Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Concepts for in situ characterization and control of plasma ion assisted deposition processes
Harhausen, J.; Foest, R.; Stenzel, O.; Wilbrandt, S.; Franke, C.; Brinkmann, R.P.
Zeitschriftenaufsatz
2017Investigation of the refractive index repeatability for tantalum pentoxide coatings, prepared by physical vapor film deposition techniques
Stenzel, O.; Wilbrandt, S.; Wolf, J.; Schürmann, M.; Kaiser, N.; Ristau, D.; Ehlers, H.; Carstens, F.; Schippel, S.; Mechold, L.; Rauhut, R.; Kennedy, M.; Bischoff, M.; Nowitzki, T.; Zöller, A.; Hagedorn, H.; Reus, H.; Hegemann, T.; Starke, K.; Harhausen, J.; Foest, R.; Schumacher, J.
Zeitschriftenaufsatz
2017Prospects for the enhancement of PIAD processes by plasma diagnostics
Harhausen, J.; Foest, R.; Wauer, J.; Stenzel, O.; Wilbrandt, S.; Franke, C.; Oberberg, M.; Brinkmann, R.P.
Konferenzbeitrag
2016Investigation of the refractive index reproducibility for tantalum pentoxide coatings, prepared by PVD techniques
Stenzel, O.; Wilbrandt, S.; Schürmann, M.; Kaiser, N.; Wolf, J.; Ristau, D.; Ehlers, H.; Carstens, F.; Schippel, S.; Mechold, L.; Rauhut, R.; Kennedy, M.; Bischoff, M.; Nowitzki, T.; Zöller, A.; Hagedorn, H.; Reus, H.; Hegemann, T.; Starke, K.; Harhausen, J.; Foest, R.; Schumacher, J.
Konferenzbeitrag
2015Investigation on the reproducibility of optical constants of TiO2, SiO2, and Al2O3 films, prepared by plasma ion assisted deposition
Stenzel, O.; Harhausen, J.; Gäbler, D.; Wilbrandt, S.; Franke, C.; Foest, R.; Kaiser, N.
Zeitschriftenaufsatz
2015Plasma-ionengestütztes Beschichtungverfahren und Plasmasonde
Gäbler, Dieter; Kaiser, Norbert; Ohl, Andreas; Köpp, Daniel; Foest, Rüdiger; Harhausen, Jens
Patent