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| 2009 | Determination of cross-link density in ion-irradiated polystyrene surfaces from rippling
Karade, Y.; Pihan, S.A.; Brünger, W.H.; Dietzel, A.; Berger, R.; Graf, K. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2007 | Ion projection surface structuring with noble gas ions at 75 keV
Bruenger, W.H.; Dietzel, A.H.; Loeschner, H. | Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz |
| 2007 | Oriented nanometer surface morphologies by thermal relaxation of locally cross-linked and stretched polymer samples
Karade, Y.; Graf, K.; Brünger, W.H.; Dietzel, A.; Berger, R. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2006 | Verfahren zum Herstellen einer Nanostruktur auf einem Substrat
Bruenger, W.H.; Fink, D. | Patent |
| 2003 | Fabrication and electrical characteristics of carbon nanotube-based microcathodes for use in a parallel electron-beam lithography system
Brünger, W.H.; Eichholz, J.; Hanssen, H.; Friedrich, D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2003 | Ion projection direct-structuring for nanotechnology applications
Loeschner, H.; Fantner, E.J.; Korntner, R.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Zeininger, M.; Baglin, J.E.E.; Berger, R.; Brünger, W.H.; Dietzel, A.; Baraton, M.-I.; Merhari, L. | Konferenzbeitrag |
| 2003 | Large-field particle beam optics for projection and proximity printing and for maskless lithography
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Gross, G.; Fortagne, O.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2003 | Nanopatterning of magnetic disks by single-step ar+ ion projection
Dietzel, A.; Berger, R.; Loeschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Bruenger, W.H.; Letzkus, F. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2003 | Resistless deposition of metallic nanostructures on ion projection sensitized p-Si
Spiegel, A.; Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Schmuki, P. | Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz |
| 2002 | Evaluation of ion projection using heavy ions suitable for resistless patterning of thin magnetic films
Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Berger, R.; Grimm, H.; Dietzel, A.; Letzkus, F.; Springer, R. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2002 | Ion projection direct structuring for patterning of magnetic media
Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Letzkus, F.; Springer, R.; Löschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Bandic, Z.Z.; Terris, B.D. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2002 | Ion projection printing for patterning of magnetic media
Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Bruenger, W.H.; Dzionk, C.; Letzkus, F.; Springer, R.; Loeschner, H.; Platzgummer, E.; Terris, B.D. | Konferenzbeitrag |
| 2002 | Ion projection sensitized selective Cu electroplating on uncoated p-Si
Spiegel, A.; Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Schmuki, P. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2002 | Large-field ion-optics for projection and proximity printing and for mask-less lithography (ML2)
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C. | Konferenzbeitrag |
| 2002 | Nanocomposite resist systems for next-generation lithography
Merhari, L.; Gonsalves, K.E.; Hu, Y.; He, W.; Huang, W.S.; Angelopoulos, M.; Bruenger, W.H.; Dzionk, C.; Torkler, M. | Zeitschriftenaufsatz |
| 2002 | Resistless patterning of magnetic storage media using ion projection structuring
Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Schug, C.; Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Letzkus, F.; Springer, R.; Löschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Anders, S.; Bandic, Z.Z.; Rettner, C.T.; Terris, B.D.; Eichhorn, H.; Böhm, M.; Adam, D. | Konferenzbeitrag |
| 2001 | Carbon films for use as the electron source in a parallel e-Beam lithography system (NDFCT 353)
Milne, W.I.; Teo, K.B.K.; Chhowalla, M.; Amaratunga, G.A.; Yuan, J.; Robertson, J.; Legagneux, P.; Pirio, G.; Pribat, D.; Bouzehouane, K.; Brünger, W.H.; Trautmann, C. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1999 | Measuring acid generation efficiency in chemically amplified resists with all three beams
Szmanda, C.S.; Brainard, R.L.; Mackevich, J.F.; Awaji, A.; Tanaka, T.; Yamada, Y.; Bohland, J.; Tedesco, S.; Dal'Zotto, B.; Brünger, W.H.; Torkler, M.; Fallmann, W.; Löschner, H.; Käsmaier, R.; Nealey, P.M.; Pawloski, A.R. | Konferenzbeitrag |
| 1999 | Minimum ion-beam exposure-dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices
Brünger, W.H.; Torkler, M.; Weiss, M.; Löschner, H.; Leung, K.; Lee, Y.; Hudek, P.; Rangelow, J.W.; Stangl, G.; Fallmann, W. | Konferenzbeitrag |
| 1999 | Resolution improvement of ion projector with a low energy spread multicusp ion source
Brünger, W.H.; Torkler, M.; Leung, K.N.; Lee, Y.; Williams, M.D.; Löschner, H.; Stengl, G.; Fallmann, W.; Paschke, F.; Stangl, G.; Rangelow, J.W.; Hudek, P. | Konferenzbeitrag |
| 1998 | Plasma source for ion and electron beam lithography
Lee, Y.; Leung, K.N.; Fallmann, W.; Torkler, M.; Bruenger, W.H. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1997 | Chemically amplified deep ultraviolet resist for positive tone ion exposure
Brünger, W.H.; Torkler, M.; Buchmann, L.-M.; Finkelstein, W. | Konferenzbeitrag |
| 1997 | Contamination reduction in low voltage e-beam microscopy for dimensional metrology
Brünger, W.H.; Kleinschmidt, H.; Hassler-Grohne, W.; Bosse, H. | Konferenzbeitrag |
| 1997 | DUV resist UV II HS applied to high resolution e-beam lithography and to masked ion beam proximity and reduction printing
Brünger, W.H.; Buschbeck, H.; Cekan, E.; Eder, S.; Fedynyshyn, T.H.; Hertlein, W.G.; Hudek, P.; Kostic, I.; Loeschner, H.; Rangelow, J.W.; Torkler, M. | Konferenzbeitrag |
| 1995 | Conductivity and reproducibility of e-beam induced deposited tungsten lines
Kohlmann van Platen, K.T.; Schmidt, L.; Brünger, W.H. | Konferenzbeitrag |
| 1995 | Damage characterization of ion beam exposed metal-oxide-semiconductor varactor cells by charge to breakdown measurements
Brünger, W.H.; Buchmann, L.-M.; Naumann, F.; Friedrich, D.; Finkelstein, W.; Mohondro, R. | Konferenzbeitrag |
| 1994 | Direct write pattern placement accuracy for E-beam nanolithography
Reimer, K.; Ehrlich, C.; Köhler, C.; Brünger, W.H. | Konferenzbeitrag |
| 1993 | Application of e-beam nanolithography for absorber structuring of high resolution x-ray masks
Köhler, C.; Brünger, W.H.; Ehrlich, C.; Huber, H.-L.; Reimer, K. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1993 | Edge roughness of a 200 nm pitch resist pattern fabricated by ion projection lithography
Brünger, W.H.; Blaschke, J.; Torkler, M.; Buchmann, L.-M. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1992 | E-beam induced fabrication of microstructures
Kohlmann, K.T.; Brünger, W.H. | Konferenzbeitrag |
| 1992 | Fabrication of 3.5 GHz surface acoustic wave filters by ion projection lithography
Kreutzer, M.; Zwicker, G.; Fleischmann, B.; Brünger, W.H.; Buchmann, L.-M.; Torkler, M. | Konferenzbeitrag |
| 1992 | Repair of open stencil masks for ion projection lithography by E-beam induced metal deposition
Kohlmann, K.T.; Brünger, W.H.; Buchmann, L.-M. | Konferenzbeitrag |
| 1992 | Stability and electronic adjustment of ion images projected at 10 x reduction
Brünger, W.H.; Buchmann, L.-M.; Torkler, M. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1991 | E-beam induced x-ray mask repair with optimized gas nozzle geometry
Thiemann, M.; Brünger, W.H.; Kohlmann, K.T. | Konferenzbeitrag |
| 1989 | Spatial resolution tests of scanning auger microscopy under different topographical conditions
Umbach, A.; Hoyer, A.; Brünger, W.H. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1989 | X-ray mask repair by electron beam induced metal deposition
Brünger, W.H. | Konferenzbeitrag |
| 1988 | Small spot ESCA and scanning XPS investigations compared to scanning auger microanalysis.
Brünger, W.H. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1986 | Influence of thin film thickness variations on pattern fidelity of x-ray masks
Betz, H.; Heuberger, A.; Hersener, J.; Bruenger, W.H. | Konferenzbeitrag |
| 1984 | E-beam metrology of chromium master masks and masks for x-ray lithography
Betz, H.; Heuberger, A.; Bruenger, W.H.; Mueller, K.P. | Zeitschriftenaufsatz |
| 1983 | E-beam two-coordinate measuring tool for high precision metrology in micro-lithographie
Betz, H.; Heuberger, A.; Somers, J.M.; Bruenger, W.H. | Konferenzbeitrag |