Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2016Precision optical coatings on large substrates by reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Glöß, D.; Bartzsch, H.; Goschurny, T.; Drescher, A.; Gottfried, C.; Liebig, J.-S.
Konferenzbeitrag
2014Verfahren zum Abscheiden einer Schicht auf einer organischen Halbleiterschicht
Bartzsch, Hagen; Frach, Peter; Fahlteich, John; Gottfried, Christian
Patent
2013High power density pulse magnetron sputtering - process and film properties
Frach, Peter; Gottfried, Christian; Fietzke, Fred; Klostermann, Heidrun; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel
Konferenzbeitrag
2012Low demage magnetron sputtering of TCO films
Bartzsch, H.; Glöß, D.; Frach, P.; Gittner, M.; Gottfried, C.; Suzuki, K.
Konferenzbeitrag
2012Pulse Magnetron Sputtering with high power density-an attempt at a critical evaluation
Frach, P.; Gottfried, C.; Fietzke, F.; Klostermann, H.; Bartzsch, H.; Glöß, D.
Konferenzbeitrag
2012Pulse Magnetron Sputtering with High Power Density-Process and Film Properties
Frach, P.; Gottfried, C.; Fietzke, F.; Klostermann, H.; Bartzsch, H.; Gloess, D.
Konferenzbeitrag
2010Verfahren zum Abscheiden dielektrischer Schichten im Vakuum sowie Verwendung des Verfahrens
Bartzsch, H.; Frach, P.; Fahland, M.; Gottfried, C.; Pötschick, P.
Patent
2008Multifunctional high-reflective and antireflective layer systems with easy-to-clean properties
Glöß, D.; Frach, P.; Gottfried, C.; Klinkenberg, S.; Liebig, J.-S.; Hentsch, W.; Liepack, H.; Krug, M.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2008Verfahren zum Abscheiden einer Kratzschutzbeschichtung auf einem Kunststoffsubstrat
Bartzsch, H.; Frach, P.; Taeschner, K.; Gloess, D.; Gottfried, C.; Fahland, M.
Patent
2006"SV in-line" equipment concept with uninterrupted stream of substrate carriers for reactive sputtered optical multi layer coatings
Hentsch, W.; Fendler, R.; Krug, M.; Liepack, H.; Goedicke, K.; Frach, P.; Gottfried, C.
Konferenzbeitrag
2006Multi-functional high-reflective and anti-reflective layer systems with easy-to-clean properties
Glöß, D.; Frach, P.; Gottfried, C.; Klinkenberg, S.; Liebig, J.-S.; Hentsch, W.; Liepack, H.; Krug, M.
Konferenzbeitrag
2006Verfahren zum Vakuumbeschichten mit einer photohalbleitenden Schicht und Anwendung des Verfahrens
Frach, P.; Gloess, D.; Goedicke, K.; Klinkenberg, S.; Gottfried, C.; Kirchhoff, V.
Patent
2005Einrichtung zum Beschichten eines stationaer angeordneten Substrats durch Puls-Magnetron-Sputtern
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.
Patent
2005Photocatalytic titanium dioxide thin films prepared by reactive pulse magnetron sputtering at low temperature
Glöß, D.; Frach, P.; Zywitzki, O.; Modes, T.; Klinkenberg, S.; Gottfried, C.
Zeitschriftenaufsatz
2004Katodenzerstaeubungsverfahren
Bartzsch, H.; Gottfried, C.; Frach, P.; Goedicke, K.; Lange, S.
Patent
2003Effect of pulse mode in reactive magnetron sputtering on structure and properties of titanium dioxide films
Frach, P.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Boecher, B.; Glöß, D.; Gottfried, C.
Konferenzbeitrag
2002Energetic substrate bonbardment in reactive sputtering with flange-mounted magnetrons in different pulse modes
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.
Konferenzbeitrag
2002Ensuring long term stability of process and film parameters during target lifetime in reactive magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Böcher, B.; Gottfried, C.
Konferenzbeitrag
2002Rutile and anatase phase TiO2 films obtained on unheated substrates by matched pulse mode and pulse parameters in reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Klinkenberg, S.; Sahm, H.; Modes, T.
Konferenzbeitrag
2001Einrichtung zum Magnetronzerstaeuben
Frach, P.; Goedicke, K.; Holfeld, A.; Gottfried, C.
Patent
2001Einrichtung zum Magnetronzerstaeuben
Frach, P.; Goedicke, K.; Holfeld, A.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.
Patent
2001Einrichtung zur reaktiven Beschichtung
Frach, P.; Walde, H.; Gottfried, C.; Holfeld, A.; Goedicke, K.
Patent
2001Influence of the unipolar or bipolar pulse mode in reactive magnetron sputtering on the deposition and properties of optical films
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Klinkenberg, S.
Konferenzbeitrag
2001A versatile coating tool for reactive in-line sputtering in different pulse modes
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Klinkenberg, S.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
1999Different pulse techniques for stationary reactive sputtering with double ring magnetron
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.
Zeitschriftenaufsatz
1998Verfahren zur reaktiven Beschichtung
Frach, P.; Gottfried, C.; Walde, H.; Goedicke, K.
Patent
1997The double ring magnetron process module - a tool for stationary deposition of metals, insulators and reactive sputtered compounds
Frach, P.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Goedicke, K.
Zeitschriftenaufsatz
1995Advantageous possibilities, design aspects and technical use of double ring magnetron sputter source
Frach, P.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Gottfried, C.; Walde, H.; Hentsch, W.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
1993Aspects and results of long-term stable deposition of Al2O3 with high-rate pulsed reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Heisig, U.; Gottfried, C.; Walde, H.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
1993Einrichtung zum Aufbringen elektrisch schlecht leitender oder isolierender Schichten durch reaktives Magnetronsputtern
Gottfried, C.; Walde, H.; Frach, P.; Heisig, U.
Patent