandorf, R.; Vergöhl, M.; Werner, O.; Sittinger, V.; Bräuer, G.
Zeitschriftenaufsatz
2009Influence of strong magnetic fields on the growth of DC magnetron sputtered ZNO:Al films from a ceramic target
Dewald, W.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2009Large area deposition of Al-doped ZnO for Si-based thin film solar cells by magnetron sputtering
Sittinger, V.; Dewald, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2009Magnetron-Beschichtungsmodul sowie Magnetron-Beschichtungsverfahren
Pflug, A.; Siemers, M.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Ulrich, S.
Patent
2009Microtribological rating of transparent conducting oxide for thin film solar cells
Yu, J.; Sittinger, V.; Weinhold, W.P.; Schüßler, T.
Zeitschriftenaufsatz
2009Optical modeling of free electron behavior in highly doped ZnO films
Ruske, F.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Greiner, D.; Rech, B.
Zeitschriftenaufsatz
2009Optimization of process parameters for sputtering of ceramic ZnO:Al2O3 targets for a-Si:H/µc-Si:H solar cells
Dewald, W.; Sittinger, V.; Werner, W.; Jacobs, C.; Szyszka, B.
Zeitschriftenaufsatz
2009Reactive magnetron sputtering of ZnO:Al
Szyszka, B.; Sittinger, V.; Dewald, W.; Pflug, A.; Ulrich, S.; Kaiser, A.; Werner, W.
Konferenzbeitrag
2009Survey of thin film photovoltaics in Germany
Sittinger, V.; Diehl, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2009Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit aluminiumdotiertem Zinkoxid
Sittinger, V.; Szyszka, B.; Dewald, W.; Säuberlich, F.; Stanowski, B.
Patent
2008Glasprodukt
Drescher, T.; Hangleiter, B.; Schuetz, J.; Matthai, A.; Walter, H.; Horstmann, F.; Szyszka, B.; Sittinger, V.; Werner, W.; Boentoro, T.W.
Patent
2008High power pulsed magnetron sputtering of transparent conducting oxides
Sittinger, V.; Ruske, F.; Werner, W.; Jacobs, C.; Szyszka, B.; Christie, D.J.
Zeitschriftenaufsatz
2008Reactive deposition of aluminium-doped zinc oxide thin films using high power pulsed magnetron sputtering
Ruske, F.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.; Christie, D.J.
Zeitschriftenaufsatz
2008Research on promising applications for high power pulse magnetron sputtering
Sittinger, V.; Szyszka, B.; Bandorf, R.; Vergöhl, M.; Pflug, A.; Christie, D.J.; Ruske, F.
Konferenzbeitrag
2008Verfahren zur Herstellung einer transparenten und leitfaehigen Metalloxidschicht durch gepulstes, hochionisierendes Magnetronsputtern
Horstmann, F.; Sittinger, V.; Szyszka, B.
Patent
2007Determination of plasma parameters during deposition of ZnO films by ceramic and metallic targets and correlation with film properties
Wiese, R.; Kersten, H.; Hannemann, M.; Sittinger, V.; Ruske, F.; Menner, R.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2007Flux of positive ions and film growth in reactive sputtering of Al-doped ZnO thin films
Ruske, F.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.; Wiese, R.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2007Large area ZnO:Al films with tailored light scattering properties for photovoltaic applications
Ruske, F.; Jacobs, C.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Werner, W.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2007Plasma for surface technology - examples of current developments
Bräuer, G.; Diehl, W.; Frach, P.; Kirchhoff, V.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Vergöhl, M.
Konferenzbeitrag
2007Position and time resolved optical emission spectroscopy and film properties of ITO films deposited by high power pulsed magnetron sputtering
Sittinger, V.; Ruske, F.; Szyszka, B.; Christie, D.J.; Wallendorf, T.
Konferenzbeitrag
2006Deposition of high conductivity ITO films by high power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)
Sittinger, V.; Ruske, F.; Gerloff, C.; Werner, W.; Szyszka, B.; Christie, D.J.
Konferenzbeitrag
2006High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)
Christie, D.; Szyszka, B.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Ruske, F.; Werner, W.
Konferenzbeitrag
2006Plasma characterization tools and application to reactive sputtering of Al-doped ZnO thin films
Sittinger, V.; Ruske, F.; Szyszka, B.; Wiese, R.; Kersten, H.
Zeitschriftenaufsatz
2006Process stabilisation for large area reactive MF-sputtering of Al-doped ZnO
Ruske, F.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.
Zeitschriftenaufsatz
2006Production of MF and DC-pulse sputtered anti-reflective/anti-static optical interference coatings using a large area in-line coater
Sittinger, V.; Pflug, A.; Werner, W.; Rickers, C.; Vergöhl, M.; Kaiser, A.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2006Reactive deposition of Al-doped ZnO thin films using high power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)
Ruske, F.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.; Christie, D.J.
Konferenzbeitrag
2006Stability of CIGS minimodules with ZnO:Al films prepared by reactive mid-frequency magnetron sputtering
Sittinger, V.; Ruske, F.; Werner, W.; Szyszka, B.; Menner, R.; Powalla, M.; Dimmler, B.
Konferenzbeitrag
2006Verfahren zur Abscheidung einer Oxidschicht auf Absorbern von Solarzellen, Solarzelle und Verwendung des Verfahrens
Sittinger, V.; Ruske, F.; Szyszka, B.
Patent
2006Verfahren zur Regelung eines reaktiven Hochleistungs-Puls-Magnetronsputterprozesses und Vorrichtung hierzu
Ruske, F.; Sittinger, V.; Szyszka, B.
Patent
2006ZnO:Al films deposited by in-line reactive AC magnetron sputtering for a-Si:H thin film solar cells
Sittinger, V.; Ruske, F.; Werner, W.; Szyszka, B.; Rech, B.; Hüpkes, J.; Schöpe, G.; Stiebig, H.
Zeitschriftenaufsatz
2005Aufskalierung reaktiv gesputterter ZnO:Al-Schichten für Dünschicht-Solarmodule
Sittinger, V.; Ruske, F.; Werner, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2005Hydrogen doping of DC sputtered ZnO:Al films from novel target material
Ruske, F.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.; Osten, K.U. van; Dietrich, K.; Rix, R.
Zeitschriftenaufsatz
2005Hydrogen doping of ZnO:Al films deposited by pulsed DC-sputtering of ceramic targets
Ruske, F.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.; Osten, K.-U. van; Dietrich, K.; Rix, R.
Konferenzbeitrag
2005Leuchtmittel mit einem Schichtsystem zur Reflektierung abgegebener infraroter Strahlung
Szyszka, B.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Hunsche, B.; Bewig, L.; Kuepper, T.
Patent
2005Model prediction and emprical confirmation of rate scaling with peak power for high power pulse magnetron sputtering (HPPMS) deposition of thin Ag films
Christie, D.J.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Ruske, F.; Siemers, M.; Szyszka, B.; Geisler, M.
Konferenzbeitrag
2005Optimized TCO deposition and etching for a-Si:H thin film solar cells
Sittinger, V.; Ruske, F.; Szyszka, B.
Zeitschriftenaufsatz
2005Recent progress in amorphous and microcrystalline silicon based solar cell technology
Rech, B.; Repmann, T.; Hüpkes, J.; Berginski, M.; Stiebig, H.; Beyer, W.; Sittinger, V.; Ruske, F.
Konferenzbeitrag
2005Thin film solar cell technology in Germany
Diehl, W.; Sittinger, V.; Szyszka, B.
Zeitschriftenaufsatz
2005Tuning the reactive magnetron sputtering process of Al-doped ZnO on large area substrates for amorphous and microcrystalline silicon solar cells
Sittinger, V.; Ruske, F.; Werner, W.; Szyszka, B.; Rech, B.; Schöpe, G.; Hüpkes, J.
Konferenzbeitrag
2005Wasserstoffdotierung von ZnO:Al-Schichten aus keramischen Targets
Ruske, F.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.; Osten, K.U. van
Konferenzbeitrag
2005ZnO:Al films for a-Si:H thin film solar cells
Szyszka, B.; Sittinger, V.; Ruske, F.; Werner, W.; Pflug, A.; Rech, B.
Konferenzbeitrag
2004Combination of X-ray reflectometry and optical spectroscopy as a new tool for thin films parameter determination
Pflug, A.; Ruske, F.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2004Erratum to "comparison of the ZnO:Al films deposited in static and dynamic modes by reactive mid-frequency magnetron sputtering" (J. Crystal Growth 253 (2003) 117-128)
Hong, R.J.; Jiang, X.; Szyszka, B.; Sittinger, V.; Xu, S.H.; Werner, W.; Heide, G.
Zeitschriftenaufsatz
2004Optical characterization of aluminum-doped zinc oxide films by advanced dispersion theories
Pflug, A.; Sittinger, V.; Ruske, M.; Szyszka, B.; Dittmar, G.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2004Process stabilisation for large area reactive MF-sputtering of Al-doped ZnO
Ruske, F.; Pflug, A.; Sittinger, V.; Werner, W.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2004Production of MF and DC-pulse sputtered precision optical interference coatings using a large area in-line coater
Sittinger, V.; Pflug, A.; Werner, W.; Rickers, C.; Vergöhl, M.; Kaiser, A.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2003Comparison of the ZnO:Al films deposited in static and dynamic modes by reactive mid-frequency magnetron sputtering
Hong, R.J.; Jiang, X.; Szyszka, B.; Sittinger, V.; Xu, S.H.; Werner, W.; Heide, G.
Zeitschriftenaufsatz
2003Growth behaviours and properties of the ZnO:Al films prepared by reactive mid-frequency magnetron sputtering
Hong, R.J.; Jiang, X.; Heide, G.; Szyszka, B.; Sittinger, V.; Werner, W.
Zeitschriftenaufsatz
2003New cost effective ZnO:Al films deposited by large area reactive magnetron sputtering
Sittinger, V.; Szyszka, B.; Hong, R.J.; Werner, W.; Ruske, M.; Lopp, A.
Konferenzbeitrag
2003Process simulation for advanced large area optical coatings
Pflug, A.; Szyszka, B.; Sittinger, V.; Niemann, J.
Konferenzbeitrag
2003State-of-the-art mid-frequency sputtered ZnO films for thin film silicon solar cells and modules
Müller, J.; Schöpe, G.; Kluth, O.; Rech, B.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Geyer, R.; Lechner, P.; Schade, H.; Ruske, M.; Dittmar, G.; Bochem, H.-P.
Zeitschriftenaufsatz
2003Studies on ZnO:Al thin films deposited by in-line reactive mid-frequency magnetron sputtering
Hong, R.J.; Jiang, X.; Szyszka, B.; Sittinger, V.; Pflug, A.
Zeitschriftenaufsatz
2003Transparent and conductive ZnO:Al films deposited by large area reactive magnetron sputtering
Szyszka, B.; Sittinger, V.; Jiang, X.; Hong, R.J.; Werner, W.; Pflug, A.; Ruske, M.; Lopp, A.
Zeitschriftenaufsatz
2002Modeling of NIR free carrier absorption in aluminum-doped zinc oxide layers using the simulation system RIG-VM
Pflug, A.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Dittmar, G.
Konferenzbeitrag
2002Simulation of reactive magnetron sputtering kinetics in real in-line processing chambers
Pflug, A.; Malkomes, N.; Sittinger, V.; Szyszka, B.
Konferenzbeitrag
2002State-of-the-art mid-frequency sputtered ZnO films for thin film silicon solar cells and modules
Müller, J.; Schöpe, G.; Kluth, O.; Rech, B.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Geyer, R.; Lechner, P.; Schade, H.; Ruske, M.; Dittmar, G.; Bochem, H.-P.
Konferenzbeitrag
2002Transparent and conductive ZnO:Al films deposited by large area reactive magnetron sputtering
Szyszka, B.; Sittinger, V.; Jiang, X.; Hong, R.J.; Werner, W.; Pflug, A.; Ruske, M.; Lopp, A.
Konferenzbeitrag
2002Uniformity in large area ZnO:Al films prepared by reactive midfrequency magnetron sputtering
Hong, R.J.; Jiang, X.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Höing, T.; Bräuer, G.; Heide, G.; Frischat, G.H.
Zeitschriftenaufsatz
2001Large area deposition of transparent and conductive ZnO:Al layers by reactive mid frequency magnetron sputtering
Szyszka, B.; Höing, T.; Jiang, X.; Bierhals, A.; Malkomes, N.; Vergöhl, M.; Sittinger, V.; Bringmann, U.; Bräuer, G.
Konferenzbeitrag