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2008 | Atmospheric pressure plasmas for crystalline silicon photovoltaics Hopfe, V.; Sheel, D.W.; Möller, R. | Konferenzbeitrag |
2008 | Plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for crystalline silicon wafer processing and process control by in-line FTIR gas spectroscopy Linaschke, D.; Leistner, M.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.; Lopez, E.; Hopfe, V.; Kirschmann, M.; Frenck, J. | Konferenzbeitrag |
2008 | Plasma enhanced CVD and plasma chemical etching at atmospheric pressure for continuous processing of crystallien silicon solar wafers Lopez, E.; Dresler, B.; Mäder, G.; Dani, I.; Hopfe, V.; Kaskel, S.; Heintze, M.; Möller, R.; Wanka, H.; Kirschmann, M.; Frenck, J.; Poruba, A.; Barinka, R.; Dahl, R.; Nussbaumer, H. | Konferenzbeitrag |
2008 | Silicon nitride films deposited by atmospheric pressure microwave PECVD Dresler, B.; Roch, J.; Leupolt, B.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Möller, R. | Konferenzbeitrag |
2008 | Verfahren und Vorrichtung zum Zuenden eines Lichtbogens Grabau, P.; Roch, J.; Hopfe, V.; Dani, I. | Patent |
2008 | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Kohlenstoff-Nanoroehren oder Fullerenen Maercz, M.; Leistner, M.; Hopfe, V.; Graehlert, W.; Dani, I.; Schultrich, B. | Patent |
2007 | Atmospheric-pressure PECVD coating and plasma chemical etching for continuous processing Hopfe, V.; Sheel, D.W. | Zeitschriftenaufsatz |
2007 | Atmospheric-pressure plasmas for wide-area thin-film deposition and etching Hopfe, V.; Sheel, D.W. | Zeitschriftenaufsatz |
2007 | Dauerhaft schön - Kratzschutz durch Atmosphärendruck-Plasmaverfahren Dani, I.; Kotte, L.; Tschoecke, S.; Linaschke, D.; Rogler, D.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2007 | In-line plasma etching at atmospheric pressue for edge isolation in crystalline Si solar cells Heintze, M.; Hauser, A.; Möller, R.; Wanka, H.; Lopez, E.; Dani, I.; Hopfe, V.; Müller, J.W.; Huwe, A. | Konferenzbeitrag |
2007 | Mikrowellen-PECVD für kontinuierliche Großflächenbeschichtung bei Atmosphärendruck Dani, I.; Tschöcke, S.; Kotte, L.; Mäder, G.; Dresler, B.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2007 | New developments in plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for crystalline silicon wafer processing Lopez, E.; Beese, H.; Mäder, G.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Moeller, R.; Wanka, H.; Kirschmann, M.; Frenck, J.A. et al. | Konferenzbeitrag |
2007 | PECVD and plasma etching at atmospheric pressure by means of a linearly-extended DC arc plasma source Dani, I.; Hopfe, V.; Rogler, D.; Lopez, E.; Mäder, G. | Zeitschriftenaufsatz |
2007 | Photocatalytic active titania - Deposition with atmospheric pressure plasma technology Dani, I.; Kotte, L.; Abendroth, T.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2007 | Verfahren zur Entfernung einer dotierten Oberflaechenschicht an Rueckseiten von kristallinen Silizium-Solarwafern Hopfe, V.; Dani, I.; Rosina, M.; Heintze, M.; Moeller, R.; Wanka, H.; Lopez, E. | Patent |
2007 | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Permeationsrate mindestens eines Permeaten, durch ein eine Diffusionssperre bildendes Element Beese, H.; Graehlert, W.; Hopfe, V. | Patent |
2007 | Wirtschaftlicher Solarstrom - Atmosphärendruck-Plasmaverfahren in der Photovoltaik Dani, I.; Dresler, B.; Lopez, E.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2006 | Atmosphärendruck-PECVD-Prozesse zur Abscheidung kohlenstoffbasierter Schichten Dani, I.; Linaschke, D.; Hopfe, V. | Konferenzbeitrag |
2006 | Atmospheric pressure PECVD and atmospheric plasma chemical etching for continuous processing of crystalline silicon solar wafers Hopfe, V.; Dani, I.; Lopez, E.; Rosina, M.; Mäder, G.; Möller, R.; Wanka, H.; Heintze, M. | Konferenzbeitrag |
2006 | In-line Monitoring von Feuchtespuren und weiteren kritischen Verunreinigungen in Bulk- und Korrosivgasen der Mikroelektronik Beese, H.; Grählert, W.; Hopfe, V.; Petzold, F.; Kaspersen, P.; Bohman, A.; Mackrodt, P. | Konferenzbeitrag |
2006 | ISPROM, ein in-situ-Multigasanalysator für CVD- und Ätzprozesse Grählert, W.; Dani, I.; Mäder, G.; Throl, O.; Hopfe, V.; Pietsch, K.; Wünsche, T.; Dreyer, T. | Konferenzbeitrag |
2006 | Mikrowellenplasmaquelle Maeder, G.; Rogler, D.; Hopfe, V.; Krause, S.; Spitzl, R. | Patent |
2006 | Plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for silicon wafer processing Lopez, E.; Dani, I.; Hopfe, V.; Wanka, H.; Heintze, M.; Möller, R.; Hauser, A. | Konferenzbeitrag |
2006 | Plasma etching at atmospheric pressure for rear emitter removal in crystalline Si solar cells Lopez, E.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Hauser, A.; Möller, R.; Wanka, H. | Konferenzbeitrag |
2006 | Plasmachemische Gasphasenabscheidung und Plasmaätzen bei Atmosphärendruck mittels einer linear ausgedehnten DC-Bogenplasmaquelle Dani, I.; Hopfe, V.; Rogler, D.; Lopez, E.; Mäder, G. | Zeitschriftenaufsatz |
2006 | Transparente Kratzschutzschichten mittels Plasma-CVD bei Atmosphärendruck Dani, I.; Hopfe, V.; Kotte, L.; Linaschke, D.; Rogler, D.; Tschöcke, S. | Zeitschriftenaufsatz |
2006 | Verfahren zum selektiven plasmachemischen Trockenaetzen von auf Oberflaechen von Silicium-Wafern ausgebildetem Phosphorsilikatglas Hopfe, V.; Dani, I. | Patent |
2006 | Vorrichtung und Verfahren zur Ausbildung duenner Schichten auf Substratoberflaechen Dresler, B.; Hopfe, V.; Dani, I. | Patent |
2006 | Vorrichtung und Verfahren zur Ausbildung duenner Siliciumnitridschichten auf Oberflaechen von kristallinen Silicium-Solarwafern Dresler, B.; Hopfe, V.; Dani, I.; Rosina, M. | Patent |
2005 | Linear extended ArcJet-CVD - a new PECVD approach for continuous wide area coating under atmospheric pressure Hopfe, V.; Rogler, D.; Mäder, G.; Dani, I.; Landes, K.; Theophile, E.; Dzulko, M.; Rohrer, C.; Reichhold, C. | Zeitschriftenaufsatz |
2005 | Modul und Verfahren fuer die Modifizierung von Substratoberflaechen bei Atmosphaerenbedingungen Maeder, G.; Rogler, D.; Hopfe, V. | Patent |
2005 | Remote microwave PECVD for continuous, wide-area coating under atmospheric pressure Hopfe, V.; Spitzl, R.; Dani, I.; Maeder, G.; Roch, L.; Rogler, D.; Leupolt, B.; Schöneich, B. | Zeitschriftenaufsatz |
2005 | Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von Gasen oder Gasgemischen mittels Laserdiodenspektroskopie Maeder, G.; Graehlert, W.; Hopfe, V.; Beese, H.; Hofmueller, E. | Patent |
2004 | Development of a novel DC plasma source for coating and surface modification under atmospheric pressure Theophile, E.; Kim, H.-M.; Dzulko, M.; Landes, K.D.; Rogler, D.; Maeder, G.; Hopfe, V. | Konferenzbeitrag |
2004 | Quantitative-analysis of the in-situ fourier-transform infrared-absorption And emission-spectrum of gas-phase SiO (delta-v=1 and 2) produced in Si-N-O fiber growth Martin, P.A.; Daum, R.; Beil, A.; Vogt, U.; Vital, A.; Graehlert, W.; Leparoux, M.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2004 | Verfahren und Vorrichtung zur grossflaechigen Beschichtung von Substraten bei Atmosphaerendruckbedingungen Hopfe, V.; Maeder, G.; Rogler, D.; Schreuders, C. | Patent |
2003 | In-situ monitoring for CVD processes Hopfe, V.; Sheel, D.W.; Spee, C.I.M.A.; Tell, R.; Martin, P.; Beil, A.; Pemble, M.; Weiss, R.; Vogt, U.; Grählert, W. | Zeitschriftenaufsatz |
2002 | In-situ monitoring for CVD processes Hopfe, V.; Sheel, D.W.; Spee, C.I.M.A.; Tell, R.; Martin, P.; Beil, A.; Pemple, M.; Weiss, R.; Vogt, U.; Grählert, W. | Konferenzbeitrag |
2002 | Laser CVD - Status und industrielles Potential für Faserbeschichtungen Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2002 | Prozessüberwachung industrieller CVD-Beschichtungsanlagen mittels NIR-DLS- und FTIR-Sensorik Hopfe, V.; Sheel, D.W.; Grählert, W.; Raisbeck, D.; Rivero, J.M.; Throl, O. | Konferenzbeitrag |
2002 | Simulationsrechnungen zur FTIR-reflexionsspektroskopischen Charakterisierung von Schicht- und Fasersystemen Grählert, Wulf : Hopfe, Volkmar; Neuschütz, Dieter | Dissertation |
2001 | Gesicherte Interpretationen der FTIR-Reflexionsspektren SiC-CVD-Schichten durch Spektrensimulation Grählert, W.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2001 | Laser-gestützte physikalische und chemische Dampfphasenabscheidung Schultrich, B.; Scheibe, H.J.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2001 | NIR Diode Laser Based Process Control for Industrial CVD Reactors Hopfe, V.; Sheel, D.W.; Raisbeck, D.; Rivero, J.M.; Graehlert, W.; Throl, O.; Mol, A.M.B. van; Spee, C.I.M.A. | Konferenzbeitrag |
2001 | NIR diode laser based process control for industrial CVD reactors Hopfe, V.; Sheel, D.W.; Raisbeck, D.; Rivero, J.M.; Graehlert, W.; Throl, O.; Mol, A.M.B. van; Spee, C.I.M.A. | Zeitschriftenaufsatz |
2001 | NIR laser diode and FTIR based process control for industrial CVD reactors Hopfe, V.; Shee, D.W.; Graehlert, W.; Throl, O. | Zeitschriftenaufsatz |
2001 | Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen laserinduzierten Beschichten von Endlosfaserbuendeln Hopfe, V.; Tehel, A.; Leonhardt, G. | Patent |
2000 | In-situ FTIR spectroscopic monitoring of a CVD controlled Si-N-O fibre growth process Vogt, U.; Vital, A.; Graehlert, W.; Leparoux, M.; Ewing, H.; Beil, A.; Daum, R.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
2000 | Verfahren zur laserinduzierten Beschichtung von Fasern Hopfe, V.; Tehel, A.; Leonhardt, G. | Patent |
1999 | Continuous coating of ceramic fibres by industrial-scale laser driven CVD: fibre modification and structure of interfaces Hopfe, V.; Schönfeld, K.; Dresler, B.; Leparoux, M.; Leupolt, B.; Grählert, W. | Konferenzbeitrag |
1999 | Entwicklung wirtschaftlicher Verfahren zur CMC-Herstellung. Beschichtung keramischer Faserbündel mittels Laser-CVD Hopfe, V.; Jäckel, R.; Schönfeld, K.; Dresler, B.; Throl, O. | Konferenzbeitrag |
1999 | FTIR based process control for industrial reactors Hopfe, V.; Grählert, W.; Throl, O. | Zeitschriftenaufsatz |
1999 | Laser-CVD-Abscheidung von keramischen Schichten auf Kohlenstoff-Fasern Hopfe, V.; Dresler, B.; Schönfeld, K.; Jäckel, R.; Leupolt, B. | Konferenzbeitrag |
1999 | Optical modelling vs. FTIR reflectance microscopy. Characterization of laser treated ceramic fibres Grählert, W.; Leupolt, B.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
1998 | FTIR monitoring of industrial scale CVD processes Hopfe, V.; Mosebach, H.; Meyer, M.; Sheel, D.W.; Grählert, W.; Throl, O.; Dresler, B. | Konferenzbeitrag |
1998 | FTIR reflectance spectroscopy of SICxNyOz(H) ceramic coatings. Structure interpretation by optical modelling Grählert, W.; Hopfe, V. | Konferenzbeitrag |
1998 | A method for checking homogeneity of subsurface regions by variable angle ATR Hopfe, I.; Eichhorn, K.; Grählert, W.; Hopfe, V. | Konferenzbeitrag |
1997 | Continuous coating of ceramic fibres by industrial-scale laser driven CVD. Process characterization Hopfe, V.; Dresler, B.; Schönfeld, K.; Jäckel, R.; Throl, O. | Konferenzbeitrag |
1997 | FTIR investigations and modelling of anisotropic materials. Application to carbon fibre composites Grählert, W.; Hopfe, V. | Zeitschriftenaufsatz |
1997 | Kontinuierliche Beschichtung von SiC-Faserbündeln mittels Laser-CVD Schönfeld, K.; Dresler, B.; Hopfe, V. | Konferenzbeitrag |
1997 | Laser based coating of carbon fibres for manufacturing CMC Hopfe, V.; Weiß, R.; Meistring, R.; Brennfleck, K.; Jäckel, R.; Schönfeld, K.; Dresler, B.; Goller, R. | Konferenzbeitrag |
1997 | Laserverfahren zur Abscheidung dünner Schichten Schultrich, B.; Hopfe, V.; Lenk, A.; Scheibe, H.J.; Witke, T. | Zeitschriftenaufsatz |
1996 | Laser based and laser assisted technologies for thin film deposition Schultrich, B.; Hopfe, V.; Lenk, A.; Scheibe, H.J. | Konferenzbeitrag |
1996 | Laser based coating and modification of carbon fibres Hopfe, V.; Jäckel, R.; Schönfeld, K. | Zeitschriftenaufsatz |
1996 | Thermofluiddynamische Rechnungen an einem Laser-CVD-Reaktor Jäckel, R.; Hopfe, V. | Konferenzbeitrag |
1995 | FTIR investigations and modelling. Application to carbon fibre composites Grählert, W.; Hopfe, V. | Konferenzbeitrag |
1995 | In-situ FTIR emission spectroscopy in a technological environment: chemical vapour infiltration (CVI) of SiC composites Hopfe, V.; Mosebach, H.; Erhard, M.; Meyer, M. | Zeitschriftenaufsatz |
1995 | Laser CVD vs Hot Wall CVD: Coating of fibres for ceramic composites Hopfe, V.; Brennfleck, K.; Weiß, R.; Meistring, R.; Schönfeld, K.; Jäckel, R.; Dietrich, G.; Gollert, R. | Zeitschriftenaufsatz |
1995 | Monitoring of SiC deposition in an industrial CVI/CVD reactor by in-situ FTIR spectroscopy Mosebach, H.; Hopfe, V.; Erhard, M.; Meyer, M. | Zeitschriftenaufsatz |
1995 | Pyro-C-Beschichtung von C-Fasern mit Laser CVD zur Grenzflächenoptimierung von CFC Schönfeld, K.; Hopfe, V.; Jäckel, R.; Ekenhorst, B. | Konferenzbeitrag |
1994 | Laser CVD on carbon fibres: structure of layers and tensile strength of fibres Hopfe, V.; Jäckel, R.; Techel, A.; Böhm, S.; Schulze, A. | Konferenzbeitrag |
1993 | Infrared reflection studies of ceramics: characterization of SiC layers on graphite substrates Hopfe, V.; Graehlert, W.; Brennfleck, K.; Korte, E.H.; Theiß, W. | Zeitschriftenaufsatz |
1993 | IR specular reflectance studies on rough-surfaced solids and on layered systems with nonuniform interfaces Hopfe, V.; Korte, E.H.; Klobes, P.; Graehlert, W. | Zeitschriftenaufsatz |
1993 | Laser CVD on carbon fibres: structure of layers and tensile strength of fibres Hopfe, V.; Böhm, S.; Wieghardt, G.; Schulze, A. | Zeitschriftenaufsatz |
1993 | Optical data of rough-surfaced ceramics Hopfe, V.; Korte, E.H.; Klobes, P.; Graehlert, W. | Zeitschriftenaufsatz |
1989 | Zur Wirkung von Metallkomponenten auf die acide Funktion von Reformingkatalysatoren Engels, S.; Haupt, J.; Hopfe, Volkmar; Lausch, Hartmut; Marx, G. | Zeitschriftenaufsatz |