Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Freeform and Laser Optical Coatings by Inline Magnetron Sputtering
Glöß, Daniel; Hartung, Ullrich; Drescher, Andy; Frach, Peter; Bartzsch, Hagen
Konferenzbeitrag
2019Influence of growth conditions and film thickness on the anodization behavior of sputtered aluminum films and the fabrication of nanorod arrays
Barth, Stephan; Derenko, Susan; Bartzsch, Hagen; Zywitzki, Olaf; Modes, Thomas; Patrovsky, Fabian; Fiehler, Vera; Uhlig, Tino; Frach, P.; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2018Coating technology for locally varying optical function on 2d and 3d elements
Glöß, Daniel; Bartzsch, Hagen; Goschurny, Thomas; Drescher, Andy; Hartung, Ullrich; Frach, Peter
Konferenzbeitrag
2018Piezoelektrische AlN- und AlScN-Schichten für die energieautarke Sensorik
Bartzsch, Hagen; Barth, Stephan; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Suchaneck, Gunnar; Gerlach, Gerald
Konferenzbeitrag
2018Verfahren zum Abscheiden einer Schicht mittels einer Magnetronsputtereinrichtung
Bartzsch, Hagen; Frach, Peter; Hildisch, Jan
Patent
2017Anodization of sputtered substoichiometric aluminum oxide thin-films for improved nanorod array fabrication
Patrovsky, Fabian; Fiehler, Vera; Derenko, Susan; Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Ortstein, Katrin; Frach, Peter; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2017Effect of scandium content on structure and piezoelectric properties of AlScN films deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Zywitzki, Olaf; Modes, Thomas; Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Frach, Peter
Zeitschriftenaufsatz
2017Energy harvesting based on piezoelectric AlN and AlScN thin films deposited by high rate sputtering
Frach, Peter; Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel
Konferenzbeitrag
2017Large area precision coatings by pulse magnetron sputtering
Frach, Peter; Glöß, Daniel; Goschurny, Thomas; Drescher, Andy; Hartung, Ullrich; Bartzsch, Hagen; Heisig, Andreas; Grune, Harald; Leischnig, L.; Leischnig, S.; Bundesmann, C.
Konferenzbeitrag
2017Time-sequential working wavelength-selective filter for flat autostereoscopic displays
Barré, René de la; Bartmann, Roland; Jurk, Silvio; Kuhlmey, Mathias; Duckstein, Bernd; Seeboth, Arno; Lötzsch, Detlef; Rabe, Christian; Frach, Peter; Bartzsch, Hagen; Gittner, Matthias; Bruns, Stefan; Schottner, Gerhard; Fischer, Johanna
Zeitschriftenaufsatz
2017Verfahren zur Herstellung einer feldförmigen, homogenen Rod-Anordnung und deren Verwendung
Bartzsch, Hagen; Frach, Peter; Barth, Stephan; Eng, Lukas; Derenko, Susan
Patent
2017Verfahren zur Herstellung einer flexiblen Rod-Array-Anordnung und Rod-Array-Anordnung
Bartzsch, Hagen; Frach, Peter; Barth, Stephan; Eng, Lukas; Derenko, Susan
Patent
2016Adjustment of plasma properties in magnetron sputtering by pulsed powering in unipolar/bipolar hybrid pulse mode
Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Gittner, Mathias; Labitzke, Rainer
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2016Energy Harvesting auf der Basis piezoelektrischer AlN- und AlScN -Dünnschichten
Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Suchaneck, Gunnar; Gerlach, Gerald
Konferenzbeitrag
2016Heat transfer model of dropwise condensation and experimental validation for surface with coating and groove at low pressure
Lu, Chie-Hung; Beckmann, Michael; Unz, Simon; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Holst, E.; Lasagni, Andrés-Fabián; Bieda, Matthias
Zeitschriftenaufsatz
2016Magnetron sputtering of piezoelectric AlN and AlScN thin films and their use in energy harvesting applications
Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Modes, Thomas; Zywitzki, Olaf; Suchaneck, Gunnar; Gerlach, Gerald
Zeitschriftenaufsatz
2016Precision optical coatings on large substrates by reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Glöß, D.; Bartzsch, H.; Goschurny, T.; Drescher, A.; Gottfried, C.; Liebig, J.-S.
Konferenzbeitrag
2016Towards tuneable thin film filters with the use of liquid crystals
Bartzsch, H.; Frach, P.; Gittner, M.; Bruns, S.; Vergöhl, M.; Seeboth, A.; Lötzsch, D.; Rabe, C.
Konferenzbeitrag
2016Verfahren zum Abscheiden eines transparenten Mehrschichtsystems mit Kratzschutzeigenschaften
Bartzsch, Hagen; Täschner, Kerstin; Frach, Peter
Patent
2015Adjustment of Plasma Properties in Magnetron sputtering by Pulsed Powering in Mixed Unipolar and Bipolar Mode
Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Gittner, Matthias; Labitzke, Rainer
Konferenzbeitrag
2015Electrospray ionization deposition of BSA under vacuum conditions
Hecker, Dominic; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Gerlach, Gerald
Konferenzbeitrag
2015Influence of process parameters on properties of piezoelectric AlN and AlScN thin films for sensor and energy harvesting applications
Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Modes, Thomas; Zywitzki, Olaf; Suchaneck, Gunnar; Gerlach, Gerald
Konferenzbeitrag
2015Photocatalytic properties of TiO2 thin films modified with Ag and Pt nanoparticles deposited by gas flow sputtering
Maicu, Marina; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Hecker, Dominic; Gerlach, Gerald; Cordoba, Jose M.
Zeitschriftenaufsatz
2015Verfahren zum Abscheiden einer piezoelektrischen AlN-haltigen Schicht sowie eine AlN-haltige piezoelektrische Schicht
Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Barth, Stephan
Patent
2014Co-sputtering of rugate filters of reduced loss and roughness
Taeschner, Kerstin; Bartzsch, Hagen; Herffurth, Tobias; Schröder, Sven; Duparre, Angela; Frach, Peter
Konferenzbeitrag
2014Combination of pulse magnetron sputtering and atomic layer deposition for very low water vapor and oxygen transmission rates using cheap standard plastic substrates
Krug, Mario; Barth, Stephan; Endler, Ingolf; Glöß, Daniel; Fahlteich, John; Boeffel, Christine; Frach, Peter
Konferenzbeitrag
2014Effect of process parameters on structure and piezoelectric properties of AlN and AlXSc1-XN films deposited by pulsed magnetron sputtering
Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Zywitzki, Olaf; Herzog, Thomas; Walter, Susan; Heuer, Henning
Konferenzbeitrag
2014Low pressure plasma treatment for curing hybrid layer systems
Glöß, Daniel; Rose, Klaus; Drescher, Andy; Kron, Johanna; Frach, Peter
Konferenzbeitrag
2014Niederdruck-Plasmabehandlung zur Aushärtung von hybridpolymeren Schichtsystemen
Glöß, Daniel; Rose, Klaus; Drescher, Andy; Kron, Johanna; Frach, Peter
Aufsatz in Buch
2014Roughness and optical losses of rugate coatings
Herffurth, Tobias; Trost, Marcus; Schröder, Sven; Täschner, Kerstin; Bartzsch, Hagen; Frach, Peter; Duparré, Angela; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2014Sputter deposition of dielectric films for high temperature sensor applications
Bartzsch, H.; Frach, P.; Gloss, D.; Barth, S.
Konferenzbeitrag
2014Sputter deposition of piezoelectric AlN and AlScN films for ultrasonic and energy harvesting applications
Barth, Stefan; Glöß, Daniel; Bartzsch, Hagen; Juuti, J.; Gerlach, Gerald; Suchaneck, Günther; Heuer, Henning; Walter, Susan; Herzog, Thomas; Frach, Peter; Palosaari, J.
Konferenzbeitrag
2014Sputter deposition of stress-controlled piezoelectric AlN and AlScN films for ultrasonic and energy harvesting applications
Barth, Stefan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Walter, Susann; Herzog, Thomas; Frach, Peter; Heuer, Henning
Zeitschriftenaufsatz
2014Synthesis and deposition of metal nanoparticles by gas condensation process
Maicu, Marina; Schmittgens, Ralf; Hecker, Dominic; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Gerlach, Gerald
Zeitschriftenaufsatz
2014Synthesis and deposition of metal nanoparticles by gas phase condensation process
Glöß, Daniel; Maicu, Marina; Schmittgens, Ralph; Hecker, Dominic; Frach, Peter; Gerlach, Gerald
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2014Synthesis and Deposition of Metal Nanoparticles by Gas Phase Condensation Process
Glöß, Daniel; Maicu, Marina; Frach, Peter; Schmittgens, Ralph; Hecker, Dominik; Gerlach, Gerald
Konferenzbeitrag
2014Verfahren zum Abscheiden einer Schicht auf einer organischen Halbleiterschicht
Bartzsch, Hagen; Frach, Peter; Fahlteich, John; Gottfried, Christian
Patent
2013High power density pulse magnetron sputtering - process and film properties
Frach, Peter; Gottfried, Christian; Fietzke, Fred; Klostermann, Heidrun; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel
Konferenzbeitrag
2013Plasma deposition of hydrophobic coatings on structured surfaces for condensation and heat transfer
Glöß, Daniel; Frach, Peter; Maicu, Marina; Holst, Emmy; Schmittgens, Ralf; Gerlach, Gerald; Lu, Chen; Roch, T.; Bieda, M.; Lasagni, A.; Beckmann, M.
Konferenzbeitrag
2013Reactive magnetron sputter technologies for precision optical coatings
Frach, P.; Bartzsch, H.; Gloess, D.; Taeschner, K.; Liebig, J.-S.
Konferenzbeitrag
2013Roughness and optical losses of rugate coatings
Herffurth, Tobias; Trost, Marcus; Schröder, Sven; Täschner, Kerstin; Bartzsch, Hagen; Frach, Peter; Duparré, Angela; Tünnermann, Andreas
Konferenzbeitrag
2013Sputter deposition of stress controlled piezoelectric AlN and AlScN films for ultrasonic and energy harvesting applications
Barth, Stephan; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Frach, Peter; Herzog, Thomas; Walter, Susan; Heuer, Henning
Konferenzbeitrag
2012Low demage magnetron sputtering of TCO films
Bartzsch, H.; Glöß, D.; Frach, P.; Gittner, M.; Gottfried, C.; Suzuki, K.
Konferenzbeitrag
2012Magnetron assisted PECVD process for deposition of a-Si:H and µc-Si:H from a silane-hydrogen-argon gas mixture
Frach, P.; Pötschick, P.; Bartzsch, H.; Delan, A.
Konferenzbeitrag
2012A novel nanoparticle source for vacuum deposition
Schmittgens, R.; Holst, E.; Gerlach, G.; Bartzsch, H.; Glöß, D.; Maicu, M.; Frach, P.
Konferenzbeitrag
2012Präzisionsbeschichtung für Optik, Sensorik und Elektronik
Frach, Peter; Potinecke, Thomas; Slama, Alexander; Bartzsch, Hagen; Glöß, Daniel; Mehlstäubl, Marita
Aufsatz in Buch
2012Pulse Magnetron Sputtering with high power density-an attempt at a critical evaluation
Frach, P.; Gottfried, C.; Fietzke, F.; Klostermann, H.; Bartzsch, H.; Glöß, D.
Konferenzbeitrag
2012Pulse Magnetron Sputtering with High Power Density-Process and Film Properties
Frach, P.; Gottfried, C.; Fietzke, F.; Klostermann, H.; Bartzsch, H.; Gloess, D.
Konferenzbeitrag
2012Reactive pulse magnetron sputtering for deposition of piezoelectric AlN layers
Glöß, D.; Bartzsch, H.; Gittner, M.; Frach, P.; Herzog, T.; Walter, S.; Heuer, H.
Konferenzbeitrag
2012Scratch resistant optical coatings on polymers by magnetron-plasma-enhanced chemical vapor deposition
Täschner, K.; Bartzsch, H.; Frach, P.; Schultheiss, E.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2011Anti-infective coatings based on dispersed TiO2 nanoparticles in polymer matrices
Rothe, H.; Glöß, D.; Frach, P.; Rose, K.; Kron, J.; Liefeith, K.
Zeitschriftenaufsatz
2011High rate reactive sputter deposition of TiO2 films for photocatalyst and dye-sensitized solar cells
Sato, Y.; Hashimoto, T.; Miyamura, A.; Ohno, S.; Oka, N.; Suzuki, K.; Glöß, D.; Frach, P.; Shigesato, Y.
Zeitschriftenaufsatz
2011Photocatalytic TiO2 films deposited by different methods
Vergöhl, M.; Althues, H.; Frach, P.; Glöß, D.; Graumann, T.; Hübner, C.; Neumann, F.; Neubert, T.; Schottner, G.; Song, D.-K.
Zeitschriftenaufsatz
2011Process control in sputtering of optical coatings
Frach, P.; Bartzsch, H.; Glöß, D.; Täschner, K.
Konferenzbeitrag
2011Properties of piezoelectric AlN layers deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Gittner, M.; Glöß, D.; Frach, P.; Herzog, T.; Walter, S.; Heuer, H.
Konferenzbeitrag
2010Advanced key technologies for magnetron sputtering and PECVD of inorganic and hybrid transparent coatings
Frach, P.; Glöß, D.; Bartzsch, H.; Täschner, K.; Liebig, J.; Schultheiss, E.
Zeitschriftenaufsatz
2010Measurement of the photocatalytic activity of TiO2 films deposited by different methods
Vergöhl, M.; Althues, H.; Frach, P.; Glöß, D.; Graumann, T.; Hübner, C.; Neumann, F.; Neubert, T.; Schottner, G.; Song, D.K.
Konferenzbeitrag
2010Multifunctional optical coatings on polymers deposited by pulse magnetron sputtering and magnetron enhanced PECVD
Frach, P.; Bartzsch, H.; Täschner, K.; Liebig, J.-S.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2010Scratch resistant optical coatings on polymers by magnetron-PECVD
Taeschner, K.; Bartzsch, H.; Frach, P.; Schultheiß, E.
Konferenzbeitrag
2010Verfahren zum Abscheiden dielektrischer Schichten im Vakuum sowie Verwendung des Verfahrens
Bartzsch, H.; Frach, P.; Fahland, M.; Gottfried, C.; Pötschick, P.
Patent
2009Electrical insulation properties of sputter-deposited SiO2, Si3N4 and Al2O3 films at room temperature and 400 degrees C
Bartzsch, H.; Glöß, D.; Frach, P.; Gittner, M.; Schultheiß, E.; Brode, W.; Hartung, J.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2009Highly insulating Al2O3, SiO2, and Si3N4 films for sensor applications deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Frach, P.; Bartzsch, H.; Glöß, D.; Gittner, M.; Schultheiß, E.; Brode, W.; Hartung, J.
Konferenzbeitrag
2009Multifunctional optical coatings on polymers deposited by pulse magnetron sputtering and magnetron enhanced PECVD
Frach, P.; Bartzsch, H.; Taeschner, K.; Liebig, J.; Schultheiß, E.
Konferenzbeitrag
2008Effect of structure and morphology on photocatalytic properties of TiO2 layers
Zywitzki, O.; Modes, T.; Frach, P.; Glöß, D.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2008Electrically insulating Al2O3 and SiO2 films for sensor and photovoltaic applications deposited by reactive pulse magnetron sputtering, hollow cathode arc activated deposition and magnetron-PECVD
Frach, P.; Bartzsch, H.; Glöß, D.; Fahland, M.; Händel, F.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2008Multifunctional high-reflective and antireflective layer systems with easy-to-clean properties
Glöß, D.; Frach, P.; Gottfried, C.; Klinkenberg, S.; Liebig, J.-S.; Hentsch, W.; Liepack, H.; Krug, M.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2008Reactive magnetron sputter technologies for precision optical and antireflective coatings on glass and polymer substrates
Bartzsch, H.; Frach, P.; Lau, K.; Weber, J.
Konferenzbeitrag
2008Reactive pulse magnetron sputtered SiOxNy coatings on polymers
Lau, K.; Weber, J.; Bartzsch, H.; Frach, P.
Konferenzbeitrag
2008Sputter deposition of silicon oxynitride gradient and multilayer coatings
Weber, J.; Bartzsch, H.; Frach, P.
Zeitschriftenaufsatz
2008Sputter process with time-variant reactive gas mixture for the deposition of optical multilayer and gradient layer systems
Bartzsch, H.; Weber, J.; Lau, K.; Glöß, D.; Frach, P.
Konferenzbeitrag
2008Verfahren zum Abscheiden einer Gradientenschicht auf einem Kunststoffsubstrat sowie Kunststoffsubstrat mit einer Gradientenschicht
Bartzsch, H.; Taeschner, K.; Meyer, B.; Frach, P.; Kubusch, J.
Patent
2008Verfahren zum Abscheiden einer Kratzschutzbeschichtung auf einem Kunststoffsubstrat
Bartzsch, H.; Frach, P.; Taeschner, K.; Gloess, D.; Gottfried, C.; Fahland, M.
Patent
2007Chic und funktional. Dünne Funktionsschichten für die Veredelung großflächiger Konstruktionsmaterialien im Innen- und Außenbereich
Rögner, F.-H.; Metzner, C.; Scheffel, B.; Fietzke, F.; Frach, P.; Hübner, C.
Zeitschriftenaufsatz
2007Physikalisch-chemische und mikrobiologische Wirkung gesputterter photokatalytischer Titanoxid-Schichten
Frach, P.; Glöß, D.; Vergöhl, M.; Hund-Rinke, K.; Trick, I.
Zeitschriftenaufsatz
2007Plasma for surface technology - examples of current developments
Bräuer, G.; Diehl, W.; Frach, P.; Kirchhoff, V.; Sittinger, V.; Szyszka, B.; Vergöhl, M.
Konferenzbeitrag
2007Plasma for surface technology - examples of current developments
Bräuer, G.; Diehl, W.; Frach, P.; Kirchhoff, V.; Sittinger, B.; Szyszka, B.; Vergöhl, M.
Konferenzbeitrag
2007Process technology, applications and potentials of magnetron sputtering technology for optical coatings
Vergöhl, M.; Frach, P.; Bartzsch, H.; Pflug, A.; Rickers, C.
Konferenzbeitrag
2006"SV in-line" equipment concept with uninterrupted stream of substrate carriers for reactive sputtered optical multi layer coatings
Hentsch, W.; Fendler, R.; Krug, M.; Liepack, H.; Goedicke, K.; Frach, P.; Gottfried, C.
Konferenzbeitrag
2006A controlled pulsed reactive magnetron sputtering process for oxide film deposition
Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Herrmann, M.; Welzel, T.; Richter, F.; Krause, U.; Kopte, T.; Peters, C.; Frach, P.; Cheng, Y.
Konferenzbeitrag
2006Decomposition ability and bioactivity of photocatalytic TiO2 based layers prepared by reactive pulse magnetron sputtering
Frach, P.; Glöß, D.; Zywitzki, O.; Vergöhl, M.; Neumann, F.; Hund-Rinke, K.; Trick, I.
Konferenzbeitrag
2006Deposition of photocatalytic TiO2 layers by pulse magnetron sputtering and by plasma-activated evaporation
Frach, P.; Glöß, D.; Metzner, C.; Modes, T.; Scheffel, B.; Zywitzki, O.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2006Effect of magnetron sputtered semiconducting TiO2 layers on the performance of dye sensitized solar cells
Frach, P.; Klinkenberg, S.; Kuang, D.; Zakeerruddin, S.-M.; Murakami,T.-N.; Liska, P.; Grätzel, M.
Konferenzbeitrag
2006Elektrode fuer elektrochemische Farbstoffzelle und Verfahren zum Herstellen derselben
Frach, P.; Gloess, D.; Klinkenberg, S.; Kopte, T.; Fahland, M.; Metzner, C.; Zywitzki, O.; Scheffel, B.
Patent
2006High rate deposition of tin-doped indium oxide films by reactive magnetron sputtering with unipolar pulsing and plasma emission feedback systems
Ohno, S.; Kawaguchi, Y.; Miyamura, A.; Sato, Y.; Song, P.K.; Yoshikawa, M.; Frach, P.; Shigesato, Y.
Zeitschriftenaufsatz
2006Innovations in stationary magnetron sputtering of optical coatings
Bartzsch, H.; Frach, P.; Weber, J.
Konferenzbeitrag
2006Multi-functional high-reflective and anti-reflective layer systems with easy-to-clean properties
Glöß, D.; Frach, P.; Gottfried, C.; Klinkenberg, S.; Liebig, J.-S.; Hentsch, W.; Liepack, H.; Krug, M.
Konferenzbeitrag
2006Nutzung des Pulsmodus als technologischer Parameter beim reaktiven Puls Magnetron Sputtern
Frach, P.; Bartzsch, H.; Glöß, D.; Kirchhoff, V.
Konferenzbeitrag
2006Oberflaechenveredeltes Objekt, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Objektes
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Gloess, D.; Frach, P.
Patent
2006Photocatalytic TiO2 films deposited by reactive magnetron sputtering with unipolar pulsing and plasma emission control systems
Ohno, S.; Takasawa, N.; Sato, Y.; Yoshikawa, M.; Suzuki, K.; Frach, P.; Shigesato, Y.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2006Pulse magnetron sputtering in a reactive gas mixture of variable composition to manufacture multilayer and gradient optical coatings
Lange, S.; Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2006Verfahren zum Vakuumbeschichten mit einer photohalbleitenden Schicht und Anwendung des Verfahrens
Frach, P.; Gloess, D.; Goedicke, K.; Klinkenberg, S.; Gottfried, C.; Kirchhoff, V.
Patent
2005Deposition of broadband antireflection coatings on plastic substrates by evaporation and reactive pulse magnetron sputtering
Weber, J.; Schulz, U.; Kaiser, N.; Bartzsch, H.; Frach, P.
Konferenzbeitrag
2005Easy-to-clean coatings produced by high-rate pulse magnetron sputtering and plasma-activated evaporation
Glöß, D.; Frach, P.; Metzner, C.; Modes, T.; Zywitzki, O.; Scheffel, B.
Konferenzbeitrag
2005Einrichtung zum Beschichten eines stationaer angeordneten Substrats durch Puls-Magnetron-Sputtern
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.
Patent
2005Innovative stationary and in-line sputter technologies for precision optical coatings
Frach, P.; Bartzsch, H.; Liebig, J.
Konferenzbeitrag
2005Innovative stationary sputter technologies for precision optical and antireflection coatings
Bartzsch, H.; Frach, P.; Hentsch, W.
Konferenzbeitrag
2005Photocatalytic titanium dioxide thin films prepared by reactive pulse magnetron sputtering at low temperature
Glöß, D.; Frach, P.; Zywitzki, O.; Modes, T.; Klinkenberg, S.; Gottfried, C.
Zeitschriftenaufsatz
2005Photokatalytische Eigenschaften von gesputterten dotierten TiO2 Schichten
Vergöhl, M.; Neumann, F.; Frach, P.; Glöß, D.
Konferenzbeitrag
2005Precision optical and antireflection multilayer and gradient coatings containing reactively sputtered oxides, nitrides and fluorides
Bartzsch, H.; Frach, P.; Weber, J.; Liebig, J.-S.
Konferenzbeitrag
2005Transparente und farbige Kratzschutzschichten
Metzner, C.; Morgner, H.; Scheffel, B.; Fietzke, F.; Frach, P.
Zeitschriftenaufsatz
2005Verfahren zur Herstellung eines Duennschichtsystems durch Puls-Magnetron-Sputtern
Goedicke, K.; Frach, P.; Bartzsch, H.; Kirchhoff, V.; Labitzke, R.
Patent
2005Vorrichtung und Verfahren zum Aufbringen eines Duennschichtsystems mittels Zerstaeuben
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Lange, S.
Patent
2004Einrichtung und Verfahren zum Beschichten von Substraten
Frach, P.; Bartzsch, H.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Liebig, J.; Kirchhoff, V.
Patent
2004Einrichtung zum Beschichten durch Magnetron-Sputtern
Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Frach, P.
Patent
2004Getting smarter
Neumann, F.; Vergöhl, M.; Frach, P.; Glöß, D.
Zeitschriftenaufsatz
2004Graded refractive index layer systems for antireflective coatings and rugate filters deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Lange, S.; Frach, P.; Goedicke, K.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2004Katodenzerstaeubungsverfahren
Bartzsch, H.; Gottfried, C.; Frach, P.; Goedicke, K.; Lange, S.
Patent
2004Photocatalytic properties of doped TiO2 and of Ti-based mixed oxide thin films prepared by reactive pulse magnetron sputtering
Vergöhl, M.; Frach, P.; Neumann, F.; Hunsche, B.; Glöß, D.
Konferenzbeitrag
2004Photocatalytic properties of TiO2 films deposited by reactive sputtering in mid-frequency mode with dual cathodes
Ohno, S.; Sato, D.; Kon, M.; Sato, Y.; Yoshikawa, M.; Frach, P.; Shigesato, Y.
Zeitschriftenaufsatz
2004Pulse magnetron sputtering in a reactive gas mixture of variable composition to manufacture multilayer and gradient optical coatings
Lange, S.; Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.
Konferenzbeitrag
2004Silicon oxynitride rugate filters grown by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Lange, S.; Frach, P.; Goedicke, K.
Konferenzbeitrag
2004Structure and properties of crystalline titanium oxide layers deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Zywitzki, O.; Modes, T.; Sahm, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gloss, D.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2004Transparente und farbige Kratzschutzschichten für Anwendungen im Innen-und Außenbereich
Metzner, C.; Morgner, H.; Scheffel, B.; Fietzke, F.; Frach, P.
Konferenzbeitrag
2004Ultra high-rate deposition of photocatalytic TiO2 films by reactive magnetron sputtering with unipolar pulsing and plasma emission control systems
Takasawa, N.; Ohno, S.; Sato, D.; Song, P.K.; Yoshikawa, M.; Suzuki, K.; Frach, P.; Shigesato, Y.
Konferenzbeitrag
2004Verfahren zum Bipolar-Magnetronsputtern
Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Frach, P.; Winkler, T.
Patent
2003Abscheidung optisch, elektrisch und akustisch wirksamer Schichten mit dem Doppel-Ring-Magnetron
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.
Zeitschriftenaufsatz
2003Effect of pulse mode in reactive magnetron sputtering on structure and properties of titanium dioxide films
Frach, P.; Glöß, D.; Goedicke, K.; Zywitzki, O.; Sahm, H.; Modes, T.
Konferenzbeitrag
2003Effect of pulse mode in reactive magnetron sputtering on structure and properties of titanium dioxide films
Frach, P.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Boecher, B.; Glöß, D.; Gottfried, C.
Konferenzbeitrag
2003High Quality Photocatalytic TiO2 Films Deposited by Reactive Sputtering in Mid-Frequency Mode with Dual Cathodes
Ohno, S.; Sato, D.; Kon, M.; Song, P.K.; Yoshikawa, M.; Suzuki, K.; Frach, P.; Shigesato, Y.
Konferenzbeitrag
2003High rate deposition of insulating TiO2 and conducting ITO films for optical and display applications
Frach, P.; Glöß, D.; Goedicke, K.; Fahland, M.; Gnehr, W.-M.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2003Impedance Control of Reactive Sputtering Process in Mid-Frequency Mode with Dual Cathodes to Deposit Al-Doped ZnO Films
Kon, M.; Song, P.K.; Shigesato, Y.; Frach, P.; Ohno, S.; Suzuki, K.
Zeitschriftenaufsatz
2003Plasma emission control of reactive sputtering process in mid-frequency mode with dual cathodes to deposit photocatalytic TiO2 films
Ohno, S.; Sato, D.; Kon, M.; Song, P.K.; Yoshikawa, M.; Suzuki, K.; Frach, P.; Shigesato, Y.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2003Properties of SiO2 and Al2O3 films for electrical insulation applications deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Glöß, D.; Bocher, B.; Frach, P.; Goedicke, K.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2002Al-doped ZnO films deposited by reactive magnetron sputtering in r.f. mode with a single cathode and m.f. mode with dual cathodes
Kon, M.; Shigesato, Y.; Song, P.K.; Frach, P.; Kojima, H.; Suzuki, K.
Zeitschriftenaufsatz
2002Energetic substrate bonbardment in reactive sputtering with flange-mounted magnetrons in different pulse modes
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.
Konferenzbeitrag
2002Ensuring long term stability of process and film parameters during target lifetime in reactive magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Böcher, B.; Gottfried, C.
Konferenzbeitrag
2002Rutile and anatase phase TiO2 films obtained on unheated substrates by matched pulse mode and pulse parameters in reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Klinkenberg, S.; Sahm, H.; Modes, T.
Konferenzbeitrag
2001Einrichtung zum Magnetronzerstaeuben
Frach, P.; Goedicke, K.; Holfeld, A.; Gottfried, C.
Patent
2001Einrichtung zum Magnetronzerstaeuben
Frach, P.; Goedicke, K.; Holfeld, A.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.
Patent
2001Einrichtung zur reaktiven Beschichtung
Frach, P.; Walde, H.; Gottfried, C.; Holfeld, A.; Goedicke, K.
Patent
2001Influence of the unipolar or bipolar pulse mode in reactive magnetron sputtering on the deposition and properties of optical films
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Klinkenberg, S.
Konferenzbeitrag
2001Modeling the stability of reactive sputtering processes
Bartzsch, H.; Frach, P.
Konferenzbeitrag
2001Stationary reactive pulse magnetron sputtering of optical multilayers and gradient layers on 8" substrates
Frach, P.; Bartzsch, H.; Goedicke, K.
Konferenzbeitrag
2001Verfahren und Einrichtung zur pulsfoermigen Energiezufuehrung fuer ein Niederdruckplasma und deren Anwendung
Frach, P.; Goedicke, K.; Junghaehnel, M.; Kirchhoff, V.; Winkler, T.; Handt, K.
Patent
2001A versatile coating tool for reactive in-line sputtering in different pulse modes
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Klinkenberg, S.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2000Al-doped ZnO films deposited by reactive magnetron sputtering in r.f. mode with a single cathode and m.f. mode with dual cathodes
Kon, M.; Shigesato, Y.; Song, P.K.; Frach, P.; Kojima, H.; Suzuki, K.
Konferenzbeitrag
2000Anode effects on energetic particle bombardment of the substrate in pulsed magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.
Konferenzbeitrag
2000ITO films deposited by dual magnetron sputtering (DMS) system using oxide targets
Shin, N.; Kon, M.; Song, P.K.; Shigesato, Y.; Frach, P.; Kojima, H.; Suzuki, K.; Utsumi, K.
Konferenzbeitrag
2000Thin films TiO2 photocatalysis deposited by dual cathode magnetron sputtering
Kuriki, S.; Kon, M.; Sing, P.K.; Shigesato, Y.; Frach, P.; Kojima, H.; Suzuki, K.
Konferenzbeitrag
1999Different pulse techniques for stationary reactive sputtering with double ring magnetron
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.
Zeitschriftenaufsatz
1998Transformer-free semiconductor switches for the energization of a pulsed PVD plasma
Reschke, J.; Goedicke, K.; Junghähnel, M.; Frach, P.; Mark, G.
Konferenzbeitrag
1998Verfahren zur reaktiven Beschichtung
Frach, P.; Gottfried, C.; Walde, H.; Goedicke, K.
Patent
1997Advanced possibilities for the stationary coating of substrates by means of pulsed magnetron sputtering
Schiller, S.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Frach, P.
Konferenzbeitrag
1997The double ring magnetron process module - a tool for stationary deposition of metals, insulators and reactive sputtered compounds
Frach, P.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Goedicke, K.
Zeitschriftenaufsatz
1997Verfahren zum Aufbringen von Kohlenstoffschichten durch reaktives Magnetron-Sputtern
Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Goedicke, K.; Frach, P.; Mueller, M.; Haese, F.; Strecker, H.; Meyer, D.W.
Patent
1996Numerical modelling of charged particle motion in electric and magnetic fields to assist magnetron design
Liebig, J.-S.; Frach, P.; Bartzsch, H.; Schulze, D.; Schwanbeck, H.
Konferenzbeitrag
1996Verfahren und Schaltung zur bipolaren pulsfoermigen Energieeinspeisung in Niederdruckplasmen
Walde, H.; Reschke, J.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Kirchhoff, V.; Frach, P.
Patent
1995Advantageous possibilities, design aspects and technical use of double ring magnetron sputter source
Frach, P.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Gottfried, C.; Walde, H.; Hentsch, W.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
1993Aspects and results of long-term stable deposition of Al2O3 with high-rate pulsed reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Heisig, U.; Gottfried, C.; Walde, H.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
1993Einrichtung zum Aufbringen elektrisch schlecht leitender oder isolierender Schichten durch reaktives Magnetronsputtern
Gottfried, C.; Walde, H.; Frach, P.; Heisig, U.
Patent
1992Zerstaeubungseinrichtung
Heisig, U.; Frach, P.; Liebergeld, H.; Holfeld, A.; Winkler, T.
Patent
1992Zerstaeubungseinrichtung
Heisig, U.; Frach, P.; Goedicke, K.
Patent