Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Uniformity and wavefront control of optical filters
Vergöhl, M.; Britze, C.; Bruns, S.; Pflug, A.; Zimara, J.; Schäfer, B.; Mann, K.; Kirschner, V.
Konferenzbeitrag
2018Development of a broadband dielectric beam splitter with reduced spectral wavefront error
Vergöhl, M.; Britze, C.; Bruns, S.; Ahrens, J.; Schäfer, B.; Mann, K.; Kirschner, V.
Konferenzbeitrag
2018Genome-wide association study identifies inversion in the CTRB1-CTRB2 locus to modify risk for alcoholic and non-alcoholic chronic pancreatitis
Kirsten, Holger; Rosendahl, Jonas; Seltsam, Katharina; Zimmer, Constantin; Beer, Sebastian; Masson, Emmanuelle; Chen, Jian-Min; Ruffert, Claudia; Lichtner, Peter K.; Laumen, Helmut; Weiss, Frank Ulrich; Kovacs, Peter; Hegyi, Eszter; Algül, Hana; Bühler, Florence; Bruno, Marco J.; Bugert, Peter; Burkhardt, R.; Cavestro, Giulia Martina; Cichoż-Lach, Halina; Farré, Antoni; Frank, Josef; Gambaro, Giovanni; Gimpfl, Sebastian; Grallert, Harald; Griesmann, Heidi; Grützmann, Robert; Hellerbrand, Claus; Hegyi, Péter P.; Hollenbach, Marcus; Iordache, Sevastitia; Jurkowska, Graźyna E.; Keim, Volker; Kiefer, Falk; Krug, Sebastian; Landt, Olfert; Leo, Milena Di; Lerch, Markus M.; Lévy, Philippe L.; Loeffler, Markus; Löhr, Matthias; Ludwig, Maren; Macek, Milan; Malats, Núria; Małecka-Panas, Ewa I.A.; Malerba, Giovanni; Mann, Karl H.; Mayerle, Julia V.; Mohr, Sonja; Te Morsche, René H.M.; Motyka, Marie; Mueller, Sebastian; Müller, Thomas F.; Nöthen, Markus M.; Pedrazzoli, Sergio; Pereira, Stephen P.; Pete
Zeitschriftenaufsatz
2018Spectrally resolved wavefront measurements on broad-band dielectric coatings
Mann, K.; Schäfer, B.; Zimara, J.; Vergöhl, M.; Britze, C.; Bruns, S.; Kirschner, V.
Konferenzbeitrag
2013Characterisation of EUV damage thresholds and imaging performance of Mo/Si multilayer mirrors
Müller, Matthias; Barkusky, Frank; Feigl, Torsten; Mann, Klaus
Konferenzbeitrag
2012EUV damage threshold measurements of Mo/Si multilayer mirrors
Müller, Matthias; Barkusky, Frank; Feigl, Torsten; Mann, Klaus
Zeitschriftenaufsatz
2005Compact source and beam delivery system for EUV radiation using a Schwarzschild objective
Mann, K.; Barkusky, F.; Bayer, A.; Peth, C.; Töttger, H.; Feigl, T.; Kaiser, N.
Konferenzbeitrag
2005Formation and direct writing of color centers in LiF using a laser-induced extreme ultraviolet plasma in combination with a Schwarzschild objective
Barkusky, F.; Peth, C.; Mann, K.; Feigl, T.; Kaiser, N.
Zeitschriftenaufsatz
2005Imaging properties of different optics for EUV radiation
Bayer, A.; Barkusky, F.; Peth, C.; Töttger, H.; Mann, K.; Feigl, T.; Kaiser, N.
Konferenzbeitrag
2001Absorption limited performance of SiO2/Al2O3 multi-layer coatings at 193nm - a systematic study
Thielsch, R.; Heber, J.; Kaiser, N.; Apel, O.; Mann, K.; Ristau, D.; Blaschke, H.; Arens, W.
Konferenzbeitrag
2000Nonlinear absorption phenomena in oxide coatings for 193 nm
Apel, O.; Mann, K.; Heber, J.; Thielsch, R.
Konferenzbeitrag
1999ArF radiation resistance of optical coatings on CaF2 in relation to the surface finish of the substrate
Thielsch, R.; Heber, J.; Duparre, A.; Kaiser, N.; Mann, K.R.; Eva, E.
Konferenzbeitrag
1999Charakterisierung optischer Komponenten für DUV Spektralbereich
Mann, K.; Apel, O.; Ristau, D.; Duparre, A.; Gliech, S.
Zeitschriftenaufsatz
1999Current status of radiation resistance of dielectric mirrors in the DUV
Bernitzki, H.; Lauth, H.; Thielsch, R.; Blaschke, H.; Kaiser, N.; Mann, K.R.
Konferenzbeitrag
1998Surface finish and optical quality of CaF2 for UV-lithography applications
Duparre, A.; Tielsch, R.; Kaiser, N.; Jakobs, S.; Mann, K.; Eva, E.
Konferenzbeitrag
1997Evaluation of camera data. Results of a round robin test
Habich, U.; Müntz, H.; Scholl, M.; Eppich, B.; Maestle, R.; Mann, K.; Ohlenbusch, J.; Dementjev, A.
Konferenzbeitrag
1996Antireflection coatings for ultraviolet radiation obtained by molecular beam deposition
Laux, S.; Mann, K.; Granitza, B.; Kaiser, U.; Richter, W.
Zeitschriftenaufsatz
1996Influence of the number of double layers on the damage threshold of Al2O3/SiO2 and LaF3/MgF2 mirrors at 248 nm
Kaiser, N.; Schallenberg, U.B.; Eva, E.; Mann, K.; Henking, R.; Ristau, D.
Konferenzbeitrag
1996Laser conditioning of LaF3/MgF2 dielectric coatings at 248 nm
Kaiser, N.; Eva, E.; Mann, K.; Henking, R.; Ristau, D.; Anton, B.; Weißbrodt, P.; Mademann, D.; Raupach, L.; Hacker, E.
Zeitschriftenaufsatz
1996UV damage threshold of molecular beam deposited fluoride coatings
Laux, S.; Mann, K.; Kaiser, U.; Granitza, B.; Roth, O.; Richter, W.
Konferenzbeitrag
1995High damage threshold Al2O3/SiO2 dielectric coatings for excimer lasers
Kaiser, N.; Schallenberg, U.; Uhlig, H.; Anton, B.; Kaiser, U.; Mann, K.; Eva, E.
Zeitschriftenaufsatz
1995Laser conditioning of LaF3/MgF2 dielectric coatings for excimer lasers
Kaiser, N.; Anton, B.; Jänchen, H.; Mann, K.; Eva, E.; Fischer, C.; Henking, R.; Ristau, D.; Weißbrodt, P.; Mademann, D.; Raupach, L.; Hacker, E.
Konferenzbeitrag
1994Very high damage threshold Al2O3/SiO2 dielectric coatings for excimer lasers
Kaiser, N.; Uhlig, H.; Schallenberg, U.B.; Anton, B.; Kaiser, U.; Mann, K.; Eva, E.
Konferenzbeitrag

 

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