Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2018Porosity of LMD manufactured parts analyzed by Archmimedes method and CT
Marko, Angelina; Raute, Julius; Linaschke, Dorit; Graf, Benjamin; Rethmeier, Michael
Zeitschriftenaufsatz
2015Laserdotieren als mögliche Alternative zur Ionenimplantation zur Erzeugung definierter Dotierprofile
Schilling, Niels; Linaschke, Dorit; Dani, Ines
Konferenzbeitrag
2014Development of silicon heterojunction metal wrap through solar cells
Dirnstorfer, Ingo; Schilling, Niels; Körner, Stefan; Gierth, Paul; Sontag, Detlef; Jordan, Paul M.; Simon, Daniel K.; Fengler, Franz P.G.; Mikolajick, Thomas; Linaschke, Dorit; Dani, Ines; Marcinkowski, Manja; Eberstein, Markus; Rebenklau, Lars; Partsch, Uwe
Konferenzbeitrag
2014Highly n-doped surfaces on n-type silicon wafers by laser-chemical processes
Linaschke, Dorit; Schilling, Niels; Dani, Ines; Klotzbach, Udo; Leyens, Christoph
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2011Plasmachemisches Ätzen und Beschichten bei Atmosphärendruck: Anwendungen in der kristallinen Siliziumphotovoltaik
Lopez, E.; Linaschke, D.; Dresler, B.; Dani, I.; Leyens, C.; Beyer, E.
Zeitschriftenaufsatz
2010Großflächiges plasmachemisches Ätzen bei Atmosphärendruck
Dani, I.; Lopez, E.; Linaschke, D.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Konferenzbeitrag
2009Atmospheric pressure plasma processes for crystalline silicon wafer production
Dani, I.; Lopez, E.; Dresler, B.; Linaschke, D.; Leistner, M.; Grählert, W.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Aufsatz in Buch
2009Atmospheric-Pressure Plasmas for Solar Cell Manufacturing
Dani, I.; Mäder, G.; Grabau, P.; Dresler, B.; Linaschke, D.; Lopez, E.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Zeitschriftenaufsatz
2009In-line plasma-chemical etching of crystalline silicon solar wafers at atmospheric pressure
Linaschke, D.; Leistner, M.; Grabau, P.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Zeitschriftenaufsatz
2009Trockenätzen von Solarwafern mit Oberflächenstrukturen im sub-Mikrometer Bereich
Dani, I.; Lopez, E.; Linaschke, D.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Konferenzbeitrag
2008In-line plasma-chemical etching of crystalline silicon wafers
Linaschke, D.; Leistner, M.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.
Zeitschriftenaufsatz
2008Plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for crystalline silicon wafer processing and process control by in-line FTIR gas spectroscopy
Linaschke, D.; Leistner, M.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.; Lopez, E.; Hopfe, V.; Kirschmann, M.; Frenck, J.
Konferenzbeitrag
2007Dauerhaft schön - Kratzschutz durch Atmosphärendruck-Plasmaverfahren
Dani, I.; Kotte, L.; Tschoecke, S.; Linaschke, D.; Rogler, D.; Hopfe, V.
Zeitschriftenaufsatz
2006Atmosphärendruck-PECVD-Prozesse zur Abscheidung kohlenstoffbasierter Schichten
Dani, I.; Linaschke, D.; Hopfe, V.
Konferenzbeitrag
2006Development of ceramic dental crowns and bridges using electrophoretic deposition
Moritz, T.; Linaschke, D.; Eiselt, W.
Konferenzbeitrag
2006Transparente Kratzschutzschichten mittels Plasma-CVD bei Atmosphärendruck
Dani, I.; Hopfe, V.; Kotte, L.; Linaschke, D.; Rogler, D.; Tschöcke, S.
Zeitschriftenaufsatz