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| 2006 | ISPROM, ein in-situ-Multigasanalysator für CVD- und Ätzprozesse
Grählert, W.; Dani, I.; Mäder, G.; Throl, O.; Hopfe, V.; Pietsch, K.; Wünsche, T.; Dreyer, T. | Conference Paper |
| 2005 | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substratoberflaechen mittels Ladungstraegerbeschuss
Klostermann, H.; Fietzke, F.; Goedicke, K.; Wuensche, T.; Boecher, B. | Patent |
| 2005 | Verfahren und Vorrichtung zum Intensivieren einer gepulsten Magnetronentladung
Fietzke, F.; Klostermann, H.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Wuensche, T.; Boecher, B. | Patent |
| 2005 | Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren des Verdampfens mittels Schiffchenverdampfer
Wuensche, T.; Fietzke, F.; Goedicke, K.; Straach, S. | Patent |
| 2004 | Adhesion promotion techniques for coating of polymer films
Rank, R.; Wünsche, T.; Fahland, M.; Charton, C.; Schiller, N. | Conference Paper |
| 2004 | Verfahren und Einrichtung zur plasmaaktivierten Schichtabscheidung durch Kathodenzerstaeubung nach dem Magnetron-Prinzip
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Wuensche, T.; Klostermann, H.; Liebig, J. | Patent |
| 2004 | Verfahren zum reaktiven Magnetron-Sputtern
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Klostermann, H.; Wuensche, T. | Patent |
| 2003 | Untersuchung des Puls-Magnetron-Sputterprozesses zur Abscheidung von Aluminiumoxid und des Einflusses einer gepulsten Biasspannung am Substrat
Wünsche, T. | Dissertation |
| 2001 | Dynamic behavior of unipolar and bipolar pulsed magnetron sputtering
List, M.; Krause, U.; Wünsche, T. | Conference Paper |
| 2001 | Time resolved measurements in unipolar and bipolar pulse magnetron sputtering processes
Wünsche, T. | Conference Paper |