Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2003Ion projection direct-structuring for nanotechnology applications
Loeschner, H.; Fantner, E.J.; Korntner, R.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Zeininger, M.; Baglin, J.E.E.; Berger, R.; Brünger, W.H.; Dietzel, A.; Baraton, M.-I.; Merhari, L.
Conference Paper
2003Large-field particle beam optics for projection and proximity printing and for maskless lithography
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Gross, G.; Fortagne, O.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C.
Journal Article
2003Nanopatterning of magnetic disks by single-step ar+ ion projection
Dietzel, A.; Berger, R.; Loeschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Bruenger, W.H.; Letzkus, F.
Journal Article
2002Ion projection direct structuring for patterning of magnetic media
Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Letzkus, F.; Springer, R.; Löschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Bandic, Z.Z.; Terris, B.D.
Journal Article
2002Large-field ion-optics for projection and proximity printing and for mask-less lithography (ML2)
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C.
Conference Paper
2002Resistless patterning of magnetic storage media using ion projection structuring
Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Schug, C.; Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Letzkus, F.; Springer, R.; Löschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Anders, S.; Bandic, Z.Z.; Rettner, C.T.; Terris, B.D.; Eichhorn, H.; Böhm, M.; Adam, D.
Conference Paper
1999Resolution improvement of ion projector with a low energy spread multicusp ion source
Brünger, W.H.; Torkler, M.; Leung, K.N.; Lee, Y.; Williams, M.D.; Löschner, H.; Stengl, G.; Fallmann, W.; Paschke, F.; Stangl, G.; Rangelow, J.W.; Hudek, P.
Conference Paper
1992Lithography with high depth of focus by an ion projection system
Buchmann, L.-M.; Schnakenberg, U.; Torkler, M.; Löschner, H.; Stengl, G.; Traher, C.; Fallmann, W.; Stangl, G.; Cekan, E.
Conference Paper
1992Lithography with high depth of focus by an ion projection system2
Buchmann, L.-M.; Schnakenberg, U.; Torkler, M.; Löschner, H.; Stengl, G.; Traher, C.; Fallmann, W.; Stangl, G.; Cekan, E.
Journal Article
1990Ion projection lithography - electronic alignment and dry development of IPL exposed resist materials
Buchmann, L.-M.; Heuberger, A.; Fallmann, W.; Paschke, F.; Stangl, G.; Chalupka, A.; Fegerl, J.; Löschner, H.; Malek, L.; Nowak, R.; Stengl, G.; Traher, C.; Wolf, P.; Fischer, R.
Journal Article
1988Sub-0.5-mym lithography with a new ion projection lithography machine using silicon open stencil masks
Csepregi, L.; Heuberger, A.; Müller, K.P.; Chalupka, A.; Hammel, E.; Löschner, H.; Stengl, G.; Buchmann, L.-M.
Journal Article