Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2015Bottom up research and development for a low-voltage three level NPC converter
Benkendorff, B.; Fuchs, F.W.; Friedrich, D.; Hinz, J.; Poech, M.; Kohlmann, K.; Reese, H.; Letas, H.-H.; Weber, C.; Eisele, R.; Mueller, Z.; Berger, M.; Rudzki, J.; Osterwald, F.; Mono, T.
Konferenzbeitrag
2012Competence center for power electronics, development of an advanced, modular frequency converter for traction control
Dudde, R.; Friedrich, D.; Kohlmann, K.; Taube, S.; Eggert, N.; Solmecke, H.; Zitzelsberger, J.; Osterwald, F.; Isernhagen, R.; Fuchs, F.W.; Eisele, R.; Weber, C.; Berger, M.
Konferenzbeitrag
2005Innovative power control in high demand
Friedrich, D.; Bernt, H.; Hanssen, H.; Kohlmann, K.; Schliwinski, J.
Zeitschriftenaufsatz
1992E-beam induced fabrication of microstructures
Kohlmann, K.T.; Brünger, W.H.
Konferenzbeitrag
1992E-beam written optically transparent x-ray masks - four levels for an industrial VLSI chip with megabit design rules
Jacobs, E.P.; Köhler, C.; Kohlmann, K.T.; Petschner, M.; Reimer, K.; Breithaupt, B.; Demmeler, R.; Ehrlich, C.
Konferenzbeitrag
1992Repair of open stencil masks for ion projection lithography by E-beam induced metal deposition
Kohlmann, K.T.; Brünger, W.H.; Buchmann, L.-M.
Konferenzbeitrag
1991E-beam induced x-ray mask repair with optimized gas nozzle geometry
Thiemann, M.; Brünger, W.H.; Kohlmann, K.T.
Konferenzbeitrag
1991Vorrichtung zur Erzeugung einer lokalen Gasatmosphaere in einem Vakuumrezipienten
Kohlmann, K.; Thiemann, M.
Patent
1989The E-beam application of highly sensitive positive and negative tone X-ray resists for X-ray mask making
Dammel, R.; Demmeler, R.; Ehrlich, C.; Kohlmann, K.; Lingnau, J.; Pongratz, S.; Reimer, K.; Scheunemann, U.; Theis, J.
Konferenzbeitrag
1989E-beam application of highly sensitive positive and negative-tone resists for x-ray mask making
Dammel, R.; Demmeler, R.; Ehrlich, C.; Hessemer, W.; Kohlmann, K.; Lingnau, J.; Pongratz, S.; Reimer, K.; Scheunemann, U.; Theis, J.
Konferenzbeitrag
1989State of the art of pattern placement accuracy of silicon X-ray master masks
Pongratz, S.; Mescheder, U.; Ehrlich, C.; Huber, H.-L.; Kohlmann, K.; Windbracke, W.
Konferenzbeitrag