Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2017Optimized phase-shifting masks for high-resolution resist patterning by interference lithography
Brose, S.; Danylyuk, S.; Bahrenberg, L.; Lebert, R.; Loosen, P.; Juschkin, L.
Konferenzbeitrag
2015Analysis of distinct scattering of extreme ultraviolet phase and amplitude multilayer defects with an actinic dark-field microscope
Bahrenberg, L.; Herbert, S.; Tempeler, J.; Maryasov, A.; Hofmann, O.; Danylyuk, S.; Lebert, R.; Loosen, P.; Juschkin, L.
Konferenzbeitrag
2015Multi-angle spectroscopic extreme ultraviolet reflectometry for analysis of thin films and interfaces
Danylyuk, S.; Herbert, S.; Loosen, P.; Lebert, R.; Schäfer, A.; Schubert, J.; Tryus, M.; Juschkin, L.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2015Table-Top EUV and Soft X-Ray Microscopy
Herbert, S.; Bahrenberg, L.; Maryasov, A.; Danylyuk, S.; Loosen, P.; Juschkin, L.; Bergmann, K.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
2011Actinic EUV-mask metrology: Tools, concepts, components
Lebert, R.; Farahzadi, A.; Diete, W.; Schäfer, D.; Phiesel, C.; Wilhein, T.; Herbert, S.; Maryasov, A.; Juschkin, L.; Esser, D.; Hoefer, M.; Hoffmann, D.
Konferenzbeitrag
2011EUV actinic mask blank defect inspection: Results and status of concept realization
Maryasov, A.; Herbert, S.; Juschkin, L.; Lebert, R.; Bergmann, K.
Konferenzbeitrag
2011EUV dark-field microscopy for defect inspection
Juschkin, L.; Maryasov, A.; Herbert, S.; Aretz, A.; Bergmann, K.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
2010Contributions to EUV mask metrology infrastructure
Farahzadi, A.; Lebert, R.; Benk, M.; Juschkin, L.; Herbert, S.; Maryasov, A.
Konferenzbeitrag
2010Defect inspection with an EUV microscope
Herbert, S.; Maryasov, A.; Juschkin, L.; Lebert, R.; Bergmann, K.
Konferenzbeitrag
2007Status report on EUV source development and EUV source applications in EUVL
Bakshi, V.; Lebert, R.; Jägle, B.; Wies, C.; Stamm, U.; Kleinschmidt, J.; Schriever, G.; Ziener, C.; Corthout, M.; Pankert, J.; Bergmann, K.; Neff, W.; Egbert, A.; Gustafson, D.
Konferenzbeitrag
2005Progress on EUV-source development, tool integration and applications
Lebert, R.; Jaegle, B.; Wies, C.; Stamm, U.; Kleinschmidt, J.; Gaebel, K.; Schriever, G.; Pankert, J.; Bergmann, K.; Neff, W.; Egbert, A.
Konferenzbeitrag
2004Compact laboratory EUV-lamps: "In-house beamlines" for technologies based on extreme ultraviolet radiation
Lebert, R.; Jägle, B.; Juschkin, L.; Wies, C.; Neff, W.; Barthel, J.; Walter, K.; Bergmann, K.; Schürmann, M.C.; Mißalla, T.
Aufsatz in Buch
2004Extreme ultraviolet radiation from pulsed discharges: A new access to "nanoscopy" and "nanolytics"
Lebert, R.; Wies, C.; Juschkin, L.; Jägle, B.; Neff, W.; Barthel, J.; Walter, K.; Bergmann, K.
Aufsatz in Buch
2004Fundamentals and limits for the EUV emission of pinch plasma sources for EUV lithography
Krücken, T.; Bergmann, K.; Juschkin, L.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
2004High-throughput EUV reflectometer for EUV mask blanks
Lebert, R.; Wies, C.; Juschkin, L.; Jägle, B.; Meisen, M.; Aschke, L.; Sobel, F.; Seitz, H.; Scholze, F.; Ulm, G.; Walter, K.; Neff, W.; Bergmann, K.; Biel, W.
Konferenzbeitrag
2004Status of EUV-lamp development and demonstration of applications
Lebert, R.; Wies, C.; Jägle, B.; Juschkin, L.; Bieberle, U.; Meisen, M.; Neff, W.; Bergmann, K.; Walter, K.; Rosier, O.; Schuermann, M.C.; Missalla, T.
Konferenzbeitrag
2003Anordnung und Verfahren zur Reflektometrie
Lebert, R.; Schriever, G.; Bergmann, K.; Rosier, O.
Patent
2003Vorrichtung zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett- und weicher Roentgenstrahlung aus einer Gasentladung
Neff, W.; Lebert, R.; Bergmann, K.
Patent
2002Vorrichtung fuer die Roentgenradiografie mit relativ zu ihrer Partikelquelle bewegbarer Roentgenquelle und Verwendung derselben
Lebert, R.; Gaebel, K.
Patent
2002Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolettstrahlung und weicher Roentgenstrahlung aus einer Gasentladung
Lebert, R.; Bergmann, K.; Schriever, G.; Neff, W.
Patent
2001Comparison of different source concepts for EUVL
Lebert, R.; Bergmann, K.; Juschkin, L.; Rosier, O.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
2001A multi-kilohertz pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography
Bergmann, K.; Rosier, O.; Lebert, R.; Neff, W.; Poprawe, R.
Zeitschriftenaufsatz
2001Pinch plasma radiation sources for the extreme ultraviolet
Neff, W.; Bergmann, K.; Rosier, O.; Lebert, R.; Juschkin, L.
Zeitschriftenaufsatz
2001Preliminary results from key experiments on sources for EUV lithography
Lebert, R.; Aschke, L.; Bergmann, K.; Dusterer, S.; Gabel, K.; Hoffmann, D.; Loosen, P.; Neff, W.; Nickles, P.; Rosier, O.; Poprawe, R.; Rudolph, D.; Sandner, W.; Sauerbrey, R.; Schmahl, G.; Schwoerer, H.; Stiehl, H.; Will, I.; Ziener, C.
Zeitschriftenaufsatz
2000Advanced photonics technologies for industrial applications
Loosen, P.; Poprawe, R.; Hoffmann, D.; Neff, W.; Lebert, R.; Schulz, W.
Konferenzbeitrag
2000Direkte Oberflaechenbehandlung mit Barrierenentladung
Neff, W.; Lebert, R.; Pochner, K.
Patent
2000Electrode phenomena and lifetime consideration in a radial multichannel pseudospark switch
Bergmann, K.; Müller, M.; Reichartz, D.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
2000Extreme ultraviolet light generation based on laser-produced plasmas (LPP) and gas-discharge-based pinch plasmas: A comparison of different concepts
Schriever, G.; Rahe, M.; Neff, W.; Bergmann, K.; Lebert, R.; Lauth, H.; Basting, D.
Konferenzbeitrag
2000Extreme-ultraviolet source development: a comparison of different concepts
Schriever, G.; Rahe, M.; Rebhan, M.; Basting, D.; Walecki, W.J.; Lauth, H.; Lebert, R.; Bergmann, K.; Hoffmann, D.; Rosier, O.; Neff, W.; Poprawe, R.; Sauerbrey, R.; Schroerer, H.; Düsterer, S.; Ziener, C.; Nickles, P.; Stiehl, H.; Will, I.; Sandner, W.; Schahl, G.; Rudolph, D.
Konferenzbeitrag
2000KeV ion beam generation from Z-pinches produced in plasma focus like geometry
Engel, A.; Choi, P.; Koshelev, K.N.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
2000Pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography with a kilohertz repetition frequency
Bergmann, K.; Rosier, O.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
2000Verfahren der Roentgenfluoreszenzmikroskopie
Neff, W.; Rothweiler, D.; Lebert, R.; Bergmann, K.; Boebel, F.G.; Hanke, R.F.
Patent
2000Verfahren zur Erzeugung von Ultraviolettstrahlung
Lebert, R.; Neff, W.; Engel, A.; Bergmann, K.
Patent
1999Comparison of laser produced and gas discharge based EUV sources for different applications
Lebert, R.; Bergmann, K.; Schriever, G.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1999Extreme ultraviolet emission of laser-produced plasmas using a cryogenic xenon target
Schriever, G.; Bergmann, K.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1999A gas discharged based radiation source for EUV-lithography
Lebert, R.; Bergmann, K.; Schriever, G.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1999Gasentladungsschalter
Lebert, R.; Bergmann, K.; Kiefer, J.; Neff, W.
Patent
1999Highly repetitive, extreme-ultraviolet radiation source based on a gas-discharge plasma
Bergmann, K.; Schriever, G.; Rosier, O.; Müller, M.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1999Vorrichtung zum Schalten von elektrischen Stroemen hoher Stromstaerken
Neff, W.; Kiefer, J.; Lebert, R.; Bergmann, K.
Patent
1998Diode pumped Cr3+:LiCAF fs-laser
Gäbel, K.M.; Rußbüldt, P.; Lebert, R.; Valster, A.
Zeitschriftenaufsatz
1998Diode pumped, chirped mirror dispersion compensated, fs-laser
Gäbel, K.; Rußbüldt, P.; Lebert, R.; Loosen, P.; Poprawe, R.; Heyer, H.; Valster, A.
Zeitschriftenaufsatz
1998Electrode phenomena and current distribution in a radial multichannel pseudospark switch
Bergmann, K.; Kiefer, J.; Gavrilescu, C.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1998Gain at the end configuration of a diode-pumped, Kerr-lens mode-locked Cr:LiSGaF laser
Rußbüldt, P.; Gäbel, K.; Du, K.; Lebert, R.; Loosen, P.; Poprawe, R.; Valster, A.
Konferenzbeitrag
1998Laser-produced lithium plasma as a narrow-band extended ultraviolet radiation source for photoelectron spectroscopy
Schriever, G.; Mager, S.; Naweed, A.; Engel, A.; Bergmann, K.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1998Narrowband laser produced extreme ultraviolet sources adapted to silicon/molybdenum multilayer optics
Schriever, G.; Bergmann, K.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1998A radial multichannel pseudospark switch for high voltage and high current applications
Bergmann, K.; Müller, M.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1998Soft x-ray emission of laser-produced plasmas using a low-debris cryogenic nitrogen target
Lebert, R.; Schriever, G.; Wilhein, T.; Niemann, B.
Zeitschriftenaufsatz
1998Target fuer die Erzeugung gepulster Roentgen- und Extrem-UV-Strahlung (EUV), Verfahren zur Erzeugung eines solchen Targets sowie seine Verwendung
Lebert, R.; Neff, W.; Mager, S.; Schriever, G.
Patent
1998Verfahren zur Anregung von Gasentladungen
Neff, W.; Pochner, K.; Klein, J.; Lebert, R.; Loosen, P.
Patent
1997Calibration of charge coupled devices and a pinhole transmission grating to be used as elements of a soft x-ray spectrograph
Schriever, G.; Lebert, R.; Naweed, A.; Mager, S.; Neff, W.; Kraft, S.; Scholze, F.; Ulm, G.
Zeitschriftenaufsatz
1997Compact plasma focus devices: Flexible laboratory sources for applications
Lebert, R.; Engel, A.; Bergmann, K.; Treichel, O.; Gavrilescu, C.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1997Influence of the transient plasma dynamics on the scaling of the K-shell line emission in pinch plasmas
Bergmann, K.; Lebert, R.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1997Interaction of plasma jets produced from pinch plasma with neutral atoms in order to achieve an effective charge exchange table top X-laser
Engel, A.; Lebert, R.; Koshelev, K.N.; Sidelnikov, Y.V.; Churilov, S.S.; Gavrilescu, C.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1997Laser-plasma processes in laser-technology
Poprawe, R.; Beyer, E.; Loosen, P.; Wester, R.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1997New concepts for compact diode-pumped fs-lasers
Gäbel, K.; Rußbüldt, P.; Rotarius, G.; Bette, B.; Lebert, R.; Du, K.; Loosen, P.; Poprawe, R.; Valster, A.
Konferenzbeitrag
1997Scaling of the K-shell line emission in transient pinch plasmas
Bergmann, K.; Lebert, R.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
1997Spectroscopic investigation of highly transient pinch plasmas
Bergmann, K.; Rosmej, O.N.; Rosmej, F.B.; Engel, A.; Gavrilescu, C.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1997Transition from column to micropinch regime in z-pinches
Engel, A.; Lebert, R.; Koshelev, K.N.; Sidelnikov, Y.V.; Gavrilescu, C.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1997Triggering a radial multichannel pseudospark switch using electrons emitted from material with high dielectric constant
Bergmann, K.; Lebert, R.; Kiefer, J.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
1996Performance of a laboratory X-ray microscope, using z-pinch-generated plasmas, for soft X-ray contact microscopy of living biological specimens
Ford, T.W.; Page, A.M.; Rondot, S.; Lebert, R.; Bergmann, K.; Neff, W.; Gavrilescu, C.; Stead, A.D.
Konferenzbeitrag
1996Pinch plasma source for X-ray microscopy with nanosecond exposure time
Lebert, R.; Neff, W.; Rothweiler, D.
Zeitschriftenaufsatz
1996Pinch plasmas as intensive EUV sources for laboratory applications
Lebert, R.; Rothweiler, D.; Engel, A.; Bergmann, K.; Neff, W.
Zeitschriftenaufsatz
1996Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Abgas
Neff, W.; Pochner, K.; Lebert, R.
Patent
1995Analysis of the Hollow Cathode Emitted Electron Beams in a Radial Multichannel Pseudospark
Kiefer, J.; Neff, W.; Lebert, R.; Naweed, A.
Zeitschriftenaufsatz
1995Atmospheric pressure gas discharges for surface treatment
Pochner, K.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1995Investigations on the transition between column and micropinch mode of plasma focus operation
Lebert, R.; Engel, A.
Zeitschriftenaufsatz
1995Nicht-rotationssymmetrische Optiken. Herstellung und Anwendung in der Materialbearbeitung mit Laserstrahlung
Weck, M.; Henning, T.; Kreutz, E.W.; Lebert, R.; Özmeral, H.
Konferenzbeitrag
1995Requirements for simultaneous ignition of all channels in a high-current radial multichannel pseudopark switch
Naweed, A.; Kiefer, J.; Neff, W.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1995Verfahren und Vorrichtung zum dosierten Zerstaeuben von Fluessigkeiten sowie deren Verwendung
Herziger, G.; Neff, W.; Rothweiler, D.; Lebert, R.
Patent
1995Yield optimization of the Lyman-alpha emission in pinch plasmas
Bergmann, K.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1994Criteria for maximizing the single-line emission of the pinch plasma in plasma focus devices
Lebert, R.; Bergmann, K.; Rothweiler, D.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1994Influence of device parameters of the number of N VII Lyman-Alpha photons emitted during one single pinch event
Rothweiler, D.; Hannawald, J.; Lebert, R.; Neff, W.; Tusche, A.
Konferenzbeitrag
1994Investigations on the transition between colomn and micropinch mode of plasma focus operation
Lebert, R.; Engel, A.; Gäbel, K.; Rothweiler, D.; Förster, E.; Neff, W.
Konferenzbeitrag
1994Laser and pinch plasma X-ray sources for microscopy and lithography
Neff, W.; Rothweiler, D.; Eidmann, K.; Lebert, R.; Richter, F.; Winhart, G.
Konferenzbeitrag
1993Time evolution of the x-ray emission from a micropinch in a vacuum spark discharge
Hebach, M.; Engel, A.; Schulz, A.; Lebert, R.; Kunze, H.-J.
Zeitschriftenaufsatz
1992Investigation of pinch plasmas with plasma parameters promising ASE
Lebert, R.; Neff, W.; Rohe, T.; Rothweiler, D.; Seelig, W.; Herziger, G.
Konferenzbeitrag
1992Pinch plasmas as intense X-ray sources for laboratory applications
Rothweiler, D.; Neff, W.; Lebert, R.; Richter, F.; Diehl, M.
Konferenzbeitrag
1991Soft-X-ray diagnostics of a nitrogen pinchplasma source for imaging X-ray microscopy
Holz, R.; Rothweiler, D.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1991Vorrichtung zum Schalten hoher elektrischer Stroeme bei hohen Spannungen
Herziger, G.; Neff, W.; Richter, F.; Lebert, R.
Patent
1991Vorrichtung zur Erzeugung von Roentgenstrahlung mit einer Plasmaquelle
Neff, W.; Holz, R.; Lebert, R.; Richter, F.
Patent
1990A plasma source for an imaging X-ray microscope
Holz, R.; Rothweiler, D.; Richter, F.; Neff, W.; Lebert, R.
Aufsatz in Buch
1990An x-ray microscope with a plasma x-ray source
Niemann, B.; Rudolph, D.; Schmahl, G.; Diehl, M.; Thieme, J.; Meyer-Ise, W.; Neff, W.; Holz, R.; Richter, F.; Herziger, G.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1989Investigation of soft x-ray emission from the plasma focus.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989Monochromatic x-ray emission of a fully ionized hydrogen plasma.
Neff, W.; Noll, R.; Haas, C.R.; Weikl, B.; Herziger, G.; Lebert, R.; Rühl, F.
Zeitschriftenaufsatz
1989Plasma focus as intense light source for soft x-ray microscopy.
Richter, F.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989The plasma focus as soft x-ray source for microscopy and lithography.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989Der Plasmafokus. Eine neue Röntgenquelle für die Röntgenmikroskopie und Röntgenlithographie
Eberle, J.; Holz, C.; Neff, W.; Richter, F.; Noll, R.; Lebert, R.
Zeitschriftenaufsatz
1989Repetitive plasma focus as radiation source for X-ray lithography.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989A source for soft x-ray imaging microscopy with nanosecond exposure time.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989Status of the plasma focus source for the laboratory type imaging microscope.
Neff, W.; Holz, R.; Richter, F.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1988A plasma focus as a radiation source for a laboratory x-ray microscope
Neff, W.; Eberle, J.; Holz, R.; Richter, F.; Lebert, R.
Aufsatz in Buch
1985Plasma focus as a radiation source for X-ray lithography
Eberle, J.; Krompholz, H.; Lebert, R.; Neff, W.; Noll, R.
Zeitschriftenaufsatz