Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2015High-resolution proximity lithography for nano-optical components
Stürzebecher, Lorenz; Fuchs, Frank; Zeitner, Uwe Detlef; Tünnermann, Andreas
Journal Article
2015Mask Aligner Lithography for TSV-Structures using a Double-Sided (structured) Photomask
Weichelt, Tina; Stuerzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe Detlef
Conference Paper
2015Optimized lithography process for through-silicon vias-fabrication using a double-sided (structured) photomask for mask aligner lithography
Weichelt, Tina; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe D.
Journal Article
2014Pulse compression grating fabrication by diffractive proximity photolithography
Stürzebecher, Lorenz; Fuchs, Frank; Harzendorf, Torsten; Zeitner, Uwe Detlef
Journal Article
2012AMALITH: Advanced mask aligner lithography
Bramati, Arianna; Weichelt, Tina; Stürzebecher, Lorenz; Meliorisz, Balint; Vogler, Uwe; Voelkel, Reinhard
Conference Paper
2012Novel gap alignment sensor for high-resolution proximity lithography
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, Uwe Detlef
Conference Paper
2012Sub-micrometer pattern generation by diffractive mask-aligner lithography
Zeitner, Uwe D.; Stuerzebecher, Lorenz; Harzendorf, Torsten; Fuchs, Frank; Michaelis, Dirk
Conference Paper
2012Verfahren und Sensoreinheit zur Abstandsmessung in einer lithografischen Vorrichtung und lithographische Vorrichtung
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2012Verfahren und Vorrichtung zur Abstandsmessung mit einer diffraktiven Struktur
Harzendorf, Torsten; Stürzebecher, Lorenz; Zeitner, U.; Vogler, U.; Völkel, R.
Patent
2012Wafer scale fabrication of submicron chessboard gratings using phase masks in proximity lithography
Stürzebecher, Lorenz; Harzendorf, T.; Fuchs, F.; Zeitner, U.D.
Conference Paper