Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2020Mask absorber for next generation EUV lithography
Wu, M.; Thakare, D.; Marneffe, J.-F. de; Jaenen, P.; Souriau, L.; Opsomer, K.; Soulié, J.-P.; Erdmann, A.; Mesilhy, H.; Naujok, P.; Foltin, M.; Soltwisch, V.; Saadeh, Q.; Philipsen, V.
Konferenzbeitrag
2019Mask absorber development to enable next-generation EUVL
Philipsen, V.; Luong, K.V.; Opsomer, K.; Souriau, L.; Rip, J.; Detavernier, C.; Erdmann, A.; Evanschitzky, P.; Laubis, C.; Honicke, P.; Soltwisch, V.; Hendrickx, E.
Konferenzbeitrag
2018Novel EUV mask absorber evaluation in support of next-generation EUV imaging
Philipsen, V.; Luong, K.V.; Opsomer, K.; Detavernier, C.; Hendrickx, E.; Erdmann, A.; Evanschitzky, P.; Kruijs, R.W.E. van de; Heidarnia-Fathabad, Z.; Scholze, F.; Laubis, C.
Konferenzbeitrag