Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2008RF superimposed DC sputtering of zinc tin oxide (ZTO) and indium zinc oxide (IZO)
Heimke, B.; Kopte, T.; Hartung, U.; Nyderle, R.; Junghähnel, M.; Krause, U.; Braun, J.
Konferenzbeitrag
2007Verfahren und Vorrichtung zum Loeschen von Bogenentladungen
Krause, U.; Hartung, U.; Kopte, T.
Patent
2006A controlled pulsed reactive magnetron sputtering process for oxide film deposition
Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Herrmann, M.; Welzel, T.; Richter, F.; Krause, U.; Kopte, T.; Peters, C.; Frach, P.; Cheng, Y.
Konferenzbeitrag
2006High-rate deposition of MgO by reactive ac pulsed magnetron sputtering in the transition mode
Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Richter, F.; Peters, C.; Krause, U.; Kopte, T.; Cheng, Y.
Zeitschriftenaufsatz
2005High-power diode laser bars as pump sources for fiberlasers and amplifiers
Bonati, G.; Hennig, P.; Wolff, D.; Voelckel, H.; Gabler, T.; Krause, U.; Tünnermann, A.; Reich, M.; Limpert, J.; Werner, E.; Liem, A.
Konferenzbeitrag
2005Structure and secondary electron emission properties of MGO films deposited by pulsed mid-frequency magnetron sputtering
Peters, C.; Krause, U.; Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Richter, F.
Konferenzbeitrag
2005Verfahren und Vorrichtung zum Einbringen von Gasen bei Vakuumbeschichtungsprozessen
Krause, U.; Hartung, U.; Kopte, T.; Krause, I.
Patent
2005Vorrichtung und Verfahren zum reaktiven Beschichten von Objekten
Krause, U.; Hartung, U.; Peters, C.; Krause, I.; Kopte, T.
Patent
2004Influence of O2 flow rate on the structural properties of MgO films deposited by dual magnetron sputtering
Cheng, Y.H.; Kupfer, H.; Krause, U.; Richter, F.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2004Verfahren und Einrichtung zur Reduzierung der Zuendspannung von Plasmen
Hartung, U.; Krause, U.; Kopte, T.; List, M.
Patent
2003Verfahren und Einrichtung zur Reduzierung der Zuendspannung von Leistungspulsen gepulst betriebener Plasmen
Schulze, M.; Krause, U.
Patent
2002Comparison of layer properties deposited with unipolar and bipolar pulsed magnetron sputtering
Krause, U.; Peters, C.; Rettich, T.; Wiedemuth, P.
Konferenzbeitrag
2002Dual Magnetron Sputter System as dc cathode - an investigation of its electrical properties
Krause, U.; Rettich, T.; Wiedemuth, P.
Konferenzbeitrag
2002Investigation of the behaviour of a lambda probe in reactive sputtering environment
Krause, U.; Hartung, J.; Peters, C.; Tautenhahn, I.
Konferenzbeitrag
2002The resistance lowering effect of an additional ZnO-layer in a low-E-system on glass
Treichel, O.; Krause, U.; Peters, C.; Hartung, U.; Tautenhahn, I.; Gnehr, W.-M.; List, M.
Konferenzbeitrag
2002Verfahren zur Erkennung von Ueberschlaegen in gepulst betriebenen Plasmen
Krause, U.; Schulze, M.; Kopte, T.; Kirchhoff, V.
Patent
2001Deposition of magnesium oxide with reactive pulsed magnetron sputtering technology
Peters, C.; Krause, U.
Konferenzbeitrag
2001Dynamic behavior of unipolar and bipolar pulsed magnetron sputtering
List, M.; Krause, U.; Wünsche, T.
Konferenzbeitrag
2001Process dynamics of high power pulsed magnetron sputtering for large area coating
Krause, U.; List, M.; Mecke, H.; Sommer, S.
Konferenzbeitrag
2001Requirements of power supply parameters for high-power pulsed magnetron sputtering
Krause, U.; List, M.; Fuchs, H.
Konferenzbeitrag
2001Das Verhalten der elektrischen Parameter beim bipolaren Puls-Magnetron-Sputtern am Beispiel von Zinn- und Zinkoxid
Krause, U.
Dissertation
2000Requirements for the system power supply sputter source for high power pulsed magnetron sputtering
Krause, U.; Schulze, M.; Fuchs, H.
Konferenzbeitrag
1998Innovative Marktkonzepte für die Kreislaufwirtschaft. Industrielle Konzepte zur Nutzungsintensivierung und Lebensdauerverlängerung von Produkten
: Fleig, J.; Krause, U. (Hrsg.)
Buch