Fraunhofer-Gesellschaft

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2006EUV aources for the alpha-tools
Pankert, J.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Damen, M.; Derra, G.; Franken, O.; Janssen, M.; Jonkers, J.; Klein, J.; Kraus, H.; Krücken, T.; List, A.; Loeken, M.; Mader, A.; Metzmacher, C.; Neff, W.; Probst, S.; Prümmer, R.; Rosier, O.; Schwabe, S.; Seiwert, S.; Siemons, G.; Vaudrevange, D.; Wagemann, D.; Weber, A.; Zink, P.; Zitzen, O.
Conference Paper
2005Compact extreme ultraviolet reflectometer for the characterization of grazing incidence optics based on a gas discharge light source
Bergmann, K.; Rosier, O.; Metzmacher, C.
Journal Article
2005Integrating Philips' extreme UV source in the alpha-tools
Pankert, J.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Derra, G.; Janssen, M.; Jonkers, J.; Klein, J.; Krücken, T.; List, A.; Loeken, M.; Neff, W.; Probst, S.; Prummer, R.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Siemons, G.; Vaudrevange, D.; Wagemann, D.; Weber, A.; Zink, P.; Zitzen, O.
Conference Paper
2005Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von insbesondere EUV-Strahlung und/oder weicher Roentgenstrahlung
Derra, G.H.; Apetz, R.T.; Zink, P.; Neff, W.; Rosier, O.
Patent
2004Frequency scaling in a hollow-cathode-triggered pinch plasma as radiation source in the extreme ultraviolet
Rosier, O.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Jonkers, J.; Wester, R.; Neff, W.; Pankert, J.
Journal Article
2004Pinchplasma mit Hohlkathodenzündung als Strahlungsquelle im extremen Ultraviolett
Rosier, O.
Dissertation
2004Status of EUV-lamp development and demonstration of applications
Lebert, R.; Wies, C.; Jägle, B.; Juschkin, L.; Bieberle, U.; Meisen, M.; Neff, W.; Bergmann, K.; Walter, K.; Rosier, O.; Schuermann, M.C.; Missalla, T.
Conference Paper
2004Status of Philips' extreme UV source
Pankert, J.; Bergmann, K.; Klein, J.; Neff, W.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Smith, C.; Probst, S.; Vaudrevange, D.; Siemons, G.; Apetz, R.; Jonkers, J.; Locken, M.; Derra, G.; Krücken, T.; Zink, P.
Conference Paper
2003Anordnung und Verfahren zur Reflektometrie
Lebert, R.; Schriever, G.; Bergmann, K.; Rosier, O.
Patent
2003Physical properties of the HCT EUV source
Pankert, J.; Bergmann, K.; Klein, J.; Neff, W.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Smith, C.; Probst, S.; Vaudrevange, D.; Siemons, G.; Apetz, R.; Jonkers, J.; Löken, M.; Bosch, E.; Derra, G.; Krucken, T.; Zink, P.
Conference Paper
2002Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem- Ultraviolettstrahlung/weicher Roentgenstrahlung
Neff, W.; Bergmann, K.; Pankert, J.; Rosier, O.
Patent
2001Comparison of different source concepts for EUVL
Lebert, R.; Bergmann, K.; Juschkin, L.; Rosier, O.; Neff, W.
Conference Paper
2001A multi-kilohertz pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography
Bergmann, K.; Rosier, O.; Lebert, R.; Neff, W.; Poprawe, R.
Journal Article
2001Pinch plasma radiation sources for the extreme ultraviolet
Neff, W.; Bergmann, K.; Rosier, O.; Lebert, R.; Juschkin, L.
Journal Article
2001Preliminary results from key experiments on sources for EUV lithography
Lebert, R.; Aschke, L.; Bergmann, K.; Dusterer, S.; Gabel, K.; Hoffmann, D.; Loosen, P.; Neff, W.; Nickles, P.; Rosier, O.; Poprawe, R.; Rudolph, D.; Sandner, W.; Sauerbrey, R.; Schmahl, G.; Schwoerer, H.; Stiehl, H.; Will, I.; Ziener, C.
Journal Article
2000Extreme-ultraviolet source development: a comparison of different concepts
Schriever, G.; Rahe, M.; Rebhan, M.; Basting, D.; Walecki, W.J.; Lauth, H.; Lebert, R.; Bergmann, K.; Hoffmann, D.; Rosier, O.; Neff, W.; Poprawe, R.; Sauerbrey, R.; Schroerer, H.; Düsterer, S.; Ziener, C.; Nickles, P.; Stiehl, H.; Will, I.; Sandner, W.; Schahl, G.; Rudolph, D.
Conference Paper
2000Pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography with a kilohertz repetition frequency
Bergmann, K.; Rosier, O.; Neff, W.; Lebert, R.
Journal Article
1999Highly repetitive, extreme-ultraviolet radiation source based on a gas-discharge plasma
Bergmann, K.; Schriever, G.; Rosier, O.; Müller, M.; Neff, W.; Lebert, R.
Journal Article