Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2015Detection, tracking, and visualization of spatial event clusters for real time monitoring
Andrienko, N.; Andrienko, G.; Fuchs, G.; Rinzivillo, S.; Betz, H.-D.
Konferenzbeitrag
2015Real time detection and tracking of spatial event clusters
Andrienko, N.; Andrienko, G.; Fuchs, G.; Rinzivillo, S.; Betz, H.-D.
Konferenzbeitrag
1992Verfahren zur abbildenden Laserinterferometrie und Laserinterferometer zur Durchfuehrung des Verfahrens
Mader, H.; Betz, H.; Pelka, J.
Patent
1990Einrichtung zur zerstoerungsfreien Bilderzeugung und ortsselektiven Oberflaechenbearbeitung in fokussierten Ionenstrahlsystemen
Betz, H.; Weigmann, U.; Burghause, H.
Patent
1989Schnellschliessendes Durchgangsventil fuer Strahlfuehrungssysteme an Teilchenbeschleunigern
Betz, H.; Kaeselau, S.; Rohrmoser, W.
Patent
1989Verfahren zur Herstellung von Siliziummembranen
Betz, H.; Chlebek, J.; Huber, H.L.
Patent
1989Verfahren zur Reparatur von Defekten auf Masken
Betz, H.; Weigmann, U.; Burghause, H.
Patent
1988Anordnung zur Belichtung von Halbleiterscheiben mittels Synchrotronstrahlung in einem Lithographiegeraet
Mueller, K.H.; Betz, H.; Vach, W.; Krenner, J.
Patent
1988Roentgenmaske aus mit Siliziumnitridschichten kombiniertem Silizium und Verfahren zu ihrer Herstellung
Betz, H.; Csepregi, L.; Huber, H.L.; Windbracke, W.
Patent
1988Verfahren zur Kompensation von absorberinduzierten Verzuegen auf Roentgenmasken
Betz, H.; Csepregi, L.
Patent
1987Defects in x-ray masks - Detection and printability
Betz, H.; Oertel, H.; Kluwe, A.; Mueller, K.-H.
Zeitschriftenaufsatz
1987The influence of photoelectronics and fluorescence radiation on resolution in X-rax lithography
Chlebek, J.; Heuberger, A.; Huber, H.-L.; Betz, H.
Zeitschriftenaufsatz
1987Radiation damage effects in boron nitride mask membranes subjected to x-ray exposures
Betz, H.; Huber, H.-L.; Oertel, H.; Johnson, W.A.; Levy, R.A.; Resnick, D.J.; Saunders, T.E.; Yanof, A.W.
Zeitschriftenaufsatz
1986Critical dimension control in x-ray masks with electroplated gold absorbers
Windbracke, W.; Betz, H.; Huber, H.-L.; Pilz, W.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1986High resolution lithography using synchrotron radiation
Betz, H.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
1986Influence of sputter effects on the resolution in X-ray mask repair
Betz, H.; Heuberger, A.; Economou, N.P.; Shaver, D.C.
Konferenzbeitrag
1986Influence of thin film thickness variations on pattern fidelity of x-ray masks
Betz, H.; Heuberger, A.; Hersener, J.; Bruenger, W.H.
Konferenzbeitrag
1986Resolution limits in x-ray lithography calculated by means of x-ray lithography simulator XMAS
Betz, H.; Heinrich, K.; Heuberger, A.; Huber, H.-L.; Oertel, H.
Zeitschriftenaufsatz
1986Silicon x-ray masks - pattern placement and overlay accuracy
Betz, H.; Huber, H.-L.; Pongratz, S.; Rohrmoser, W.; Windbracke, W.; Mescheder, U.
Konferenzbeitrag
1986Strahlrohr zum Auskoppeln von Roentgenlicht aus einer Synchrotronstrahlungsquelle
Betz, H.; Brucker, B.; Scheunemann, H.U.
Patent
1985Application of the simulator "XMAS" on specific problems in sub-half micron lithography
Oertel, H.; Betz, H.; Heuberger, A.
Konferenzbeitrag
1985Synchrotron lithography - the way to sub-micron features with single layer resist
Huber, H.-L.; Betz, H.; Heuberger, A.
Aufsatz in Buch
1984Application of diazo-type resists in synchrotron lithography
Huber, H.-L.; Betz, H.; Heuberger, A.; Pongratz, S.
Konferenzbeitrag
1984E-beam metrology of chromium master masks and masks for x-ray lithography
Betz, H.; Heuberger, A.; Bruenger, W.H.; Mueller, K.P.
Zeitschriftenaufsatz
1983Application of novolack resist systems in x-ray mask fabrication
Pongratz, S.; Betz, H.; Heuberger, A.
Konferenzbeitrag
1983E-beam two-coordinate measuring tool for high precision metrology in micro-lithographie
Betz, H.; Heuberger, A.; Somers, J.M.; Bruenger, W.H.
Konferenzbeitrag
1983Heating and temperatur induced distortions of silicon X-ray masks
Heinrich, H.; Betz, H.; Heuberger, A.
Konferenzbeitrag
1983Investigation of X-ray exposure using plane scanning mirrors
Bieber, M.; Betz, H.; Heuberger, A.
Zeitschriftenaufsatz
1983Properties of crosslinked positiv-acting X-ray, resists, fabricated on the basis of poly
Asmussen, F.; Betz, H.; Chen, B.T.; Heuberger, A.; Pongratz, S.; Sotobayashi, H.; Schnabel, W.
Zeitschriftenaufsatz
1982Degradation of polymethylmethacrylate by synchrotron radiation.
Sotobayashi, H.; Asmussen, F.; Thimm, K.; Schnabel, W.; Betz, H.; Einfeld, D.
Zeitschriftenaufsatz
1982Production of separation nozzle systems for Uranium enrichment by a combination of X-ray lithographie and galvanoplastics
Becker, E.W.; Betz, H.; Ehrfeld, W.; Glashauser, W.; Heuberger, A.; Michel, H.J.; Muenchmeyer, D.; Pongratz, S.; Siemens, R.v.
Zeitschriftenaufsatz
1981Computer simulations of resit profiles in X-ray-lithographie.
Heinrich, K.; Betz, H.; Heuberger, A.; Pongratz, S.
Zeitschriftenaufsatz
1981Distortion measurements on pure-silicon and siliconplastic X-ray masks
Triantafyllou, M.; Betz, H.; Heuberger, A.; Tischer, P.
Konferenzbeitrag
1981Present status and problems of X-ray lithography.
Betz, H.; Heuberger, A.
Konferenzbeitrag
1981Wege zu hoeherer Integrationsdichte. Tl.1. Roentgenstrahlen fuer Hoechstintegration. Tl.2
Heuberger, A.; Betz, H.
Zeitschriftenaufsatz