Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2011Lewis-base copper(I) formates: Synthesis, reaction chemistry, structural characterization and their use as spin-coating precursors for copper deposition
Tuchscherer, A.; Shen, Y.; Jakob, A.; Mothes, R.; Al-Anber, M.; Walfort, B.; Rüffer, T.; Frühauf, S.; Ecke, R.; Schulz, S.E.; Gessner, T.; Lang, H.
2010Disilver(I) coordination complexes: Synthesis, reaction chemistry, and their potential use in CVD and spin-coating processes for silver deposition
Jakob, A.; Rüffer, T.; Schmidt, H.; Djiele, P.; Körbitz, K.; Ecorchard, P.; Haase, T.; Kohse-Hoeinghaus, K.; Frühauf, S.; Wächtler, T.; Schulz, S.; Gessner, T.; Lang, H.
2007Novel Copper(I) and Silver(I) Complexes as Precursors for Chemical Vapor Deposition and Spin-Coating of Copper and Silver
Frühauf, S.; Gessner, T.; Haase, T.; Jakob, A.; Kohse-Hoeinghaus, K.; Lang, H.; Schulz, S.E.; Wächtler, T.
2005The current limits of the laser-acoustic test method to characterize low-k films
Schneider, D.; Frühauf, S.; Schulz, S.E.; Gessner, T.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2005Scaling down thickness of ULK materials for 65 nm node and below and its effect on electrical performance
Frühauf, S.; Himcinschi, C.; Rennau, M.; Schulze, K.; Schulz, S.E.; Friedrich, M.; Gessner, T.; Zahn, D.R.T.; Le, Q.T.; Caluwaerts, R.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2004Contributions to the static dielectric constant of low-k xerogel films derived from ellipsometry and IR spectroscopy
Himcinschi, C.; Friedrich, M.; Frühauf, S.; Schulz, S.E.; Gessner, T.; Zahn, D.R.T.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2004Improvement of mechanical integrity of ultra low k dielectric stack and CMP compatibility
Schulze, K.; Schulz, S.E.; Frühauf, S.; Körner, H.; Seidel, U.; Schneider, D.; Gessner, T.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz