Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2003Wafer reclaim in semiconductor manufacturing
Frickinger, J.; Nutsch, A.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.; Zielonka, G.
Book Article
2001Control of organic contamination in CMOS manufacturing
Bügler, J.; Frickinger, J.; Zielonka, G.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.; Schottler, M.
Conference Paper
2001Effect of copper on the breakthrough voltage of Poly-Si - Poly-Si capacitors
Boehringer, M.; Pillion, J.E.; Erdmann, V.; Rygula, M.; Winz, K.; Brauchle, P.; Aquino, D.; Zhang, H.; Zahka, J.; Zielonka, G.; Hauber, J.
Conference Paper, Journal Article
2001Kammer zur Oberflaechenpruefung von Siliciumscheiben
Kluge, A.; Zielonka, G.
Patent
2001Trace analysis for 300 mm wafers and processes with total- reflection x-ray-fluorescence
Nutsch, A.; Erdmann, V.; Zielonka, G.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.
Journal Article
2000Reducing airborne molecular contamination by efficient purging of FOUPs for 300-mm wafers. The influence of material properties
Frickinger, J.; Bügler, J.; Zielonka, G.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.; Hollemann, S.; Schneider, H.
Journal Article
2000Vorrichtung zum Greifen von Scheiben und Verwendung der Vorrichtung
Kluge, A.; Zielonka, G.; Fink, J.
Patent
1997Metrology and analytics for the optimization of CMP processing
Huber, A.; Erdmann, V.; Zielonka, G.; Schneider, C.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.; Rohde, A.
Conference Paper
1996Optimierung von Silicium-Material und dessen Charakterisierung mittels hochauflösender Analytik und elektrischer Meßtechnik
Zielonka, G.; Keller, U.
Book Article
1990Untersuchungen über Regelparameter in einer Lithographiezelle
Pfitzner, L.; Ryssel, H.; Temmel, G.; Zielonka, G.
Conference Paper
1989Entwicklung von Prozessmodulen und in-situ-Meßmethoden für ein Flexibles Fotolithografisches Prozeßzentrum
Temmel, G.; Zielonka, G.; Olbrich, H.; Mann, R.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.
Conference Paper