Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Metasurface-based patterned wave plates for VIS applications
Stock, C.; Siefke, T.; Zeitner, U.
Zeitschriftenaufsatz
2019Mid-infrared long-pass filter for high-power applications based on grating diffraction
Gerz, D.; Schweinberger, W.; Butler, T.P.; Siefke, T.; Heusinger, M.; Amotchkina, T.; Pervak, V.; Zeitner, U.; Pupeza, I.
Zeitschriftenaufsatz
2019Watt-scale 50-MHz source of single-cycle waveform-stable pulses in the molecular fingerprint region
Butler, T.P.; Gerz, D.; Hofer, C.; Xu, J.; Gaida, C.; Heuermann, T.; Gebhardt, M.; Vamos, L.; Schweinberger, W.; Gessner, J.A.; Siefke, T.; Heusinger, M.; Zeitner, U.; Apolonski, A.; Karpowicz, N.; Limpert, J.; Krausz, F.; Pupeza, I.
Zeitschriftenaufsatz
2018Polarization Control by Deep Ultra Violet Wire Grid Polarizers
Siefke, T.; Kroker, S.
Konferenzbeitrag
2018Resonant Waveguide Grating Structures
Kroker, S.; Siefke, T.
Konferenzbeitrag
2017175 nm period grating fabricated by i-line proximity mask-aligner lithography
Bourgin, Y.; Voigt, D.; Käsebier, T.; Siefke, T.; Kley, E.-B.; Zeitner, U.D.
Zeitschriftenaufsatz
2016Materials Pushing the Application Limits of Wire Grid Polarizers further into the Deep Ultraviolet Spectral Range
Siefke, T.; Kroker, S.; Pfeiffer, K.; Puffky, O.; Dietrich, K.; Franta, D.; Ohlidal, I.; Szeghalmi, A.; Kley, E.-B.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2015Double-sided diffractive photo-mask for sub-500nm resolution proximity i-line mask-aligner lithography
Bourgin, Yannick; Siefke, Thomas; Käsebier, Thomas; Kley, Ernst-Bernhard; Zeitner, Uwe D.
Konferenzbeitrag
2015Double-sided structured mask for sub-micron resolution proximity i-line mask-aligner lithography
Bourgin, Yannick; Siefke, Thomas; Käsebier, Thomas; Genevee, Pascal; Szeghalmi, Adriana; Kley, Ernst-Bernhard; Zeitner, Uwe D.
Zeitschriftenaufsatz
2014Fabrication influences on deep-ultraviolet tungsten wire grid polarizers manufactured by double patterning
Siefke, T.; Lehr, D.; Weber, T.; Kley, E.B.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2014Plasmonic nanoring fabrication tuned to pitch: Efficient, deterministic, and large scale realization of ultra-small gaps for next generation plasmonic devices
Lehr, Dennis; Alaee, Rasoul; Filter, Robert; Dietrich, Kay; Siefke, Thomas; Rockstuhl, Carsten; Lederer, Falk; Kley, Ernst-Bernhard; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz