Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2011Characterization of CMOS programmable multi-beam blanking arrays as used for programmable multi-beam projection lithography and resistless nanopatterning
Eder Kapl, S.; Loeschner, H.; Piller, W.; Witt, M.; Pilz, W.; Letzkus, F.; Jurisch, M.; Irmscher, M.; Platzgummer, E.
Journal Article
2009Charged particle multi-beam lithography evaluations for sub-16nm hp mask node fabrication and wafer direct write
Platzgummer, E.; Klein, C.; Joechl, P.; Loeschner, H.; Witt, M.; Pilz, W.; Butschke, J.; Jurisch, M.; Letzkus, F.; Sailer, H.; Irmscher, M.
Conference Paper
2009PML2: The maskless multibeam solution for the 22nm node and beyond
Klein, C.; Platzgummer, E.; Klikovits, J.; Piller, W.; Loeschner, H.; Bejdak, T.; Dolezel, P.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.; Jaschinsky, P.; Thrum, F.; Hohle, C.; Kretz, J.; Nogatch, J.T.; Zepka, A.
Conference Paper
2008MAGIC: A european program to push the insertion of maskless lithography
Pain, L.; Icard, B.; Tedesco, S.; Kampherbeck, B.; Gross, G.; Klein, C.; Loeschner, H.; Platzgummer, E.; Morgan, R.; Manakli, S.; Kretz, J.; Holhe, C.; Choi, K.-H.; Thrum, F.; Kassel, E.; Pilz, W.; Keil, K.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Letzkus, F.; Hudek, P.; Paraskevopoulos, A.; Ramm, P.; Weber, J.
Conference Paper
2008Projection maskless lithography (PML2)
Klein, C.; Platzgummer, E.; Loeschner, H.; Gross, G.; Dolezel, P.; Tmej, M.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.
Conference Paper
2007Ion projection surface structuring with noble gas ions at 75 keV
Bruenger, W.H.; Dietzel, A.H.; Loeschner, H.
Conference Paper, Journal Article
2006Simulation of ion beam direct structuring for 3D nanoimprint template fabrication
Platzgummer, E.; Biedermann, A.; Langfischer, H.; Eder-Kapl, S.; Kuemmel, M.; Cernusca, S.; Loeschner, H.; Lehrer, C.; Frey, L.; Lugstein, A.; Bertagnolli, E.
Conference Paper, Journal Article
2005Demonstrators: A vital step forward for projection mask-less lithography (PML2)
Brandstätter, C.; Haugeneder, E.; Döring, H.-J.; Elster, T.; Heinitz, J.; Fortagne, O.; Eder-Kapl, S.; Lammer, G.; Jochl, P.; Löschner, H.; Reimer, K.; Saniter, J.; Talmi, M.; Eberhardt, R.; Krönert, K.
Conference Paper
2005Proof-of-concept tool development for projection mask-less lithography (PML2)
Döring, H.-J.; Elster, T.; Heinitz, J.; Fortagne, O.; Brandstätter, C.; Haugeneder, E.; Eder-Kapl, S.; Lammer, G.; Löschner, H.; Reimer, K.; Eichholz, J.; Saniter, J.
Conference Paper
2003Ion projection direct-structuring for nanotechnology applications
Loeschner, H.; Fantner, E.J.; Korntner, R.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Zeininger, M.; Baglin, J.E.E.; Berger, R.; Brünger, W.H.; Dietzel, A.; Baraton, M.-I.; Merhari, L.
Conference Paper
2003Large-field particle beam optics for projection and proximity printing and for maskless lithography
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Gross, G.; Fortagne, O.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C.
Journal Article
2003Nanopatterning of magnetic disks by single-step ar+ ion projection
Dietzel, A.; Berger, R.; Loeschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Bruenger, W.H.; Letzkus, F.
Journal Article
2002Ion projection direct structuring for patterning of magnetic media
Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Letzkus, F.; Springer, R.; Löschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Bandic, Z.Z.; Terris, B.D.
Journal Article
2002Ion projection printing for patterning of magnetic media
Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Bruenger, W.H.; Dzionk, C.; Letzkus, F.; Springer, R.; Loeschner, H.; Platzgummer, E.; Terris, B.D.
Conference Paper
2002Large-field ion-optics for projection and proximity printing and for mask-less lithography (ML2)
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C.
Conference Paper
2002Resistless patterning of magnetic storage media using ion projection structuring
Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Schug, C.; Brünger, W.H.; Dzionk, C.; Letzkus, F.; Springer, R.; Löschner, H.; Platzgummer, E.; Stengl, G.; Anders, S.; Bandic, Z.Z.; Rettner, C.T.; Terris, B.D.; Eichhorn, H.; Böhm, M.; Adam, D.
Conference Paper
2001Status of ion projection lithography
Brünger, W.; Kaesmaier, R.; Loeschner, H.; Springer, R.
Conference Paper
1999Measuring acid generation efficiency in chemically amplified resists with all 3 beams
Szmanda, C.R.; Brainard, R.L.; Mackevich, J.F.; Awaji, A.; Tanaka, T.; Yamada, Y.; Bohland, J.; Tedesco, S.; Dalzotto, B.; Bruenger, W.; Torkler, M.; Fallmann, W.; Loeschner, H.; Kaesmaier, R.; Nealey, P.M.; Pawloski, A.R.
Journal Article
1999Measuring acid generation efficiency in chemically amplified resists with all three beams
Szmanda, C.S.; Brainard, R.L.; Mackevich, J.F.; Awaji, A.; Tanaka, T.; Yamada, Y.; Bohland, J.; Tedesco, S.; Dal'Zotto, B.; Brünger, W.H.; Torkler, M.; Fallmann, W.; Löschner, H.; Käsmaier, R.; Nealey, P.M.; Pawloski, A.R.
Conference Paper
1999Minimum ion-beam exposure-dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices
Brünger, W.H.; Torkler, M.; Weiss, M.; Löschner, H.; Leung, K.; Lee, Y.; Hudek, P.; Rangelow, J.W.; Stangl, G.; Fallmann, W.
Conference Paper
1999Resolution improvement of ion projector with a low energy spread multicusp ion source
Brünger, W.H.; Torkler, M.; Leung, K.N.; Lee, Y.; Williams, M.D.; Löschner, H.; Stengl, G.; Fallmann, W.; Paschke, F.; Stangl, G.; Rangelow, J.W.; Hudek, P.
Conference Paper
1997DUV resist UV II HS applied to high resolution e-beam lithography and to masked ion beam proximity and reduction printing
Brünger, W.H.; Buschbeck, H.; Cekan, E.; Eder, S.; Fedynyshyn, T.H.; Hertlein, W.G.; Hudek, P.; Kostic, I.; Loeschner, H.; Rangelow, J.W.; Torkler, M.
Conference Paper
1992Lithography with high depth of focus by an ion projection system
Buchmann, L.-M.; Schnakenberg, U.; Torkler, M.; Löschner, H.; Stengl, G.; Traher, C.; Fallmann, W.; Stangl, G.; Cekan, E.
Conference Paper
1992Lithography with high depth of focus by an ion projection system2
Buchmann, L.-M.; Schnakenberg, U.; Torkler, M.; Löschner, H.; Stengl, G.; Traher, C.; Fallmann, W.; Stangl, G.; Cekan, E.
Journal Article
1990Ion projection lithography - electronic alignment and dry development of IPL exposed resist materials
Buchmann, L.-M.; Heuberger, A.; Fallmann, W.; Paschke, F.; Stangl, G.; Chalupka, A.; Fegerl, J.; Löschner, H.; Malek, L.; Nowak, R.; Stengl, G.; Traher, C.; Wolf, P.; Fischer, R.
Journal Article
1988Sub-0.5-mym lithography with a new ion projection lithography machine using silicon open stencil masks
Csepregi, L.; Heuberger, A.; Müller, K.P.; Chalupka, A.; Hammel, E.; Löschner, H.; Stengl, G.; Buchmann, L.-M.
Journal Article