Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2016Intensity and phase fields behind phase-shifting masks studied with high-resolution interference microscopy
Puthankovilakam, K.; Scharf, T.; Kim, M.S.; Naqavi, A.; Herzig, H.P.; Weichelt, T.; Zeitner, U.; Vogler, U.; Voelkel, R.
Journal Article
2015Intensity and phase fields behind Phase Shifting Masks studied with High Resolution Interference Microscopy
Puthankovilakam, K.; Scharf, T.; Herzig, H.P.; Weichelt, T.; Zeitner, U.; Vogler, U.; Voelkel, R.
Conference Paper
2014Lithographic process window optimization for mask aligner proximity lithography
Voelkel, R.; Vogler, U.; Bramati, A.; Erdmann, A.; Ünal, N.; Hofmann, U.; Hennemeyer, M.; Zoberbier, R.; Nguyen, D.; Brugger, J.
Conference Paper
2014Resolution enhancement for advanced mask aligner lithography using phase-shifting photomasks
Weichelt, T.; Vogler, U.; Stuerzebecher, L.; Voelkel, R.; Zeitner, U.D.
Journal Article
2012Advanced mask aligner lithography (AMALITH)
Völkel, R.; Vogler, U.; Bramati, A.; Weichelt, T.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Motzek, K.; Erdmann, A.; Hornung, M.; Zoberbier, R.
Conference Paper
2012AMALITH: Advanced mask aligner lithography
Bramati, Arianna; Weichelt, Tina; Stürzebecher, Lorenz; Meliorisz, Balint; Vogler, Uwe; Voelkel, Reinhard
Conference Paper
2012Verfahren und Sensoreinheit zur Abstandsmessung in einer lithografischen Vorrichtung und lithographische Vorrichtung
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2012Verfahren und Vorrichtung zur Abstandsmessung mit einer diffraktiven Struktur
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2011Computational algorithms for optimizing mask layouts in proximity printing
Motzek, K.; Vogler, U.; Hennemeyer, M.; Hornung, M.; Voelkel, R.; Erdmann, A.; Meliorisz, B.
Journal Article
2011Cost-effective lithography for TSV-structures
Vogler, U.; Windrich, F.; Schenke, A.; Völkel, R.; Böttcher, M.; Zoberbier, R.
Conference Paper
2011Mask aligner process enhancement by spatial filtering
Vogler, U.; Bich, A.; Voelkel, R.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Hornung, M.
Conference Paper
2011Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization)
Vogler, U.; Bramati, A.; Völkel, R.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Motzek, M.; Erdmann, A.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.
Journal Article, Conference Paper
2011Numerical optimization of illumination and mask layout for the enlargement of process windows and for the control of photoresist profiles in proximity printing
Motzek, Kristian; Partel, Stefan; Vogler, Uwe; Erdmann, Andreas
Conference Paper
2011Simulation tools for advanced mask aligner lithography
Bramati, Arianna; Vogler, Uwe; Meliorisz, Balint; Motzek, Kristian; Hornung, Michael; Voelkel, Reinhard
Conference Paper
2010Advanced mask aligner lithography: Fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect
Stürzebecher, L.; Harzendorf, T.; Vogler, U.; Zeitner, U.D.; Völkel, R.
Journal Article
2010Advanced mask aligner lithography: New illumination system
Voelkel, R.; Vogler, U.; Bich, A.; Pernet, P.; Weible, K.J.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Cullmann, E.; Stuerzebecher, L.; Harzendorf, T.; Zeitner, U.D.
Journal Article
2010Half-tone proximity lithography
Harzendorf, T.; Stürzebecher, L.; Vogler, U.; Zeitner, U.; Völkel, R.
Conference Paper