Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2013Ferroelectric hafnium oxide: A CMOS-compatible and highly scalable approach to future ferroelectric memories
Müller, J.; Böscke, T.S.; Müller, S.; Yurchuk, E.; Polakowski, P.; Paul, J.; Martin, D.; Schenk, T.; Khullar, K.; Kersch, A.; Weinreich, W.; Riedel, S.; Seidel, K.; Kumar, A.; Arruda, T.M.; Kalinin, S.V.; Schlösser, T.; Boschke, R.; Bentum, R. van; Schröder, U.; Mikolajick, T.
Konferenzbeitrag
2012Ferroelectricity in simple binary ZrO2 and HfO2
Müller, J.; Böscke, T.S.; Schröder, U.; Mueller, S.; Bräuhaus, D.; Böttger, U.; Frey, L.; Mikolajick, T.
Zeitschriftenaufsatz
2012Nanosecond polarization switching and long retention in a novel MFIS-FET based on ferroelectric HfO2
Müller, J.; Böscke, T.S.; Schröder, U.; Hoffmann, R.; Mikolajick, T.; Frey, L.
Zeitschriftenaufsatz
2011Ferroelectric Zr0.5Hf0.5O2 thin films for nonvolatile memory applications
Müller, J.; Böscke, T.S.; Bräuhaus, D.; Schröder, U.; Böttger, U.; Sundqvist, J.; Kcher, P.; Mikolajick, T.; Frey, L.
Zeitschriftenaufsatz
2011Ferroelectricity in hafnium oxide thin films
Böscke, T.S.; Müller, J.; Bräuhaus, D.; Schröder, U.; Böttger, U.
Zeitschriftenaufsatz
2011Ferroelectricity in yttrium-doped hafnium oxide
Müller, J.; Schröder, U.; Böscke, T.S.; Müller, I.; Böttger, U.; Wilde, L.; Sundqvist, J.; Lemberger, M.; Kücher, P.; Mikolajick, T.; Frey, L.
Zeitschriftenaufsatz
2011Phase transitions in ferroelectric silicon doped hafnium oxide
Böscke, T.S.; Teichert, S.; Bräuhaus, D.; Müller, J.; Schröder, U.; Böttger, U.; Mikolajick, T.
Zeitschriftenaufsatz
2009Improved manufacturability of ZrO2 MIM capacitors by process stabilizing HfO2 addition
Müller, J.; Böscke, T.S.; Schröder, U.; Reinicke, M.; Oberbeck, L.; Zhou, D.; Weinreich, W.; Kücher, P.; Lemberger, M.; Frey, L.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz