Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2021Aging in Ferroelectric Si-Doped Hafnium Oxide Thin Films
Mart, C.; Kohlenbach, N.-D.; Kühnel, K.; Eßlinger, S.; Czernohorsky, M.; Ali, T.; Weinreich, W.; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2021Current percolation path impacting switching behavior of ferroelectric FETs
Müller, F.; Lederer, M.; Olivo, R.; Ali, T.; Hoffmann, R.; Mulaosmanovic, H.; Beyer, S.; Dünkel, S.; Müller, J.; Müller, S.; Seidel, K.; Gerlach, G.
Konferenzbeitrag
2021The effect of temperature on the ferroelectric properties of Hafnium Zirconium Oxide MFM thin-film varactors
Abdulazhanov, S.; Lederer, M.; Lehninger, D.; Ali, T.; Olivo, R.; Kämpfe, T.
Konferenzbeitrag
2021A FeFET with a novel MFMFIS gate stack: Towards energy-efficient and ultrafast NVMs for neuromorphic computing
Ali, T.; Mertens, K.; Kühnel, K.; Rudolph, M.; Oehler, S.; Lehninger, D.; Müller, F.; Revello, R.; Hoffmann, R.; Zimmermann, K.; Kämpfe, T.; Czernohorsky, M.; Seidel, K.; Houdt, J. van; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2021Ferroelectric Field Effect Transistors as a Synapse for Neuromorphic Application
Lederer, M.; Kämpfe, T.; Ali, T.; Müller, F.; Olivo, R.; Hoffmann, R.; Laleni, N.; Seidel, K.
Zeitschriftenaufsatz
2021Ferroelektrischer Dünnschichttransistor und Verfahren zum Herstellen eines ferroelektrischen Dünnschichttransistors
Ali, Tarek Nadi Ismail; Polakowski, Patrick; Seidel, Konrad
Patent
2021A Fully Integrated Ferroelectric Thin-Film-Transistor - Influence of Device Scaling on Threshold Voltage Compensation in Displays
Lehninger, D.; Ellinger, M.; Ali, T.; Li, S.; Mertens, K.; Lederer, M.; Olivio, R.; Kampfe, T.; Hanisch, N.; Biedermann, K.; Rudolph, M.; Brackmann, V.; Sanctis, C.; Jank, M.; Seidel, K.
Zeitschriftenaufsatz
2021High-endurance and low-voltage operation of 1T1C FeRAM arrays for nonvolatile memory application
Okuno, J.; Kunihiro, T.; Konishi, K.; Maemura, H.; Shuto, Y.; Sugaya, F.; Materano, M.; Ali, T.; Lederer, M.; Kuehnel, K.; Seidel, K.; Schroeder, U.; Mikolajick, T.; Tsukamoto, M.; Umebayashi, T.
Konferenzbeitrag
2021Impact of the interface layer on the cycling behaviour and retention of ferroelectric hafnium oxide
Lederer, M.; Mertens, K.; Kia, A.M.; Emara, J.; Olivo, R.; Raffel, Y.; Lehninger, D.; Ali, T.; Kühnel, K.; Seidel, K.; Kämpfe, T.; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2021Impact of the Nonlinear Dielectric Hysteresis Properties of a Charge Trap Layer in a Novel Hybrid High-Speed and Low-Power Ferroelectric or Antiferroelectric HSO/HZO Boosted Charge Trap Memory
Ali, T.; Mertens, K.; Olivo, R.; Rudolph, M.; Oehler, S.; Kuhnel, K.; Lehninger, D.; Muller, F.; Hoffmann, R.; Schramm, P.; Biedermann, K.; Metzger, J.; Binder, R.; Czernohorsky, M.; Kampfe, T.; Muller, J.; Seidel, K.; Houdt, J. Van; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2021Influence of antiferroelectric-like behavior on tuning properties of ferroelectric HZO-based varactors
Abdulazhanov, S.; Lederer, M.; Lehninger, D.; Ali, T.; Emara, J.; Olivo, R.; Kämpfe, T.
Zeitschriftenaufsatz
2021Influence of microstructure on the variability and current percolation paths in ferroelectric hafnium oxide based neuromorphic FeFET synapses
Lederer, M.; Müller, F.; Varanasi, A.; Olivio, R.; Mertens, K.; Lehninger, D.; Raffel, Y.; Hoffmann, R.; Ali, T.; Seidel, K.; Kämpfe, T.; Eng, L.M.
Konferenzbeitrag
2021Microstructural implications for neuromorphic synapses based on ferroelectric hafnium oxide
Müller, F.; Lederer, M.; Olivo, R.; Reck, A.; Ali, T.; Seidel, K.; Kämpfe, T.
Konferenzbeitrag
2021Room temperature PVD TiN to improve the ferroelectric properties of HZO films in the BEoL
Lehninger, D.; Mertens, K.; Gerlich, L.; Lederer, M.; Ali, T.; Seidel, K.
Zeitschriftenaufsatz
2021Substrate-dependent differences in ferroelectric behavior and phase diagram of Si-doped hafnium oxide
Lederer, M.; Mertens, K.; Olivo, R.; Kühnel, K.; Lehninger, D.; Ali, T.; Kämpfe, T.; Seidel, K.; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2021Tunability of Ferroelectric Hafnium Zirconium Oxide for Varactor Applications
Abdulazhanov, S.; Lederer, M.; Lehninger, D.; Mart, C.; Ali, T.; Wang, D.; Olivo, R.; Emara, J.; Kämpfe, T.; Gerlach, G.
Zeitschriftenaufsatz
2020Back-End-of-Line Compatible Low-Temperature Furnace Anneal for Ferroelectric Hafnium Zirconium Oxide Formation
Lehninger, D.; Olivo, R.; Ali, T.; Lederer, M.; Kämpfe, T.; Mart, C.; Biedermann, K.; Kühnel, K.; Roy, L.; Kalkani, M.; Seidel, K.
Zeitschriftenaufsatz
2020Charge Pumping and Flicker Noise-based Defect Characterization in Ferroelectric FETs
Raffel, Y.; Lederer, M.; Olivo, R.; Müller, F.; Hoffmann, R.; Ali, T.; Kämpfe, T.; Seidel, K.; Heitmann, J.
Konferenzbeitrag
2020Effect of Substrate Implant Tuning on the Performance of MFIS Silicon Doped Hafnium Oxide (HSO) FeFET Memory
Ali, T.; Kühnel, K.; Mertens, K.; Czernohorsky, M.; Rudolph, M.; Duhan, P.; Lehninger, D.; Hoffmann, R.; Steinke, P.; Müller, J.; Houdt, J. van; Seidel, K.; Eng, L.M.
Konferenzbeitrag
2020FeFET: A versatile CMOS compatible device with game-changing potential
Beyer, S.; Dünkel, S.; Trentzsch, M.; Müller, J.; Hellmich, A.; Utess, D.; Paul, J.; Kleimaier, D.; Pellerin, J.; Müller, S.; Ocker, J.; Benoist, A.; Zhou, H.; Mennenga, M.; Schuster, M.; Tassan, F.; Noack, M.; Pourkeramati, A.; Müller, F.; Lederer, M.; Ali, T.; Hoffmann, R.; Kämpfe, T.; Seidel, K.; Mulaosmanovic, H.; Breyer, E.T.; Mikolajick, T.; Slesazeck, S.
Konferenzbeitrag
2020Furnace annealed HfO2-Films for the Integration of Ferroelectric Functionalities into the BEoL
Lehninger, D.; Ali, T.; Olivo, R.; Lederer, M.; Kämpfe, T.; Mertens, K.; Seidel, K.
Konferenzbeitrag
2020Heavy Ion Irradiation Effects on Structural and Ferroelectric Properties of HfO2 Films
Kämpfe, T.; Vogel, T.; Olivo, R.; Lederer, M.; Kaiser, N.; Petzold, S.; Ali, T.; Lehninger, D.; Trautmann, C.; Alff, L.; Seidel, K.
Konferenzbeitrag
2020Impact of Ferroelectric Wakeup on Reliability of Laminate based Si-doped Hafnium Oxide (HSO) FeFET Memory Cells
Ali, T.; Kühnel, K.; Czernohorsky, M.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Olivo, R.; Lehninger, D.; Mertens, K.; Müller, F.; Lederer, M.; Hoffmann, R.; Mart, C.; Kalkani, M.N.; Steinke, P.; Kämpfe, T.; Müller, J.; Houdt, J. van; Seidel, K.; Eng, L.M.
Konferenzbeitrag
2020Interplay Between Switching and Retention in HfO2-Based Ferroelectric FETs
Mulaosmanovic, H.; Müller, F.; Lederer, M.; Ali, T.; Hoffmann, R.; Seidel, K.; Zhou, H.; Ocker, J.; Mueller, S.; Dunkel, S.; Kleimaier, D.; Muller, J.; Trentzsch, M.; Beyer, S.; Breyer, E.T.; Mikolajick, T.; Slesazeck, S.
Zeitschriftenaufsatz
2020A Novel Dual Ferroelectric Layer Based MFMFIS FeFET with Optimal Stack Tuning Toward Low Power and High-Speed NVM for Neuromorphic Applications
Ali, T.; Seidel, K.; Kühnel, K.; Rudolph, M.; Czernohorsky, M.; Mertens, K.; Hoffmann, R.; Zimmermann, K.; Mühle, U.; Müller, J.; Houdt, J. van; Eng, L.M.
Konferenzbeitrag
2020A novel hybrid high-speed and low power antiferroelectric HSO boosted charge trap memory for high-density storage
Ali, T.; Mertens, K.; Olivo, R.; Rudolph, M.; Oehler, S.; Kühnel, K.; Lehninger, D.; Müller, F.; Lederer, M.; Hoffmann, R.; Schramm, P.; Biedermann, K.; Kia, A.M.; Metzger, J.; Binder, R.; Czernohorsky, M.; Kämpfe, T.; Müller, J.; Seidel, K.; Houdt, J.V. van; Eng, L.M.
Konferenzbeitrag
2020A scalable design of multi-bit ferroelectric content addressable memory for data-centric computing
Li, C.; Müller, F.; Ali, T.; Olivo, R.; Imani, M.; Deng, S.; Zhuo, C.; Kämpfe, T.; Yin, X.; Ni, K.
Konferenzbeitrag
2020Screen-Printed Ferroelectric P(VDF-TrFE)-co-PbTiO3 and P(VDF-TrFE)-co-NaBiTi2O6 Nanocomposites for Selective Temperature and Pressure Sensing
Ali, Taher Abu; Groten, Jonas; Clade, Jürgen; Collin, Daniela; Schäffner, Philipp; Zirkl, Martin; Coclite, Anna-Maria; Domann, Gerhard; Stadlober, Barbara
Zeitschriftenaufsatz
2020SoC compatible 1T1C FeRAM memory array based on ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2
Okuno, J.; Kunihiro, T.; Konishi, K.; Maemura, H.; Shute, Y.; Sugaya, F.; Materano, M.; Ali, T.; Kuehnel, K.; Seidel, K.; Schroeder, U.; Mikolajick, T.; Tsukamoto, M.; Umebayashi, T.
Konferenzbeitrag
2020Structural and Electrical Comparison of Si and Zr Doped Hafnium Oxide Thin Films and Integrated FeFETs Utilizing Transmission Kikuchi Diffraction
Lederer, M.; Kämpfe, T.; Vogel, N.; Utess, D.; Volkmann, B.; Ali, T.; Olivo, R.; Müller, J.; Beyer, S.; Trentzsch, M.; Seidel, K.; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2020A Study on the Temperature-Dependent Operation of Fluorite-Structure-Based Ferroelectric HfO2 Memory FeFET: Pyroelectricity and Reliability
Ali, T.; Kühnel, K.; Czernohorsky, M.; Mart, C.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Lehninger, D.; Olivo, R.; Lederer, M.; Müller, F.; Hoffmann, R.; Metzger, J.; Binder, R.; Steinke, P.; Kämpfe, T.; Müller, J.; Seidel, K.; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2020A Study on the Temperature-Dependent Operation of Fluorite-Structure-Based Ferroelectric HfO2 Memory FeFET: A Temperature-Modulated Operation
Ali, T.; Kühnel, K.; Czernohorsky, M.; Mart, C.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Lederer, M.; Olivo, R.; Lehninger, D.; Müller, F.; Hoffmann, R.; Metzger, J.; Binder, R.; Steinke, P.; Kämpfe, T.; Müller, J.; Seidel, K.; Eng, L.M.
Zeitschriftenaufsatz
2020Ultra-low power flexible precision FeFET based analog in-memory computing
Soliman, T.; Müller, F.; Kirchner, T.; Hoffmann, T.; Ganem, H.; Karimov, E.; Ali, T.; Lederer, M.; Sudarshan, C.; Kämpfe, T.; Guntoro, A.; Wehn, N.
Konferenzbeitrag
2019Gate Stack Optimization Toward Disturb-Free Operation of Ferroelectric HSO based FeFET for NAND Applications
Seidel, K.; Ali, T.; Hoffmann, R.; Kühnel, K.; Czernohorsky, M.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Steinke, P.; Zimmermann, K.; Biedermann, K.; Houdt, J. van
Konferenzbeitrag
2019Local crystallographic phase detection and texture mapping in ferroelectric Zr doped HfO2 films by transmission-EBSD
Lederer, M.; Kämpfe, T.; Olivo, R.; Lehninger, D.; Mart, C.; Kirbach, S.; Ali, T.; Polakowski, P.; Roy, L.; Seidel, K.
Zeitschriftenaufsatz
2019A Multilevel FeFET Memory Device based on Laminated HSO and HZO Ferroelectric Layers for High-Density Storage
Ali, T.; Olivo, R.; Lederer, M.; Hoffmann, R.; Steinke, P.; Zimmermann, K.; Mühle, U.; Seidel, K.; Müller, J.; Polakowski, P.; Kühnel, K.; Czernohorsky, M.; Kämpfe, T.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Lehninger, D.; Müller, F.
Konferenzbeitrag
2019Principles and Challenges for Binary Oxide Based Ferroelectric Memory FeFET
Ali, T.; Polakowski, P.; Büttner, T.; Kämpfe, T.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Hoffmann, R.; Czernohorsky, M.; Kühnel, K.; Steinke, P.; Eng, L.M.; Seidel, K.
Konferenzbeitrag
2019Principles and Challenges for Binary Oxide Based Ferroelectric Memory FeFET
Ali, T.; Polakowski, P.; Büttner, T.; Kämpfe, T.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Hoffmann, R.; Czernohorsky, M.; Kühnel, K.; Steinke, P.; Eng, L.M.; Seidel, K.
Poster
2019Theory and Experiment of Antiferroelectric (AFE) Si-Doped Hafnium Oxide (HSO) Enhanced Floating-Gate Memory
Ali, T.; Polakowski, P.; Büttner, T.; Kämpfe, T.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Hoffmann, R.; Czernohorsky, M.; Kühnel, K.; Steinke, P.; Zimmermann, K.; Biedermann, K.; Eng, L.M.; Seidel, K.; Müller, J.
Zeitschriftenaufsatz
2018High Endurance Ferroelectric Hafnium Oxide-Based FeFET Memory Without Retention Penalty
Ali, T.; Polakowski, P.; Riedel, S.; Büttner, T.; Kämpfe, T.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Seidel, K.; Löhr, D.; Hoffmann, R.; Czernohorsky, M.; Kühnel, K.; Steinke, P.; Calvo, J.; Zimmermann, K.; Müller, J.
Zeitschriftenaufsatz
2018Silicon doped hafnium oxide (HSO) and hafnium zirconium oxide (HZO) based FeFET
Ali, T.; Polakowski, P.; Riedel, S.; Büttner, T.; Kämpfe, T.; Rudolph, M.; Pätzold, B.; Seidel, K.; Löhr, D.; Hoffmann, R.; Czernohorsky, M.; Kühnel, K.; Thrun, X.; Hanisch, N.; Steinke, P.; Calvo, J.; Müller, J.
Zeitschriftenaufsatz
2018Tuning parameters and their impact on ferroelectric hafnium oxide
Polakowski, Patrick; Büttner, Teresa; Ali, Tarek Nadi Ismail; Riedel, Stefan; Kämpfe, Thomas; Seidel, Konrad; Müller, Johannes; Pätzold, Björn
Vortrag
2016Development and electrical characterization of a metal-ferroelectric-insulator semiconductor FET test structure
Ali, Tarek
: Müller, Johannes (Betreuer); Lakner, Hubert (Betreuer); Heyns, Marc
Master Thesis