Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2012Large area PECVD process using dual rotatable magnetrons
Fahland, M.; Neidhardt, J.; Thielsch, R.; Wahl, A.; Kleinhempel, R.; Blüthner, R.; Preussner, T.
Konferenzbeitrag
2012Verfahren zur Modifizierung einer Oberfläche eines Substrats durch Ionenbeschuss
Schulz, Ulrike; Schönberger, Waldemar; Munzert, Peter; Thielsch, Roland; Fahland, Matthias; Kleinhempel, Ronny
Patent
2011Large-area fabrication of stochastic nano-structures on polymer webs by ion- and plasma treatment
Schönberger, W.; Gerlach, G.; Fahland, M.; Munzert, P.; Schulz, U.; Thielsch, R.; Kleinhempel, R.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2008Cross-Magnetron-Effekt und ITO-Schichtabscheidung
Kupfer, H.; Richter, F.; Kleinhempel, R.; Blüthner, R.; Raubold, T.
Zeitschriftenaufsatz
2006AC powered reactive magnetron deposition of indium tin oxide (ITO) films from a metallic target
Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Graffel, B.; Welzel, T.; Dunger, T.; Richter, F.; Gnehr, W.-M.; Kopte, T.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2006A controlled pulsed reactive magnetron sputtering process for oxide film deposition
Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Herrmann, M.; Welzel, T.; Richter, F.; Krause, U.; Kopte, T.; Peters, C.; Frach, P.; Cheng, Y.
Konferenzbeitrag
2006High-rate deposition of MgO by reactive ac pulsed magnetron sputtering in the transition mode
Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Richter, F.; Peters, C.; Krause, U.; Kopte, T.; Cheng, Y.
Zeitschriftenaufsatz
2005Structure and secondary electron emission properties of MGO films deposited by pulsed mid-frequency magnetron sputtering
Peters, C.; Krause, U.; Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Richter, F.
Konferenzbeitrag