Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2017All-weather snow machine driven by solar energy
Joemann, Michael; Völkel, René; Pollerberg, Clemens; Podesta, Lorenzo; Besana, Francesco
Conference Paper
2016Intensity and phase fields behind phase-shifting masks studied with high-resolution interference microscopy
Puthankovilakam, K.; Scharf, T.; Kim, M.S.; Naqavi, A.; Herzig, H.P.; Weichelt, T.; Zeitner, U.; Vogler, U.; Voelkel, R.
Journal Article
2015Intensity and phase fields behind Phase Shifting Masks studied with High Resolution Interference Microscopy
Puthankovilakam, K.; Scharf, T.; Herzig, H.P.; Weichelt, T.; Zeitner, U.; Vogler, U.; Voelkel, R.
Conference Paper
2014Lithographic process window optimization for mask aligner proximity lithography
Voelkel, R.; Vogler, U.; Bramati, A.; Erdmann, A.; Ünal, N.; Hofmann, U.; Hennemeyer, M.; Zoberbier, R.; Nguyen, D.; Brugger, J.
Conference Paper
2014Resolution enhancement for advanced mask aligner lithography using phase-shifting photomasks
Weichelt, T.; Vogler, U.; Stuerzebecher, L.; Voelkel, R.; Zeitner, U.D.
Journal Article
2013Functional epoxy polymer for direct nano-imprinting of micro-optical elements
Fader, R.; Landwehr, J.; Rumler, M.; Rommel, M.; Bauer, A.J.; Frey, L.; Völkel, R.; Brehm, M.; Kraft, A.
Journal Article
2012Advanced mask aligner lithography (AMALITH)
Völkel, R.; Vogler, U.; Bramati, A.; Weichelt, T.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Motzek, K.; Erdmann, A.; Hornung, M.; Zoberbier, R.
Conference Paper
2012AMALITH: Advanced mask aligner lithography
Bramati, Arianna; Weichelt, Tina; Stürzebecher, Lorenz; Meliorisz, Balint; Vogler, Uwe; Voelkel, Reinhard
Conference Paper
2012Functional epoxy polymer for direct nano-imprinting of micro optical elements
Fader, Robert; Landwehr Johannes; Rumler, Maximilian; Rommel, Mathias; Bauer, Anton J.; Frey, Lothar; Völkel, Reinhard; Brehm, Markus; Kraft, Andreas
Poster
2012Verfahren und Sensoreinheit zur Abstandsmessung in einer lithografischen Vorrichtung und lithographische Vorrichtung
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2012Verfahren und Vorrichtung zur Abstandsmessung mit einer diffraktiven Struktur
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2011Computational algorithms for optimizing mask layouts in proximity printing
Motzek, K.; Vogler, U.; Hennemeyer, M.; Hornung, M.; Voelkel, R.; Erdmann, A.; Meliorisz, B.
Journal Article
2011Cost-effective lithography for TSV-structures
Vogler, U.; Windrich, F.; Schenke, A.; Völkel, R.; Böttcher, M.; Zoberbier, R.
Conference Paper
2011Mask aligner process enhancement by spatial filtering
Vogler, U.; Bich, A.; Voelkel, R.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.D.; Hornung, M.
Conference Paper
2011Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization)
Vogler, U.; Bramati, A.; Völkel, R.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Motzek, M.; Erdmann, A.; Stürzebecher, L.; Zeitner, U.
Journal Article, Conference Paper
2011Simulation tools for advanced mask aligner lithography
Bramati, Arianna; Vogler, Uwe; Meliorisz, Balint; Motzek, Kristian; Hornung, Michael; Voelkel, Reinhard
Conference Paper
2010Advanced mask aligner lithography: Fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect
Stürzebecher, L.; Harzendorf, T.; Vogler, U.; Zeitner, U.D.; Völkel, R.
Journal Article
2010Advanced mask aligner lithography: New illumination system
Voelkel, R.; Vogler, U.; Bich, A.; Pernet, P.; Weible, K.J.; Hornung, M.; Zoberbier, R.; Cullmann, E.; Stuerzebecher, L.; Harzendorf, T.; Zeitner, U.D.
Journal Article
2010Full wafer microlens replication by UV imprint lithography
Schmitt, H.; Rommel, M.; Bauer, A.J.; Frey, L.; Bich, A.; Eisner, M.; Völkel, R.; Hornung, M.
Conference Paper, Journal Article
2010Half-tone proximity lithography
Harzendorf, T.; Stürzebecher, L.; Vogler, U.; Zeitner, U.; Völkel, R.
Conference Paper
2010Optimization of illumination pupils and mask structures for proximity printing
Motzek, K.; Bich, A.; Erdmann, A.; Hornung, M.; Hennemeyer, M.; Meliorisz, B.; Hofmann, U.; Ünal, N.; Völkel, R.; Partel, S.; Hudek, P.
Conference Paper, Journal Article
2009Full wafer microlens replication by UV imprint lithography
Schmitt, H.; Rommel, M.; Bauer, A.J.; Frey, L.; Bich, A.; Eisner, M.; Voelkel, R.; Hornung, M.
Poster
2009Vorrichtung zur optischen Abbildung
Duparre, J.; Wippermann, F.; Brückner, A.; Bräuer, A.; Leitel, R.; Völkel, R.
Patent
2008Technology trends of microlens imprint lithography and wafer level cameras (WLC)
Völkel, R.; Duparré, J.; Wippermann, F.; Dannberg, P.; Bräuer, A.; Zoberbier, R.; Gabriel, M.; Hornung, M.; Hansen, S.; Süss, R.
Conference Paper
2007Einrichtung zur optischen Verschluesselung, Einrichtung zur optischen Entschluesselung und Verschluesselungs-/Entschluesselungs-System
Duparre, J.; Voelkel, R.; Knop, K.
Patent
2007Mikrolinsen-Array mit integrierter Beleuchtung
Schmälzle, P.; Duparré, J.; Punke, M.; Dannberg, P.; Völkel, R.; Bräuer, A.
Patent
2006Novel optics/micro-optics for miniature imaging systems
Duparre, J.; Völkel, R.
Conference Paper
2005Bilderfassungssystem und dessen Verwendung
Duparre, J.; Dannberg, P.; Schreiber, P.; Voelkel, R.; Braeuer, A.
Patent
2005Microoptical artificial compound eyes - A promising approach for next generation ultra-compact machine vision
Duparre, J.; Wippermann, F.; Dannberg, P.; Schreiber, P.; Bräuer, A.; Völkel, R.; Scharf, T.
Conference Paper
2005Microoptical artificial compound eyes: From design to experimental verification of two different concepts
Duparre, J.; Wippermann, F.; Dannberg, P.; Schreiber, P.; Bräuer, A.; Völkel, R.; Scharf, T.
Conference Paper
2005Microoptical artificial compounds eyes - Two different concepts for compact imaging systems
Duparre, J.; Dannberg, P.; Bräuer, A.; Völkel, R.; Scharf, T.
Conference Paper
2005Microoptical telescope compound eye
Duparre, J.; Schreiber, P.; Matthes, A.; Pshenay-Severin, E.; Tünnermann, A.; Völkel, R.; Eisner, M.; Scharf, T.
Journal Article
2004Artificial compound eyes - Different concepts and their application to ultra flat image acquisition sensors
Duparré, J.; Schreiber, P.; Dannberg, P.; Scharf, T.; Pelli, P.; Völkel, R.; Hertzig, H.-P.; Bräuer, A.
Conference Paper
2004Theoretical analysis of an artificial superposition compound eye for application in ultra flat digital image acquisition devices
Duparré, J.; Schreiber, P.; Völkel, R.
Conference Paper