Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
1989The E-beam application of highly sensitive positive and negative tone X-ray resists for X-ray mask making
Dammel, R.; Demmeler, R.; Ehrlich, C.; Kohlmann, K.; Lingnau, J.; Pongratz, S.; Reimer, K.; Scheunemann, U.; Theis, J.
Konferenzbeitrag
1989E-beam application of highly sensitive positive and negative-tone resists for x-ray mask making
Dammel, R.; Demmeler, R.; Ehrlich, C.; Hessemer, W.; Kohlmann, K.; Lingnau, J.; Pongratz, S.; Reimer, K.; Scheunemann, U.; Theis, J.
Konferenzbeitrag
1989High sensitivity positive tone X-ray resist: RAY-PF performance under e-beam exposure
Menschig, A.; Forchel, A.; Dammel, R.; Lingnau, J.; Pongratz, S.; Scheunemann, U.; Theis, J.
Konferenzbeitrag
1989One-layer technique for absorber structuring of E-beam written master masks for X-ray lithography
Ehrlich, C.; Goepel, U.; Demmeler, R.; Pongratz, S.; Reimer, K.; Dammel, R.; Lignau, J.; Theis, J.
Konferenzbeitrag
1989Proximity correction for e-beam pattering on X-ray mask blanks
Reimer, K.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1989Proximity correction for e-beam patterning on X-ray mask blanks
Reimer, K.; Pongratz, S.
Zeitschriftenaufsatz
1989State of the art of pattern placement accuracy of silicon X-ray master masks
Pongratz, S.; Mescheder, U.; Ehrlich, C.; Huber, H.-L.; Kohlmann, K.; Windbracke, W.
Konferenzbeitrag
1988Application of SiC-X-ray masks for fabrication submicron devices
Mackens, U.; Lüthje, H.; Mescheder, U.; Mund, F.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1988Subhalf micron critical dimension control in X-ray lithography mask technology
Mescheder, U.; Mund, F.; Trube, J.; Windbracke, W.; Huber, H.-L.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1987High resolution e-beam lithography for X-ray mask making
Demmeler, R.; Ehrlich, C.; Pongratz, S.; Reimer, K.
Zeitschriftenaufsatz
1987Technologie der Röntgenmasken
Pongratz, S.
Zeitschriftenaufsatz
1986Critical dimension control in x-ray masks with electroplated gold absorbers
Windbracke, W.; Betz, H.; Huber, H.-L.; Pilz, W.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1986Silicon x-ray masks - pattern placement and overlay accuracy
Betz, H.; Huber, H.-L.; Pongratz, S.; Rohrmoser, W.; Windbracke, W.; Mescheder, U.
Konferenzbeitrag
1985Submicron patterns formed by reactive ion etching
Pilz, W.; Sponholz, T.; Pongratz, S.; Mader, H.
Zeitschriftenaufsatz
1984Application of diazo-type resists in synchrotron lithography
Huber, H.-L.; Betz, H.; Heuberger, A.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1984Technologische Verfahren zur Roentgenmaskenherstellung
Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1983Application of novolack resist systems in x-ray mask fabrication
Pongratz, S.; Betz, H.; Heuberger, A.
Konferenzbeitrag
1983Properties of crosslinked positiv-acting X-ray, resists, fabricated on the basis of poly
Asmussen, F.; Betz, H.; Chen, B.T.; Heuberger, A.; Pongratz, S.; Sotobayashi, H.; Schnabel, W.
Zeitschriftenaufsatz
1982Production of separation nozzle systems for Uranium enrichment by a combination of X-ray lithographie and galvanoplastics
Becker, E.W.; Betz, H.; Ehrfeld, W.; Glashauser, W.; Heuberger, A.; Michel, H.J.; Muenchmeyer, D.; Pongratz, S.; Siemens, R.v.
Zeitschriftenaufsatz
1981Computer simulations of resit profiles in X-ray-lithographie.
Heinrich, K.; Betz, H.; Heuberger, A.; Pongratz, S.
Zeitschriftenaufsatz