Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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1981Annealing of boron-implanted silicon using a CW CO2-laser.
Tsien, P.H.; Tsou, S.C.; Takai, M.; Roeschenthaler, D.; Ramin, M.; Ryssel, H.; Ruge, I.; Wittmaack, K.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of arsenic-implanted silicon - dependence upon scanning speed and power density.
Tsien, P.H.; Ryssel, H.; Roeschenthaler, D.; Ruge, I.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of arsenic-implanted silicon - Relaxation of metastable concentration by means of CO2-laser irradiation.
Tsien, P.H.; Ryssel, H.; Roeschenthaler, D.; Ruge, I.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of gallium-implanted silicon.
Takai, M.; Tsou, S.C.; Tsien, P.H.; Roeschenthaler, D.; Ryssel, H.
Zeitschriftenaufsatz