Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Smart components by additive technologies
Dani, Ines
Konferenzbeitrag
2018Gestaltung eines Wetter- und Diebstahlsicheren Fahrradunterstands für Mitarbeiter des Fraunhofer IWU Chemnitz
Ahner, Carl
: Dani, Ines
Bachelor Thesis
2017Beschäftigungseffekte in Deutschland durch Leichtbau im Automobilbereich
Abdelkafi, Nizar; Pohle, Anna; Täuscher, Karl; Dornbusch, Friedrich; Gaska, Philip; Dani, Ines; Hipke, Thomas; Drebenstedt, Claudia
Vortrag
2017Entwicklung eines Systems zur kontaminationsfreien Multimaterialfertigung im Laser-Strahlschmelzen
Kordaß, Richard; Jaretzki, Martin; Dani, Ines
Konferenzbeitrag
2017Pastenunterstützte Hybridverfahren. Ein Ansatz zur additiven Multimaterialverarbeitung
Dani, Ines; Kordaß, Richard; Jaretzki, Martin
Konferenzbeitrag
2017Verbundwerkstoffe aus Aluminiumschaum und metallischer Bewehrung für energieabsorbierende Anwendungen
Rybandt, Susi; Hohlfeld, Jörg; Vogel, René; Dani, Ines; Hipke, Thomas
Konferenzbeitrag
2017Verfahren und Vorrichtung zur generativen Herstellung von dreidimensionalen Verbundbauteilen
Dani, Ines; Kordaß, Richard
Patent
2016Dispenser and aerosoljet printed electrical functionalities
Dani, Ines; Stepien, Lukas; Greifzu, Moritz; Roch, Aljoscha; Leyens, Christoph
Konferenzbeitrag
2016Fully organic Aerosoljet printed piezoelectric sensor
Starruß, Elisa; Greifzu, Moritz; Roch, Aljoscha; Dani, Ines; Leyens, Christoph
Poster
2016Investigation of the thermoelectric power factor of KOH-treated PEDOT:PSS dispersions for printing applications
Stepien, Lukas; Roch, Aljoscha; Schlaier, Sarah; Dani, Ines; Kiriy, Anton; Simon, Frank; Lukowicz, Marian v.; Leyens, Christoph
Zeitschriftenaufsatz
2016Optimized design for flexible polymer thermoelectric generators
Aranguren, Patricia; Roch, Aljoscha; Stepien, Lukas; Abt, Marvin; Lukowicz, Marian von; Dani, Ines; Astrain, David
Zeitschriftenaufsatz
2016Thermoelectric PEDOT:PSS and single-walled carbon nanotubes composites for printing applications
Leisten, Judith; Stepien, Lukas; Roch, Aljoscha; Dani, Ines; Leyens, Christoph
Vortrag
2015Additive manufacturing of electrical functionalities
Dani, Ines
Vortrag
2015Ambient effects on the electrical conductivity of carbon nanotubes
Roch, Aljoscha; Greifzu, Moritz; Talens, Esther; Stepien, Lukas; Roch, Teja; Hege, Judith; Nong, Ngo Van; Schmiel, Tino; Dani, Ines; Leyens, Christoph; Jost, Oliver; Leson, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2015Laserdotieren als mögliche Alternative zur Ionenimplantation zur Erzeugung definierter Dotierprofile
Schilling, Niels; Linaschke, Dorit; Dani, Ines
Konferenzbeitrag
2015Thermoelekrischer Generator und Verfahren zur Herstellung eines thermoelektrischen Generators
Dani, Ines; Roch, Aljoscha; Stepien, Lukas
Patent
2015Thermoelektrische Generatoranordnung
Dani, Ines; Roch, Aljoscha; Stepien, Lukas
Patent
2015Via hole conditioning in silicon heterojunction metal wrap through solar cells
Dirnstorfer, Ingo; Schilling, Niels; Körner, Stefan; Gierth, Paul; Waltinger, Andreas; Leszczynska, Barbara; Simon, Daniel K.; Gärtner, Jan; Jordan, Paul M.; Mikolajick, Thomas; Dani, Ines; Eberstein, Markus; Rebenklau, Lars; Krause, Jens
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2014Development of silicon heterojunction metal wrap through solar cells
Dirnstorfer, Ingo; Schilling, Niels; Körner, Stefan; Gierth, Paul; Sontag, Detlef; Jordan, Paul M.; Simon, Daniel K.; Fengler, Franz P.G.; Mikolajick, Thomas; Linaschke, Dorit; Dani, Ines; Marcinkowski, Manja; Eberstein, Markus; Rebenklau, Lars; Partsch, Uwe
Konferenzbeitrag
2014Highly n-doped surfaces on n-type silicon wafers by laser-chemical processes
Linaschke, Dorit; Schilling, Niels; Dani, Ines; Klotzbach, Udo; Leyens, Christoph
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2014Optical absorption spectroscopy and properties of single walled carbon nanotubes at high temperature
Roch, Aljoscha; Stepien, Lukas; Roch, Teja; Dani, Ines; Leyens, Christoph; Jost, Oliver; Leson, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2014Zusammenstellung für die Ausbildung eines reaktiven Schichtsystems oder Multischichtsystems sowie deren Verwendung
Dani, Ines; Roch, Aljoscha; Stepien, Lukas
Patent
2013Atmospheric pressure PECVD based on a linearly extended DC arc for adhesion promotion applications
Kotte, L.; Althues, H.; Mäder, G.; Roch, J.; Kaskel, S.; Dani, I.; Mertens, T.; Gammel, F.J.
Zeitschriftenaufsatz
2013Energy turnaround: Printing of thermoelectric generators
Dani, Ines; Roch, Aljoscha; Stepien, Lukas; Leyens, Christoph; Greifzu, Moritz; Lukowicz, Marian von
Konferenzbeitrag
2011Großflächige Atmosphärendruck PECVD bei variablem Arbeitsabstand
Kotte, L.; Dani, I.; Althues, H.; Kaskel, S.
Konferenzbeitrag
2011Grundlegende Untersuchungen zum Einsatz von Atmosphärendruck-Plasmaquellen zur inline-Beschichtung von Solarzellen (PLASMACELL), Teilprojekt: Untersuchung und Optimierung von Plasmaprozessen bei Atmosphärendruck
Dani, I.
Bericht
2011Oberflächenbehandlung für Klebprozesse
Jansen, I.; Dani, I.; Kotte, L.
Konferenzbeitrag
2011Plasmachemisches Ätzen und Beschichten bei Atmosphärendruck: Anwendungen in der kristallinen Siliziumphotovoltaik
Lopez, E.; Linaschke, D.; Dresler, B.; Dani, I.; Leyens, C.; Beyer, E.
Zeitschriftenaufsatz
2011Tuning the rear side morphology of crystalline silicon solar cells by plasma chemical etching at atmospheric pressure for maximal light trapping effect
Poruba, A.; Senkyi, J.; Cech, P.; Wostry, P.; Barinova, P.; Barinka, R.; Purkrt, A.; Vanecek, M.; Lopez, E.; Mäder, G.; Dresler, B.; Dani, I.; Franta, D.; Necas, D.
Konferenzbeitrag
2010Großflächiges plasmachemisches Ätzen bei Atmosphärendruck
Dani, I.; Lopez, E.; Linaschke, D.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Konferenzbeitrag
2010Plasma etching of SnO2: F films at atmospheric pressure for silicon thin film solar cells
Lopez, E.; Dresler, B.; Leupolt, B.; Dani, I.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Abstract
2009Atmosphärendruck-Plasmabehandlung von Polypropylen zur Haftungsverbesserung
Dani, I.; Kotte, L.; Grabau, P.; Leupolt, B.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Konferenzbeitrag
2009Atmosphärendruck-Plasmabehandlung von Polypropylen zur Haftungsverbesserung
Dani, I.; Kotte, L.; Grabau, P.; Leupolt, B.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Vortrag
2009Atmospheric pressure plasma processes for crystalline silicon wafer production
Dani, I.; Lopez, E.; Dresler, B.; Linaschke, D.; Leistner, M.; Grählert, W.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Aufsatz in Buch
2009Atmospheric-Pressure Plasmas for Solar Cell Manufacturing
Dani, I.; Mäder, G.; Grabau, P.; Dresler, B.; Linaschke, D.; Lopez, E.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Zeitschriftenaufsatz
2009In-line plasma-chemical etching of crystalline silicon solar wafers at atmospheric pressure
Linaschke, D.; Leistner, M.; Grabau, P.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Zeitschriftenaufsatz
2009Recent and future applications of atmospheric pressure plasma technology in Germany
Thomas, M.; Dani, I.; Lommatzsch, U.; Grünler, B.; Schulz-von der Gathen, V.; Viöl, W.; Weltmann, K.-D.; Klages, C.-P.
Konferenzbeitrag
2009Trockenätzen von Solarwafern mit Oberflächenstrukturen im sub-Mikrometer Bereich
Dani, I.; Lopez, E.; Linaschke, D.; Kaskel, S.; Beyer, E.
Konferenzbeitrag
2009Vertical aligned carbon nanotube deposition on metallic substrates by CVD
Dörfler, S.; Meier, A.; Althues, H.; Dani, I.; Kaskel, S.
Konferenzbeitrag
2008In-line plasma-chemical etching of crystalline silicon wafers
Linaschke, D.; Leistner, M.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.
Zeitschriftenaufsatz
2008Mikrowellenplasmaquelle und Verfahren zur Bildung eines linear langgestreckten Plasma bei Atmosphaerendruckbedingen
Roch, J.; Dani, I.; Kaskel, S.
Patent
2008Plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for crystalline silicon wafer processing and process control by in-line FTIR gas spectroscopy
Linaschke, D.; Leistner, M.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.; Lopez, E.; Hopfe, V.; Kirschmann, M.; Frenck, J.
Konferenzbeitrag
2008Plasma enhanced CVD and plasma chemical etching at atmospheric pressure for continuous processing of crystallien silicon solar wafers
Lopez, E.; Dresler, B.; Mäder, G.; Dani, I.; Hopfe, V.; Kaskel, S.; Heintze, M.; Möller, R.; Wanka, H.; Kirschmann, M.; Frenck, J.; Poruba, A.; Barinka, R.; Dahl, R.; Nussbaumer, H.
Konferenzbeitrag
2008Silicon nitride films deposited by atmospheric pressure microwave PECVD
Dresler, B.; Roch, J.; Leupolt, B.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Möller, R.
Konferenzbeitrag
2008Verfahren und Vorrichtung zum Zuenden eines Lichtbogens
Grabau, P.; Roch, J.; Hopfe, V.; Dani, I.
Patent
2008Verfahren zur Herstellung photokatalytisch aktiver Titandioxidschichten
Abendroth, T.; Althues, H.; Kaskel, S.; Dani, I.
Patent
2008Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Kohlenstoff-Nanoroehren oder Fullerenen
Maercz, M.; Leistner, M.; Hopfe, V.; Graehlert, W.; Dani, I.; Schultrich, B.
Patent
2007Dauerhaft schön - Kratzschutz durch Atmosphärendruck-Plasmaverfahren
Dani, I.; Kotte, L.; Tschoecke, S.; Linaschke, D.; Rogler, D.; Hopfe, V.
Zeitschriftenaufsatz
2007In-line plasma etching at atmospheric pressue for edge isolation in crystalline Si solar cells
Heintze, M.; Hauser, A.; Möller, R.; Wanka, H.; Lopez, E.; Dani, I.; Hopfe, V.; Müller, J.W.; Huwe, A.
Konferenzbeitrag
2007Mikrowellen-PECVD für kontinuierliche Großflächenbeschichtung bei Atmosphärendruck
Dani, I.; Tschöcke, S.; Kotte, L.; Mäder, G.; Dresler, B.; Hopfe, V.
Zeitschriftenaufsatz
2007New developments in plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for crystalline silicon wafer processing
Lopez, E.; Beese, H.; Mäder, G.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Moeller, R.; Wanka, H.; Kirschmann, M.; Frenck, J.A. et al.
Konferenzbeitrag
2007PECVD and plasma etching at atmospheric pressure by means of a linearly-extended DC arc plasma source
Dani, I.; Hopfe, V.; Rogler, D.; Lopez, E.; Mäder, G.
Zeitschriftenaufsatz
2007Photocatalytic active titania - Deposition with atmospheric pressure plasma technology
Dani, I.; Kotte, L.; Abendroth, T.; Hopfe, V.
Zeitschriftenaufsatz
2007Verfahren zur Entfernung einer dotierten Oberflaechenschicht an Rueckseiten von kristallinen Silizium-Solarwafern
Hopfe, V.; Dani, I.; Rosina, M.; Heintze, M.; Moeller, R.; Wanka, H.; Lopez, E.
Patent
2007Wirtschaftlicher Solarstrom - Atmosphärendruck-Plasmaverfahren in der Photovoltaik
Dani, I.; Dresler, B.; Lopez, E.; Hopfe, V.
Zeitschriftenaufsatz
2006Atmosphärendruck-PECVD-Prozesse zur Abscheidung kohlenstoffbasierter Schichten
Dani, I.; Linaschke, D.; Hopfe, V.
Konferenzbeitrag
2006Atmospheric pressure PECVD and atmospheric plasma chemical etching for continuous processing of crystalline silicon solar wafers
Hopfe, V.; Dani, I.; Lopez, E.; Rosina, M.; Mäder, G.; Möller, R.; Wanka, H.; Heintze, M.
Konferenzbeitrag
2006ISPROM, ein in-situ-Multigasanalysator für CVD- und Ätzprozesse
Grählert, W.; Dani, I.; Mäder, G.; Throl, O.; Hopfe, V.; Pietsch, K.; Wünsche, T.; Dreyer, T.
Konferenzbeitrag
2006Plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for silicon wafer processing
Lopez, E.; Dani, I.; Hopfe, V.; Wanka, H.; Heintze, M.; Möller, R.; Hauser, A.
Konferenzbeitrag
2006Plasma etching at atmospheric pressure for rear emitter removal in crystalline Si solar cells
Lopez, E.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Hauser, A.; Möller, R.; Wanka, H.
Konferenzbeitrag
2006Plasmachemische Gasphasenabscheidung und Plasmaätzen bei Atmosphärendruck mittels einer linear ausgedehnten DC-Bogenplasmaquelle
Dani, I.; Hopfe, V.; Rogler, D.; Lopez, E.; Mäder, G.
Zeitschriftenaufsatz
2006Transparente Kratzschutzschichten mittels Plasma-CVD bei Atmosphärendruck
Dani, I.; Hopfe, V.; Kotte, L.; Linaschke, D.; Rogler, D.; Tschöcke, S.
Zeitschriftenaufsatz
2006Verfahren zum selektiven plasmachemischen Trockenaetzen von auf Oberflaechen von Silicium-Wafern ausgebildetem Phosphorsilikatglas
Hopfe, V.; Dani, I.
Patent
2006Vorrichtung und Verfahren zur Ausbildung duenner Schichten auf Substratoberflaechen
Dresler, B.; Hopfe, V.; Dani, I.
Patent
2006Vorrichtung und Verfahren zur Ausbildung duenner Siliciumnitridschichten auf Oberflaechen von kristallinen Silicium-Solarwafern
Dresler, B.; Hopfe, V.; Dani, I.; Rosina, M.
Patent
2005Linear extended ArcJet-CVD - a new PECVD approach for continuous wide area coating under atmospheric pressure
Hopfe, V.; Rogler, D.; Mäder, G.; Dani, I.; Landes, K.; Theophile, E.; Dzulko, M.; Rohrer, C.; Reichhold, C.
Zeitschriftenaufsatz
2005Remote microwave PECVD for continuous, wide-area coating under atmospheric pressure
Hopfe, V.; Spitzl, R.; Dani, I.; Maeder, G.; Roch, L.; Rogler, D.; Leupolt, B.; Schöneich, B.
Zeitschriftenaufsatz