Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2017Odor-sensing system to support social participation of people suffering from incontinence
Ortiz Perez, Alvaro; Kallfaß-de Frenes, Vera; Filbert, Alexander; Kneer, Janosch; Bierer, Benedikt; Held, Pirmin; Klein, Philipp; Wöllenstein, Jürgen; Benyoucef, Dirk; Kallfaß, Sigrid; Mescheder, Ulrich; Palzer, Stefan
Zeitschriftenaufsatz
2008Sensorarray zur Luftqualitätsmessung
Wöllenstein, J.; Bauersfeld, M.-L.; Rademacher, S.; Kovacs, A.; Kritwattanakhorn, J.; Müller, B.; Mescheder, U.; Peter, A.
Konferenzbeitrag
2007MEMS-based air quality sensor
Mescheder, U.; Bauersfeld, M.-L.; Kovacs, A.; Kritwattanakhorn, J.; Müller, B.; Peter, A.; Ament, C.; Rademacher, S.; Wöllenstein, J.
Konferenzbeitrag
2007Modelbasierte Verfahren zur Bestimmung der Luftgüte
Peter, A.; Ament, C.; Bauersfeld, M.-L.; Rademacher, S.; Wöllenstein, J.; Kritwattanakhorn, J.; Kovacs, A.; Müller, B.; Mescheder, U.
Konferenzbeitrag
2007Optimization of platinum adhesion in electrochemical etching process for multi-sensor systems
Kritwattanakhorn, J.; Kovacs, A.; Mescheder, U.; Müller, B.; Bauersfeld, M.-L.; Rademacher, S.; Wöllenstein, J.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2007Sensor system for air quality measurement
Kovacs, A.; Müller, B.; Kritwattanakhorn, J.; Mescheder, U.; Peter, A.; Ament, C.; Wöllenstein, J.; Bauersfeld, M.-L.; Rademacher, S.
Konferenzbeitrag
2006Optimization of platinum adhesion in electrochemical etching process for multi-sensor systems
Kritwattanakhorn, J.; Kovacs, A.; Mescheder, U.; Müller, B.; Bauersfeld, M.-L.; Rademacher, S.; Wöllenstein, J.
Konferenzbeitrag
2005Sensorarray zur Luftqualitätsmessung
Ament, C.; Bauersfeld, M.-L.; Kovacs, A.; Kritwattanakhorn, J.; Mescheder, U.; Müller, B.; Peter, A.; Rademacher, S.; Wöllenstein, J.
Konferenzbeitrag
1991Characterization of silicon open stencil masks in an ion projection lithography machine
Mescheder, U.; Buchmann, L.-M.; Torkler, M.
Konferenzbeitrag
1990Influence of X-ray mask repair on pattern placement accuracy
Schaffer, H.; Weigmann, U.; Petzold, C.; Mescheder, U.
Konferenzbeitrag
1989State of the art of pattern placement accuracy of silicon X-ray master masks
Pongratz, S.; Mescheder, U.; Ehrlich, C.; Huber, H.-L.; Kohlmann, K.; Windbracke, W.
Konferenzbeitrag
1988Application of SiC-X-ray masks for fabrication submicron devices
Mackens, U.; Lüthje, H.; Mescheder, U.; Mund, F.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1988Subhalf micron critical dimension control in X-ray lithography mask technology
Mescheder, U.; Mund, F.; Trube, J.; Windbracke, W.; Huber, H.-L.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1987Linewidth metrology for X-rax masks with subhalfmicron feature size
Huber, H.-L.; Mescheder, U.; Mund, F.
Zeitschriftenaufsatz
1986Silicon x-ray masks - pattern placement and overlay accuracy
Betz, H.; Huber, H.-L.; Pongratz, S.; Rohrmoser, W.; Windbracke, W.; Mescheder, U.
Konferenzbeitrag