Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2020Mask absorber for next generation EUV lithography
Wu, M.; Thakare, D.; Marneffe, J.-F. de; Jaenen, P.; Souriau, L.; Opsomer, K.; Soulié, J.-P.; Erdmann, A.; Mesilhy, H.; Naujok, P.; Foltin, M.; Soltwisch, V.; Saadeh, Q.; Philipsen, V.
Konferenzbeitrag
2020Pathfinding the perfect EUV mask: The role of the multilayer
Mesilhy, H.; Evanschitzky, P.; Bottiglieri, G.; Setten, E. van; Fliervoet, T.; Erdmann, A.
Konferenzbeitrag
2020Perspectives and tradeoffs of absorber materials for high NA EUV lithography
Erdmann, A.; Mesilhy, H.; Evanschitzky, P.; Philipsen, V.; Timmermans, F.; Bauer, M.
Zeitschriftenaufsatz
2019Attenuated phase shift mask for extreme ultraviolet: Can they mitigate three-dimensional mask effects?
Erdmann, A.; Evanschitzky, P.; Mesilhy, H.; Philipsen, V.; Hendrickx, E.; Bauer, M.
Zeitschriftenaufsatz
2018Attenuated PSM for EUV
Erdmann, A.; Evanschitzky, P.; Mesilhy, H.; Philipsen, V.; Hendrickx, E.; Bauer, M.
Konferenzbeitrag