Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2018Novel EUV mask absorber evaluation in support of next-generation EUV imaging
Philipsen, V.; Luong, K.V.; Opsomer, K.; Detavernier, C.; Hendrickx, E.; Erdmann, A.; Evanschitzky, P.; Kruijs, R.W.E. van de; Heidarnia-Fathabad, Z.; Scholze, F.; Laubis, C.
Konferenzbeitrag
2017Interface morphology of Mo/Si multilayer systems with varying Mo layer thickness studied by EUV diffuse scattering
Haase, Anton; Soltwitsch, Victor; Braun, Stefan; Laubis, Christian; Scholze, Frank
Zeitschriftenaufsatz
2017Reducing EUV mask 3D effects by alternative metal absorbers
Philipsen, V.; Luong, K.V.; Souriau, L.; Hendrickx, E.; Erdmann, A.; Xu, D.; Evanschitzky, P.; Kruijs, R.W.E. van de; Edrisi, A.; Scholze, F.; Laubis, C.; Irmscher, M.; Naasz, S.; Reuter, C.
Konferenzbeitrag
2017Reducing extreme ultraviolet mask three-dimensional effects by alternative metal absorbers
Philipsen, V.; Luong, K.V.; Souriau, L.; Erdmann, A.; Xu, D.; Evanschitzky, P.; Kruijs, R.W.E. van de; Edrisi, A.; Scholze, F.; Laubis, C.; Irmscher, M.; Naasz, S.; Reuter, C.; Hendrickx, E.
Zeitschriftenaufsatz
2015Characterization of Mo/Si mirror interface roughness for different Mo layer thickness using resonant diffuse EUV scattering
Haase, Anton; Soltwitsch, Victor; Scholze, Frank; Braun, Stefan
Konferenzbeitrag
2015Sub-aperture EUV collector with dual-wavelength spectral purity filter
Feigl, Torsten; Perske, Marco; Pauer, Hagen; Fiedler, Tobias; Zeitner, Uwe; Leitel, Robert; Eckstein, Hans Christoph; Schleicher, Philipp; Schröder, Sven; Trost, Marcus; Risse, Stefan; Steinkopf, Ralf; Scholze, F.; Laubis, C.
Konferenzbeitrag
2012An EUV beamsplitter based on conical grazing incidence diffraction
Braig, C.; Fritzsch, L.; Käsebier, T.; Kley, E.-B.; Laubis, C.; Liu, Y.; Scholze, F.; Tünnermann, A.
Zeitschriftenaufsatz
2007Characterization of the measurement uncertainty of a laboratory EUV reflectometer for large optics
Scholze, F.; Laubis, C.; Loyen, L. van; Macco, F.; Schädlich, S.
Zeitschriftenaufsatz
2005Laboratory LPP EUV reflectometer working with non-polarized radiation
Loyen, L. van; Böttger, T.; Schädlich, S.; Braun, S.; Foltyn, T.; Leson, A.; Scholze, F.; Müllender, S.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2004High-throughput EUV reflectometer for EUV mask blanks
Lebert, R.; Wies, C.; Juschkin, L.; Jägle, B.; Meisen, M.; Aschke, L.; Sobel, F.; Seitz, H.; Scholze, F.; Ulm, G.; Walter, K.; Neff, W.; Bergmann, K.; Biel, W.
Konferenzbeitrag
2003Characterization of a laser produced plasma source for a laboratory EUV reflectometer
Scholze, F.; Scholz, F.; Tümmler, J.; Ulm, G.; Legall, H.; Nickles, P.-V.; Sandner, W.; Stiel, H.; Loyen, L. van
Konferenzbeitrag
2003New laboratory EUV reflectometer for large optics using a laser plasma source
Loyen, L. van; Böttger, T.; Braun, S.; Mai, H.; Leson, A.; Scholze, F.; Tümmler, J.; Ulm, G.; Legall, H.; Nickles, P.-V.; Sandner, W.; Stiel, H.; Rempel, C.; Schulze, M.; Brutscher, J.; Macco, F.; Müllender, S.
Konferenzbeitrag
1997Calibration of charge coupled devices and a pinhole transmission grating to be used as elements of a soft x-ray spectrograph
Schriever, G.; Lebert, R.; Naweed, A.; Mager, S.; Neff, W.; Kraft, S.; Scholze, F.; Ulm, G.
Zeitschriftenaufsatz
1994VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUR BEHANDLUNG VOM TEILCHENFOERMIGEM MATERIAL MIT ELEKTRONENSTRAHLEN
Gaber, K.; Panzer, S.; Schmidt, J.; Schiller, S.; Kuehn, G.; Scholze, F.; Ellert, H.; Lindner, K.; Scholze, T.; Pflaumbaum, J.; Burth, U.; Greilich, J.
Patent
1994Verfahren und Einrichtung zur Behandlung von Saatgut
Panzer, S.; Mueller, P.; Pflaumbaum, J.; Scholze, F.; Lange, M.; Mueller, R.; Motte, G.; Leja, M.; Fischer, R.; Gaber, K.; Jahn, M.
Patent