Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2017Electrical behaviour of carbon nanotubes under low-energy proton irradiation
Abbe, Elisabeth; Schüler, Tilman; Klosz, Stefan; Starruß, Elisa; Pilz, Wolfgang; Böttger, Roman; Kluge, Oliver; Schmiel, Tino; Tajmar, Martin
Zeitschriftenaufsatz
2011Characterization of CMOS programmable multi-beam blanking arrays as used for programmable multi-beam projection lithography and resistless nanopatterning
Eder Kapl, S.; Loeschner, H.; Piller, W.; Witt, M.; Pilz, W.; Letzkus, F.; Jurisch, M.; Irmscher, M.; Platzgummer, E.
Zeitschriftenaufsatz
2009Charged particle multi-beam lithography evaluations for sub-16nm hp mask node fabrication and wafer direct write
Platzgummer, E.; Klein, C.; Joechl, P.; Loeschner, H.; Witt, M.; Pilz, W.; Butschke, J.; Jurisch, M.; Letzkus, F.; Sailer, H.; Irmscher, M.
Konferenzbeitrag
2009High-frequency gratings for applications to microoptical ellipsometer/polarimeter systems
Dias, D.; Stankovic, S.; Hain, M.; Tschudi, T.; Rauch, T.; Drews, D.; Abraham, M.; Pilz, W.; Steingrüber, R.
Zeitschriftenaufsatz
2009PML2: The maskless multibeam solution for the 22nm node and beyond
Klein, C.; Platzgummer, E.; Klikovits, J.; Piller, W.; Loeschner, H.; Bejdak, T.; Dolezel, P.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.; Jaschinsky, P.; Thrum, F.; Hohle, C.; Kretz, J.; Nogatch, J.T.; Zepka, A.
Konferenzbeitrag
2008MAGIC: A european program to push the insertion of maskless lithography
Pain, L.; Icard, B.; Tedesco, S.; Kampherbeck, B.; Gross, G.; Klein, C.; Loeschner, H.; Platzgummer, E.; Morgan, R.; Manakli, S.; Kretz, J.; Holhe, C.; Choi, K.-H.; Thrum, F.; Kassel, E.; Pilz, W.; Keil, K.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Letzkus, F.; Hudek, P.; Paraskevopoulos, A.; Ramm, P.; Weber, J.
Konferenzbeitrag
2008Projection maskless lithography (PML2)
Klein, C.; Platzgummer, E.; Loeschner, H.; Gross, G.; Dolezel, P.; Tmej, M.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.
Konferenzbeitrag
2007Impact of Si DRIE on vibratory MEMS gyroscope performance
Merz, P.; Pilz, W.; Senger, F.; Reimer, K.; Grouchko, M.; Pandhumpsoporn, T.; Bosch, W.; Cofer, A.; Lassig, S.
Konferenzbeitrag
2001Micro-optical elements fabricated by electron-beam lithography and dry etching technique using top conductive coatings
Steingrüber, R.; Ferstl, M.; Pilz, W.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2001Vorrichtung zur Oberflaechenbearbeitung wenigstens eines flaechig ausgebildeten Substrates
Janes, J.; Huth, C.; Pilz, W.
Patent
1997Erzeugung von Mikrorelief-Oberflächen mit Grauton-Lithographie
Wagner, B.; Reimer, K.; Hofmann, U.; Quenzer, H.J.; Jürss, M.; Pilz, W.
Konferenzbeitrag
1997Fabrication of microrelief surfaces using a one-step lithography process
Reimer, K.; Hofmann, U.; Jürss, M.; Pilz, W.; Quenzer, H.J.; Wagner, B.
Konferenzbeitrag
1997Influence of deposition and etching on high aspect ratio patterning
Hoffmann, P.; Pilz, W.; Janes, J.; Huth, C.; Börnig, K.; Peters, S.
Konferenzbeitrag
1996One-level gray-tone design. Mask data preparation and pattern transfer
Reimer, K.; Henke, W.; Quenzer, H.J.; Pilz, W.; Wagner, B.
Konferenzbeitrag
1995Fabrication of relief-topographic surfaces with one-step UV-lithographic
Quenzer, H.J.; Henke, W.; Hoppe, W.; Pilz, W.; Reimer, K.; Wagner, B.
Zeitschriftenaufsatz
1995Microfabrication of complex surface topographies using gray-tone lithography
Wagner, B.; Quenzer, H.J.; Henke, W.; Hoppe, W.; Pilz, W.
Zeitschriftenaufsatz
1993Effect of ion angular distribution on microloading in oxygen reactive ion etching of submicrometer polymer trenches
Janes, J.; Pilz, W.
Zeitschriftenaufsatz
1993Sub-mym HTSL-Strukturierung mit additiven und subtraktiven Methoden
Grändorff, K.; Gulde, P.; Janes, J.; Marschner, M.; Pilz, W.
Aufsatz in Buch
1992How to etch the optimal silicon trench - profile development and process discussion
Pilz, W.; Grandorff, K.; Pelka, J.; Janes, J.
Konferenzbeitrag
1992Novel surface imaging process with ion-beam lithography and dry development
Jadghold, U.A.; Buchmann, L.-M.; Pilz, W.; Torkler, M.
Konferenzbeitrag
1992Patterning of thin HTSC films - evaluation of lithography and dry etching
Pilz, W.; Grändorff, K.; Stoll, H.-P.; Janes, J.
Konferenzbeitrag
1991High resolution patterning of thin HTSC films - evaluation of lithography and dry etching
Pilz, W.
Konferenzbeitrag
1991Oxygen reactive ion etching of polymers-profile evolution and process mechanisms
Janes, J.; Pelka, J.; Pilz, W.
Konferenzbeitrag
1990Advanced 200 nm gate profile fabrication with reactive ion etching
Pilz, W.; Belle, G.; Franosch, M.; Hübner, H.-P.
Konferenzbeitrag
1990Profile evolution in the multilevel technique
Pilz, W.; Pelka, J.
Konferenzbeitrag
1989Parametric studies of SF6 silicon etching in a 200 mm RIE system
Hoffmann, P.; Heinrich, F.; Pilz, W.
Konferenzbeitrag
1988High resolution plasma etching with the advanced 200 mm single-wafer multi-chamber equipment MPE 3003
Pilz, W.; Scheer, H.-C.; Hussla, I.; Banks, P.
Konferenzbeitrag
1988Performance of an 8" RIE etching system - the effect of cathode cover mateials
Hoffmann, P.; Heinrich, F.; Pilz, W.; Scheer, H.-C.; Hussla, I.; Cairns, J.; Banks, P.; Angus, R.
Konferenzbeitrag
1986Critical dimension control in x-ray masks with electroplated gold absorbers
Windbracke, W.; Betz, H.; Huber, H.-L.; Pilz, W.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1985SIMS and AES investigations of contamination effects by RIE of PIQ layers
Rangelow, J.W.; Masseli, K.; Niewoehner, L.; Kassing, R.; Pilz, W.
Zeitschriftenaufsatz
1985Submicron patterns formed by reactive ion etching
Pilz, W.; Sponholz, T.; Pongratz, S.; Mader, H.
Zeitschriftenaufsatz