Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2007Investigations on possibilities of inline inspection of high aspect ratio microstructures
Engelke, R.; Ahrens, G.; Arndt-Staufenbiehl, N.; Kopetz, S.; Wiesauer, K.; Löchel, B.; Schröder, H.; Kastner, J.; Neyer, A.; Stifter, D.; Grützner, G.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2000Verfahren und Vorrichtung zur Trocknung von Photoresistschichten
Loechel, B.; Maciossek, A.; Bleidiessel, G.; Wilbers, W.
Patent
1997Dependence of the quality of thick resist structures on resist baking
Bleidiessel, G.; Grützner, G.; Reuther, F.; Fehlberg, S.; Löchel, B.; Maciossek, A.
Konferenzbeitrag
1997Mikromechanische Bauteile hergestellt durch UV-Lithographie und Mikrogalvanik
Löchel, B.; John, L.-G.
Zeitschriftenaufsatz
1997A new generation of negative tone photoresists: ma-N 400
Grützner, G.; Fehlberg, S.; Voigt, A.; Löchel, B.; Rothe, M.
Zeitschriftenaufsatz
1996Advanced resist processing for thick photoresist applications
Cullmann, E.; Löchel, B.; Maciossek, A.; Rothe, M.
Zeitschriftenaufsatz
1996Application of optical lithography for high aspect ratio microstructures
Löchel, B.; Demmeler, R.; Rothe, M.; Brünger, W.; Grützner, G.; Fehlberg, S.
Zeitschriftenaufsatz
1996Electrodeposited magnetic alloys for surface micromachining 1
Löchel, B.; Maciossek, A.
Konferenzbeitrag
1996Electrodeposited magnetic alloys for surface micromachining 2
Löchel, B.; Maciossek, A.
Zeitschriftenaufsatz
1996Influence of resist baking on the pattern quality of thick photoresist
Löchel, B.; Rothe, M.; Grützner, G.; Fehlberg, S.; Beidießel, G.
Konferenzbeitrag
1996Micro coils fabricated by UV depth lithography and galvanoplating
Löchel, B.; Maciossek, A.; Rothe, M.; Windbracke, W.
Zeitschriftenaufsatz
1996Optical DUV-lithography for high microstructures 2
Heuberger, A.; Löchel, B.
Zeitschriftenaufsatz
1996UV supported 3D microforming
Löchel, B.
Zeitschriftenaufsatz
1996UV-depth lithography and galvanoforming for micro machining
Löchel, B.; Maciossek, A.; Wagner, B.; Quenzer, H.J.
Zeitschriftenaufsatz
1996Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Bauteils oder einer Bauteilgruppe
Rothe, M.; Maciossek, A.; Loechel, B.
Patent
19953D structures for microsystem technology using advanced proximity lithography
Cullmann, E.; Löchel, B.; Engelmann, G.; Reyerse, C.
Zeitschriftenaufsatz
1995Application of ultraviolet depth lithography for surface micromachining
Löchel, B.; Maciossek, A.; Rothe, M.
Konferenzbeitrag
1995Fabrication of 100 nm polysiliconemitter transitors using e-beam lithography
Webster, M.N.; Tuinhout, A.; Verbruggen, A.H.; Romijn, J.; Radelaar, S.; Löchel, B.; Jos, H.F.F.; Moors, P.M.A.
Zeitschriftenaufsatz
1995Galvanoplating and sacrificial layers for surface micromachining
Maciossek, A.; Löchel, B.; Wagner, B.; Schulze, W.; Noetzel, J.; Quenzer, H.J.
Konferenzbeitrag
1995Optical DUV-lithography for high microstructures
Heuberger, A.; Löchel, B.
Konferenzbeitrag
1995Surface micro components fabricated by UV depth lithography and electroplating
Löchel, B.; Maciossek, A.
Konferenzbeitrag
1995Surface micromachining
Löchel, B.
Zeitschriftenaufsatz
1995Surface micromachining on silicon with thick layers
Heuberger, A.; Löchel, B.
Konferenzbeitrag
1995UV-depth lithography and galvanoforming for micro machining
Löchel, B.; Maciossek, A.; Wagner, B.; Quenzer, H.J.
Konferenzbeitrag
1994Electroplated electromagnetic components for actuators
Löchel, B.; Maciossek, A.; König, M.; Wagner, B.; Quenzer, H.J.
Konferenzbeitrag
1994Galvanoplated 3D coils for micro systems
Löchel, B.; Macioßek, A.; König, M.; Quenzer, H.J.; Huber, H.-L.
Zeitschriftenaufsatz
1994Galvanoplated 3D structures for micro systems
Löchel, B.; Maciossek, A.; König, M.; Quenzer, H.J.; Huber, H.-L.
Konferenzbeitrag
1994Magnetically driven microstructures fabricated with multilayer electroplating
Löchel, B.; Maciossek, A.; Wagner, B.; Engelmann, G.; Quenzer, H.J.
Konferenzbeitrag
1994Manufacture of 3D structures for micro systems with advanced shadow casting lithography
Cullmann, E.; Löchel, B.; Engelmann, G.
Konferenzbeitrag
1994Metallization of submicron microwave bipolar transistors by electroplating
Webster, M.N.; Tuinhout, A.; Verbruggen, A.H.; Romijn, J.; Drift, E. van der; Löchel, B.; Jos, H.F.F.; Moors, P.M.A.
Zeitschriftenaufsatz
1994Vorrichtung und Verfahren zur Vervielfaeltigung von Roentgenmasken
Grimm, J.; Chlebek, J.; Loechel, B.; Engler, K.D.
Patent
1993Diamond membrane with controlled stress for submicron lithography
Schäfer, L.; Bluhm, A.; Klages, C.-P.; Löchel, B.; Buchmann, L.-M.; Huber, H.-L.
Zeitschriftenaufsatz
1993Diamond membranes with controlled stress for submicron lithography
Bluhm, A.; Löchel, B.; Buchmann, L.-M.; Huber, H.-L.; Klages, C.-P.; Schäfer, L.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
1993Fabrication of magnetic microstructures by using thick layer resists
Löchel, B.; Maciossek, A.; König, M.; Huber, H.-L.; Bauer, G.
Konferenzbeitrag
1993Galvanoplated 3D structures for micro systems
Löchel, B.
Konferenzbeitrag
1992Diamond membrane based X-ray masks
Löchel, B.; Huber, H.-L.; Klages, C.-P.; Schäfer, L.; Bluhm, A.
Konferenzbeitrag
1992Diamond membranes for X-ray masks
Löchel, B.; Schliwinski, H.-J.; Huber, H.-L.; Trube, J.; Klages, C.-P.; Lüthje, H.; Schäfer, L.
Konferenzbeitrag
1991NH4OH-based etchants for silicon micromachining. Influence of additives and stability of passivation layers
Schnakenberg, U.; Benecke, W.; Löchel, B.; Ullerich, S.; Lange, P.
Konferenzbeitrag
1991Thickness inhomogeneity during silicon X-ray mask membrane fabrication: generation and prevention
Löchel, B.; Macioßek, A.; Huber, H.-L.; König, M.
Konferenzbeitrag
1990NH4OH-based etchants for silicon micromachining
Schnakenberg, U.; Löchel, B.; Benecke, W.
Zeitschriftenaufsatz
1990Silicon membrane mask blanks for X-ray and ion projection lithography
Löchel, B.; Chlebek, J.; Huber, H.-L.; Macioßek, A.; Grimm, J.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
1990Ultraduenne Membrane mit Stuetzrand
Loechel, B.; Huber, H.L.; Werner, E.; Derkow, H.
Patent
1990Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dichte von Mikroporen in Isolatorschichten auf leitenden oder halbleitenden Substraten
Grimm, J.; Loechel, B.; Chlebek, J.; Huber, H.L.
Patent
1989Anisotropes Aetzverfahren mit elektrochemischem Aetzstop
Benecke, W.; Loechel, B.; Schnakenberg, U.
Patent
1989Application of pulse plating to form lead absorber patterns for x-ray masks
Löchel, B.; Trube, J.; Windbracke, W.; Huber, H.-L.
Zeitschriftenaufsatz
1987Application of lead electroplating for X-ray absorber patterning
Trube, J.; Huber, H.-L.; Löchel, B.; Windbracke, W.
Zeitschriftenaufsatz