Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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1991Simulation of defects in 3-dimensional resist profiles in optical lithography
Mewes, D.; Weiß, M.; Schießl-Hoyler, R.; Czech, G.; Henke, W.
Zeitschriftenaufsatz
1991A study of reticle defects imaged into three-dimensional developed profiles of positive photoresist using the SOLID lithography simulator
Mewes, D.; Schießl-Hoyler, R.; Czech, G.; Henke, W.; Weiß, M.
Zeitschriftenaufsatz