Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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2009PML2: The maskless multibeam solution for the 22nm node and beyond
Klein, C.; Platzgummer, E.; Klikovits, J.; Piller, W.; Loeschner, H.; Bejdak, T.; Dolezel, P.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.; Jaschinsky, P.; Thrum, F.; Hohle, C.; Kretz, J.; Nogatch, J.T.; Zepka, A.
Konferenzbeitrag
2008Projection maskless lithography (PML2)
Klein, C.; Platzgummer, E.; Loeschner, H.; Gross, G.; Dolezel, P.; Tmej, M.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.
Konferenzbeitrag