Fraunhofer-Gesellschaft

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2009Plasma technology for decontamination of surfaces
Muranyi, P.; Wunderlich, J.; Franken, O.; Neff, W.
Poster
2008Extreme ultraviolet plasma source for future lithography
Wagenaars, E.; Mader, A.; Bergmann, K.; Jonkers, J.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
2008Power scaling of an extreme ultraviolet light source for future lithography
Wagenaars, E.; Küpper, F.; Klein, J.; Neff, W.; Damen, M.; Wel, P. van der; Vaudrevange, D.; Jonkers, J.
Zeitschriftenaufsatz
2008Sn DPP source-collector modules. Status of alpha resources, beta developments, and the scalability to HVM
Corthout, M.; Apetz, R.; Brudermann, J.; Damen, M.; Derra, G.; Franken, O.; Jonkers, J.; Klein, J.; Küpper, F.; Mader, A.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
2007Gasentladungsquelle, insbesondere fuer EUV-Strahlung
Neff, W.
Patent
2007Status report on EUV source development and EUV source applications in EUVL
Bakshi, V.; Lebert, R.; Jägle, B.; Wies, C.; Stamm, U.; Kleinschmidt, J.; Schriever, G.; Ziener, C.; Corthout, M.; Pankert, J.; Bergmann, K.; Neff, W.; Egbert, A.; Gustafson, D.
Konferenzbeitrag
2007Vorrichtung und Verfahren fuer die XUV-Mikroskopie
Juschkin, L.; Bergmann, K.; Neff, W.
Patent
2006EUV aources for the alpha-tools
Pankert, J.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Damen, M.; Derra, G.; Franken, O.; Janssen, M.; Jonkers, J.; Klein, J.; Kraus, H.; Krücken, T.; List, A.; Loeken, M.; Mader, A.; Metzmacher, C.; Neff, W.; Probst, S.; Prümmer, R.; Rosier, O.; Schwabe, S.; Seiwert, S.; Siemons, G.; Vaudrevange, D.; Wagemann, D.; Weber, A.; Zink, P.; Zitzen, O.
Konferenzbeitrag
2006Gasentladungsquelle, insbesondere fuer EUV-Strahlung
Neff, W.; Pruemmer, R.
Patent
2006Ladevorrichtung fuer einen Ladekondensator, insbesondere zur Speisung von Entladungslampen
Klein, J.; Seiwert, S.; Probst, S.; Loef, C.; Neff, W.
Patent
2006Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer elektrischen Entladevorrichtung
Loeken, M.; Neff, W.; Klein, J.; Probst, S.
Patent
2006Vorrichtung und Verfahren zum Schutz einer optischen Komponente, insbesondere in einer EUV-Quelle
Neff, W.; Loeken, M.
Patent
2005Gasentladungslampe fuer EUV-Strahlung
Neff, W.; Bergmann, K.; Jonkers, J.; Pankert, J.; Derra, G.
Patent
2005Integrating Philips' extreme UV source in the alpha-tools
Pankert, J.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Derra, G.; Janssen, M.; Jonkers, J.; Klein, J.; Krücken, T.; List, A.; Loeken, M.; Neff, W.; Probst, S.; Prummer, R.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Siemons, G.; Vaudrevange, D.; Wagemann, D.; Weber, A.; Zink, P.; Zitzen, O.
Konferenzbeitrag
2005Multilayer optics development of EUV microscopy
Braun, S.; Foltyn, T.; Loyen, L. van; Leson, A.; Walter, K.; Bergmann, K.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
2005Progress on EUV-source development, tool integration and applications
Lebert, R.; Jaegle, B.; Wies, C.; Stamm, U.; Kleinschmidt, J.; Gaebel, K.; Schriever, G.; Pankert, J.; Bergmann, K.; Neff, W.; Egbert, A.
Konferenzbeitrag
2005Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem- Ultraviolettstrahlung oder weicher Roentgenstrahlung
Jonkers, J.; Vaudrevange, D.M.; Neff, W.
Patent
2005Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von insbesondere EUV-Strahlung und/oder weicher Roentgenstrahlung
Derra, G.H.; Apetz, R.T.; Zink, P.; Neff, W.; Rosier, O.
Patent
2005Vorrichtung zur Erzeugung von EUV- und weicher Roentgenstrahlung
Bergmann, K.; Neff, W.
Patent
2004Compact laboratory EUV-lamps: "In-house beamlines" for technologies based on extreme ultraviolet radiation
Lebert, R.; Jägle, B.; Juschkin, L.; Wies, C.; Neff, W.; Barthel, J.; Walter, K.; Bergmann, K.; Schürmann, M.C.; Mißalla, T.
Aufsatz in Buch
2004Decontamination of polymer foils with a combined UV-plasma source at atmospheric pressure
Heise, M.; Franken, O.; Neff, W.; Wunderlich, J.; Muranyi, P.
Konferenzbeitrag
2004Design and development of an optical system for EUV-microscopy
Foltyn, T.; Braun, S.; Gawlitza, P.; Leson, A.; Bergmann, K.; Neff, W.; Walter, K.
Konferenzbeitrag
2004Extreme ultraviolet radiation from pulsed discharges: A new access to "nanoscopy" and "nanolytics"
Lebert, R.; Wies, C.; Juschkin, L.; Jägle, B.; Neff, W.; Barthel, J.; Walter, K.; Bergmann, K.
Aufsatz in Buch
2004Frequency scaling in a hollow-cathode-triggered pinch plasma as radiation source in the extreme ultraviolet
Rosier, O.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Jonkers, J.; Wester, R.; Neff, W.; Pankert, J.
Zeitschriftenaufsatz
2004High-throughput EUV reflectometer for EUV mask blanks
Lebert, R.; Wies, C.; Juschkin, L.; Jägle, B.; Meisen, M.; Aschke, L.; Sobel, F.; Seitz, H.; Scholze, F.; Ulm, G.; Walter, K.; Neff, W.; Bergmann, K.; Biel, W.
Konferenzbeitrag
2004Single filament charge transfer and UV-emission properties of a cascaded dielectric barrier discharge (CDBD) set-up
Heise, M.; Lierfeld, T.; Franken, O.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
2004Status of EUV-lamp development and demonstration of applications
Lebert, R.; Wies, C.; Jägle, B.; Juschkin, L.; Bieberle, U.; Meisen, M.; Neff, W.; Bergmann, K.; Walter, K.; Rosier, O.; Schuermann, M.C.; Missalla, T.
Konferenzbeitrag
2004Status of Philips' extreme UV source
Pankert, J.; Bergmann, K.; Klein, J.; Neff, W.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Smith, C.; Probst, S.; Vaudrevange, D.; Siemons, G.; Apetz, R.; Jonkers, J.; Locken, M.; Derra, G.; Krücken, T.; Zink, P.
Konferenzbeitrag
2004Sterilization of polymer foils with dielectric barrier discharges at atmospheric pressure
Heise, M.; Neff, W.; Franken, O.; Muranyi, P.; Wunderlich, J.
Zeitschriftenaufsatz
2004Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Oberflaechen
Heise, M.; Pietsch, G.; Hulka, L.; Trompeter, F.; Neff, W.; Franken, O.; Saveliev, A.
Patent
2004Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas durch elektrische Entladung in einem Entladungsraum
Neff, W.; Jonkers, J.; Bosch, E.; Derra, G.
Patent
2004Vorrichtung zum Reinigen von Abgas
Pochner, K.; Neff, W.; Kamp, J.
Patent
2003Physical properties of the HCT EUV source
Pankert, J.; Bergmann, K.; Klein, J.; Neff, W.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Smith, C.; Probst, S.; Vaudrevange, D.; Siemons, G.; Apetz, R.; Jonkers, J.; Löken, M.; Bosch, E.; Derra, G.; Krucken, T.; Zink, P.
Konferenzbeitrag
2003VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR OBERFLAECHENBEHANDLUNG VON OBJEKTEN
Neff, W.; Trompeter, F.; Franken, O.; Pochner, K.
Patent
2003Vorrichtung zur Erzeugung einer Gasentladung mit schnellen Spannungsanstiegen und hohen Leistungsfluessen
Neff, W.; Klein, J.; Pochner, K.; Chen, P.
Patent
2003Vorrichtung zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett- und weicher Roentgenstrahlung aus einer Gasentladung
Neff, W.; Lebert, R.; Bergmann, K.
Patent
2002Application of stacked discharge setups at atmospheric pressure for packaging sterilisation
Heise, M.; Trompeter, F.-J.; Franken, O.; Lierfeld, T.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
2002Arc erosion characteristics of pseudospark discharge in multiaperture geometry
Naweed, A.; Kiefer, J.; Gavrilescu, C.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
2002Effiziente Entkeimung - Kalte Atmosphärendruckplasmen zur Entkeimung von Packstoffen
Heise, M.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
2002Einfluss von Zündung und Zylinderinnenströmung
Pischinger, S.; Geiger, J.; Neff, W.; Böwing, R.; Thiemann, J.; Koß, H.-J.
Zeitschriftenaufsatz
2002Reduction of Bacillus Subtilis and Aspergillus Niger spores using nonthermal atmospheric gas discharges
Trompeter, F.-J.; Neff, W.; Franken, O.; Heise, M.; Neiger, M.; Liu, S.; Pietsch, G.J.
Zeitschriftenaufsatz
2002Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Roentgenstrahlung
Klein, J.; Neff, W.; Seiwert, S.; Bergmann, K.
Patent
2002Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem- Ultraviolettstrahlung/weicher Roentgenstrahlung
Neff, W.; Bergmann, K.; Pankert, J.; Rosier, O.
Patent
2002Verwendung und Verfahren zur Behandlung von Oberflaechen mittels einer dielektrisch behinderten Entladungsvorrichtung, die Plasmateilchen und/oder UV-Strahlung erzeugt
Patz, U.; Scherer, M.; Neff, W.; Pochner, K.
Patent
2002Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolettstrahlung und weicher Roentgenstrahlung aus einer Gasentladung
Lebert, R.; Bergmann, K.; Schriever, G.; Neff, W.
Patent
2001Comparison of different source concepts for EUVL
Lebert, R.; Bergmann, K.; Juschkin, L.; Rosier, O.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
2001Kunststoffe mit UV-Strahlung vorbehandeln: Selektiv beschichten und die Haftfestigkeit verbessern
Wehner, M.; Pochner, K.; Beil, S.; Neff, W.J.
Zeitschriftenaufsatz
2001A multi-kilohertz pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography
Bergmann, K.; Rosier, O.; Lebert, R.; Neff, W.; Poprawe, R.
Zeitschriftenaufsatz
2001Pinch plasma radiation sources for the extreme ultraviolet
Neff, W.; Bergmann, K.; Rosier, O.; Lebert, R.; Juschkin, L.
Zeitschriftenaufsatz
2001Preliminary results from key experiments on sources for EUV lithography
Lebert, R.; Aschke, L.; Bergmann, K.; Dusterer, S.; Gabel, K.; Hoffmann, D.; Loosen, P.; Neff, W.; Nickles, P.; Rosier, O.; Poprawe, R.; Rudolph, D.; Sandner, W.; Sauerbrey, R.; Schmahl, G.; Schwoerer, H.; Stiehl, H.; Will, I.; Ziener, C.
Zeitschriftenaufsatz
2001Vorrichtung zur Nachbehandlung von Abgas durch Kombination von Gasentladung und Katalysator
Luetkemeyer, G.; Neff, W.; Pochner, K.; Lepperhoff, G.
Patent
2000Abgasreinigung von DI-Ottomotoren durch Barrierenentladung
Neff, W.; Trompeter, F.-J.; Pochner, K.; Pischinger, S.; Lepperhoff, G.; Baumgarten, H.; Scharr, D.
Aufsatz in Buch
2000Advanced photonics technologies for industrial applications
Loosen, P.; Poprawe, R.; Hoffmann, D.; Neff, W.; Lebert, R.; Schulz, W.
Konferenzbeitrag
2000Cold-Start Emission Reduction by Barrier Discharge
Lepperhoff, G.; Scharr, D.; Pischinger, S.; Neff, W.; Trompeter, F.-J.; Pochner, K.
Zeitschriftenaufsatz
2000Direkte Oberflaechenbehandlung mit Barrierenentladung
Neff, W.; Lebert, R.; Pochner, K.
Patent
2000Electrode phenomena and lifetime consideration in a radial multichannel pseudospark switch
Bergmann, K.; Müller, M.; Reichartz, D.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
2000Extreme ultraviolet light generation based on laser-produced plasmas (LPP) and gas-discharge-based pinch plasmas: A comparison of different concepts
Schriever, G.; Rahe, M.; Neff, W.; Bergmann, K.; Lebert, R.; Lauth, H.; Basting, D.
Konferenzbeitrag
2000Extreme-ultraviolet source development: a comparison of different concepts
Schriever, G.; Rahe, M.; Rebhan, M.; Basting, D.; Walecki, W.J.; Lauth, H.; Lebert, R.; Bergmann, K.; Hoffmann, D.; Rosier, O.; Neff, W.; Poprawe, R.; Sauerbrey, R.; Schroerer, H.; Düsterer, S.; Ziener, C.; Nickles, P.; Stiehl, H.; Will, I.; Sandner, W.; Schahl, G.; Rudolph, D.
Konferenzbeitrag
2000Pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography with a kilohertz repetition frequency
Bergmann, K.; Rosier, O.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
2000Untersuchung eines Plasmazündsystems für DI-Ottomotoren
Neff, W.; Böwing, R.; Wolters, P.; Geiger, J.
Aufsatz in Buch
2000Verfahren der Roentgenfluoreszenzmikroskopie
Neff, W.; Rothweiler, D.; Lebert, R.; Bergmann, K.; Boebel, F.G.; Hanke, R.F.
Patent
2000Verfahren zum schadstoffarmen Betreiben eines Verbrennungsmotors
Neff, W.; Luetkemeyer, G.; Pochner, K.; Lepperhoff, G.
Patent
2000Verfahren zur Erzeugung von Ultraviolettstrahlung
Lebert, R.; Neff, W.; Engel, A.; Bergmann, K.
Patent
2000Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung von stroemenden Gasen, insbesondere von Abgasen
Neff, W.; Trompeter, F.; Pochner, K.; Kamp, J.
Patent
1999Comparison of laser produced and gas discharge based EUV sources for different applications
Lebert, R.; Bergmann, K.; Schriever, G.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1999Exhaust emission reduction by combustion engines by barrier discharge
Lepperhoff, G.; Scharr, D.; Pischinger, S.; Neff, W.; Trompeter, F.-J.; Pochner, K.
Bericht
1999A gas discharged based radiation source for EUV-lithography
Lebert, R.; Bergmann, K.; Schriever, G.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1999Gasentladungsschalter
Lebert, R.; Bergmann, K.; Kiefer, J.; Neff, W.
Patent
1999Highly repetitive, extreme-ultraviolet radiation source based on a gas-discharge plasma
Bergmann, K.; Schriever, G.; Rosier, O.; Müller, M.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1999Lifetime and switching characteristics of a high-current multichannel pseudospark
Röhner, M.; Neff, W.; Naweed, A.; Kiefer, J.
Zeitschriftenaufsatz
1999Verfahren und Vorrichtung zur Abgasreinigung
Lepperhoff, G.; Neff, W.; Pochner, K.
Patent
1999Verfahren zur Behandlung von Fluessigkeiten
Pochner, K.; Neff, W.
Patent
1999Vorrichtung zum Schalten von elektrischen Stroemen hoher Stromstaerken
Neff, W.; Kiefer, J.; Lebert, R.; Bergmann, K.
Patent
1998Abgasnachbehandlung durch dielektrisch behinderte Entladung am Mager-Ottomotor
Hentschel, K.; Wolters, P.; Lepperhoff, G.; Neff, W.; Pochner, K.; Trompeter, F.-J.
Konferenzbeitrag
1998Anregen elektrischer Entladungen mit Kurzzeit-Spannungspulsen
Neff, W.; Pochner, K.
Patent
1998Electrode phenomena and current distribution in a radial multichannel pseudospark switch
Bergmann, K.; Kiefer, J.; Gavrilescu, C.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1998Lean-combustion spark-ignition engine exhaust aftertreatment using non thermal plasma
Lepperhoff, G.; Hentschel, K.; Wolters, P.; Neff, W.; Pochner, K.; Trompeter, F.-J.
Konferenzbeitrag
1998Plasmainduzierter Abbau von Stickoxiden und Kohlenwasserstoffen in Abgasen von Verbrennungsmotoren
Höschele, J.; Plog, C.; Hammer, T.; Kieser, J.; Lepperhoff, G.; Hentschel, K.; Neff, W.; Pochner, K.
Konferenzbeitrag
1998A radial multichannel pseudospark switch for high voltage and high current applications
Bergmann, K.; Müller, M.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1998Target fuer die Erzeugung gepulster Roentgen- und Extrem-UV-Strahlung (EUV), Verfahren zur Erzeugung eines solchen Targets sowie seine Verwendung
Lebert, R.; Neff, W.; Mager, S.; Schriever, G.
Patent
1998Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen oxidationsempfindlicher Loetverbindunden
Biesenbach, J.; Neff, W.; Pochner, K.; Strang, U.; Loosen, P.
Patent
1998Verfahren zur Anregung von Gasentladungen
Neff, W.; Pochner, K.; Klein, J.; Lebert, R.; Loosen, P.
Patent
1998Vorrichtung zur Nachbehandlung von Abgas durch Kombination von Gasentladung und Katalysator
Luetkemeyer, G.; Neff, W.; Pochner, K.; Lepperhoff, G.
Patent
1997Calibration of charge coupled devices and a pinhole transmission grating to be used as elements of a soft x-ray spectrograph
Schriever, G.; Lebert, R.; Naweed, A.; Mager, S.; Neff, W.; Kraft, S.; Scholze, F.; Ulm, G.
Zeitschriftenaufsatz
1997Compact plasma focus devices: Flexible laboratory sources for applications
Lebert, R.; Engel, A.; Bergmann, K.; Treichel, O.; Gavrilescu, C.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1997Influence of the transient plasma dynamics on the scaling of the K-shell line emission in pinch plasmas
Bergmann, K.; Lebert, R.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1997Interaction of plasma jets produced from pinch plasma with neutral atoms in order to achieve an effective charge exchange table top X-laser
Engel, A.; Lebert, R.; Koshelev, K.N.; Sidelnikov, Y.V.; Churilov, S.S.; Gavrilescu, C.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1997Scaling of the K-shell line emission in transient pinch plasmas
Bergmann, K.; Lebert, R.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
1997Spectroscopic investigation of highly transient pinch plasmas
Bergmann, K.; Rosmej, O.N.; Rosmej, F.B.; Engel, A.; Gavrilescu, C.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1997Transition from column to micropinch regime in z-pinches
Engel, A.; Lebert, R.; Koshelev, K.N.; Sidelnikov, Y.V.; Gavrilescu, C.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1997Triggering a radial multichannel pseudospark switch using electrons emitted from material with high dielectric constant
Bergmann, K.; Lebert, R.; Kiefer, J.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
1997Verfahren und Vorrichtung zum Schweissen von Werkstuecken mit Laserstrahlung
Neff, W.; Imhoff, R.
Patent
1997Verfahren und Vorrichtung zum Schweissen von Werkstuecken mit Laserstrahlung
Neff, W.
Patent
1997Verfahren zur Behandlung von Abgas
Neff, W.; Pochner, K.
Patent
1997Vorrichtung zum Anregen elektrischer Entladungen mittels getakteter Spannungsspitzen
Neff, W.; Pochner, K.
Patent
1996Performance of a laboratory X-ray microscope, using z-pinch-generated plasmas, for soft X-ray contact microscopy of living biological specimens
Ford, T.W.; Page, A.M.; Rondot, S.; Lebert, R.; Bergmann, K.; Neff, W.; Gavrilescu, C.; Stead, A.D.
Konferenzbeitrag
1996Pinch plasma source for X-ray microscopy with nanosecond exposure time
Lebert, R.; Neff, W.; Rothweiler, D.
Zeitschriftenaufsatz
1996Pinch plasmas as intensive EUV sources for laboratory applications
Lebert, R.; Rothweiler, D.; Engel, A.; Bergmann, K.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
1996Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Abgas
Neff, W.; Pochner, K.; Lebert, R.
Patent
1995Analysis of the Hollow Cathode Emitted Electron Beams in a Radial Multichannel Pseudospark
Kiefer, J.; Neff, W.; Lebert, R.; Naweed, A.
Zeitschriftenaufsatz
1995Atmospheric pressure gas discharges for surface treatment
Pochner, K.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1995Plasmabehandlung von Oberflächen bei Umgebungsdruck
Pochner, K.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
1995Requirements for simultaneous ignition of all channels in a high-current radial multichannel pseudopark switch
Naweed, A.; Kiefer, J.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1995Verfahren und Vorrichtung zum dosierten Zerstaeuben von Fluessigkeiten sowie deren Verwendung
Herziger, G.; Neff, W.; Rothweiler, D.; Lebert, R.
Patent
1994Criteria for maximizing the single-line emission of the pinch plasma in plasma focus devices
Lebert, R.; Bergmann, K.; Rothweiler, D.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1994Influence of device parameters of the number of N VII Lyman-Alpha photons emitted during one single pinch event
Rothweiler, D.; Hannawald, J.; Lebert, R.; Neff, W.; Tusche, A.
Konferenzbeitrag
1994Investigations on the transition between colomn and micropinch mode of plasma focus operation
Lebert, R.; Engel, A.; Gäbel, K.; Rothweiler, D.; Förster, E.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1994Laser and pinch plasma X-ray sources for microscopy and lithography
Neff, W.; Rothweiler, D.; Eidmann, K.; Lebert, R.; Richter, F.; Winhart, G.
Konferenzbeitrag
1994Verfahren und Vorrichtung zum Fuegen einer kontinuierlich gefoerderten stromleitenden Materialbahn
Herziger, G.; Neff, W.; Beyer, E.
Patent
1994Vorrichtung zum Erzeugen einer dielektrisch behinderten Entladung
Neff, W.; Pochner, K.
Patent
1992Investigation of pinch plasmas with plasma parameters promising ASE
Lebert, R.; Neff, W.; Rohe, T.; Rothweiler, D.; Seelig, W.; Herziger, G.
Konferenzbeitrag
1992A laboratory X-ray microscope with a plasma X-ray source
Schmahl, G.; Niemann, B.; Rudolph, D.; Diehl, M.; Thieme, J.; Neff, W.; Holz, R.; Herziger, G.; Richter, F.
Aufsatz in Buch
1992Pinch plasmas as intense X-ray sources for laboratory applications
Rothweiler, D.; Neff, W.; Lebert, R.; Richter, F.; Diehl, M.
Konferenzbeitrag
1991Soft-X-ray diagnostics of a nitrogen pinchplasma source for imaging X-ray microscopy
Holz, R.; Rothweiler, D.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1991Vorrichtung zum Schalten hoher elektrischer Stroeme bei hohen Spannungen
Herziger, G.; Neff, W.; Richter, F.; Lebert, R.
Patent
1991Vorrichtung zur Erzeugung von Roentgenstrahlung mit einer Plasmaquelle
Neff, W.; Holz, R.; Lebert, R.; Richter, F.
Patent
1990A plasma source for an imaging X-ray microscope
Holz, R.; Rothweiler, D.; Richter, F.; Neff, W.; Lebert, R.
Aufsatz in Buch
1990Röntgenmikroskopie - ein neues Fenster in den Mikrokosmos
Schmahl, G.; Rudolph, D.; Niemann, B.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
1990An x-ray microscope with a plasma x-ray source
Niemann, B.; Rudolph, D.; Schmahl, G.; Diehl, M.; Thieme, J.; Meyer-Ise, W.; Neff, W.; Holz, R.; Richter, F.; Herziger, G.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1989Investigation of soft x-ray emission from the plasma focus.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989Monochromatic x-ray emission of a fully ionized hydrogen plasma.
Neff, W.; Noll, R.; Haas, C.R.; Weikl, B.; Herziger, G.; Lebert, R.; Rühl, F.
Zeitschriftenaufsatz
1989Plasma focus as intense light source for soft x-ray microscopy.
Richter, F.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989The plasma focus as soft x-ray source for microscopy and lithography.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989Der Plasmafokus. Eine neue Röntgenquelle für die Röntgenmikroskopie und Röntgenlithographie
Eberle, J.; Holz, C.; Neff, W.; Richter, F.; Noll, R.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1989Repetitive plasma focus as radiation source for X-ray lithography.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989A source for soft x-ray imaging microscopy with nanosecond exposure time.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989Status of the plasma focus source for the laboratory type imaging microscope.
Neff, W.; Holz, R.; Richter, F.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1988A plasma focus as a radiation source for a laboratory x-ray microscope
Neff, W.; Eberle, J.; Holz, R.; Richter, F.; Lebert, R.
Aufsatz in Buch
1988Vorrichtung zur Erzeugung einer Plasmaquelle mit hoher Strahlungsintensitaet in Roentgenbereich.
Neff, W.; Herziger, G.
Patent
1985Plasma focus as a radiation source for X-ray lithography
Eberle, J.; Krompholz, H.; Lebert, R.; Neff, W.; Noll, R.
Zeitschriftenaufsatz