Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2018Entwicklung eines Beleuchtungsmoduls für stroboskopische, phasenschiebende Interferometrie
Medeiros Ventura, Luiz Guilherme de
: Heitmann, Johannes (Gutachter); Skupsch, Christoph (Gutachter); Wolschke, Steffen (Betreuer)
Master Thesis
2017Modellierung und Simulation des Chemisch-mechanischen Planarisierens unter besonderer Berücksichtigung langreichweitiger Wechselwirkungen auf der Chipskala
Bott, Sascha
: Gerlach, G.; Bartha, J.W.; Heitmann, J.
Dissertation
2013Structural properties of as deposited and annealed ZrO2 influenced by atomic layer deposition, substrate, and doping
Weinreich, W.; Wilde, L.; Müller, J.; Sundqvist, J.; Erben, E.; Heitmann, J.; Lemberger, M.; Bauer, A.J.
Zeitschriftenaufsatz
2011Macroscopic and microscopic electrical characterizations of high-k ZrO 2 and ZrO2/Al2O3/ZrO2 metal-insulator-metal structures
Martin, D.; Grube, M.; Weinreich, W.; Müller, J.; Wilde, L.; Erben, E.; Weber, W.M.; Heitmann, J.; Schröder, U.; Mikolajick, T.; Riechert, H.
Zeitschriftenaufsatz
2010Reliability of Al2O3-doped ZrO2 high-k dielectrics in three-dimensional stacked metal-insulator-metal capacitors
Zhou, D.; Schroeder, U.; Xu, J.; Weinreich, W.; Heitmann, J.; Jegert, G.; Kerber, M.; Knebel, S.; Erben, E.; Mikolajick, T.
Zeitschriftenaufsatz
2009Correlation of microscopic and macroscopic electrical characteristics of high-k ZrSixO2-x thin films using tunneling atomic force microscopy
Weinreich, W.; Wilde, L.; Kücher, P.; Lemberger, M.; Yanev, V.; Rommel, M.; Bauer, A.J.; Erben, E.; Heitmann, J.; Schröder, U.; Oberbeck, L.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2009Detailed correlation of electrical and breakdown characteristics to the structural properties of ALD grown HfO2- and ZrO2-based capacitor dielectrics
Schroeder, U.; Weinreich, W.; Erben, E.; Mueller, J.; Wilde, L.; Heitmann, J.; Agaiby, R.; Zhou, D.; Jegert, G.; Kersch, A.
Konferenzbeitrag
2009Impact of interface variations on J-V and C-V polarity asymmetry of MIM capacitors with amorphous and crystalline Zr(1-x)AlxO2 films
Weinreich, W.; Reiche, R.; Lemberger, M.; Jegert, G.; Müller, J.; Wilde, L.; Teichert, S.; Heitmann, J.; Erben, E.; Oberbeck, L.; Schröder, U.; Bauer, A.J.; Ryssel, H.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2009Influence of N2 and NH3 annealing on the nitrogen incorporation and k-value of thin ZrO2 layers
Weinreich, W.; Ignatova, V.A.; Wilde, L.; Teichert, S.; Lemberger, M.; Bauer, A.J.; Reiche, R.; Erben, E.; Heitmann, J.; Oberbeck, L.; Schröder, U.
Zeitschriftenaufsatz
2009Influence of the amorphous/crystalline phase of Zr1-xAlxO2 high-k layers on the capacitance performance of metal insulator metal stacks
Pakaleva, A.; Lemberger, M.; Bauer, A.J.; Weinreich, W.; Heitmann, J.; Erben, E.; Schröder, U.; Oberbeck, L.
Zeitschriftenaufsatz
2008Deposition temperature effect on electrical properties and interface of high-k ZrO2 capacitor
Kim, J.-H.; Ignatova, V.A.; Heitmann, J.; Oberbeck, L.
Zeitschriftenaufsatz
2008Physical and electrical characterization of high-k ZrO2 metal-insulator-metal capacitor
Kim, J.-H.; Ignatova, V.; Kücher, P.; Heitmann, J.; Oberbeck, L.; Schröder, U.
Zeitschriftenaufsatz
2008Tunneling atomic-force microscopy as a highly sensitive mapping tool for the characterization of film morphology in thin high-k dielectrics
Yanev, V.; Rommel, M.; Lemberger, M.; Petersen, S.; Amon, B.; Erlbacher, T.; Bauer, A.J.; Ryssel, H.; Paskalev, A.; Weinreich, W.; Fachmann, C.; Heitmann, J.; Schroeder, U.
Zeitschriftenaufsatz
2007Thermal stability of thin ALD ZrO2 layers as dielectrics in deep trench DRAM devices annealed in N2 and NH3
Weinreich, W.; Lemberger, M.; Erben, E.; Heitmann, J.; Wilde, L.; Ignatova, V.A.; Teichert, S.; Schröder, U.; Oberbeck, L.; Bauer, A.J.; Ryssel, H.; Kücher, P.
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