| | |
|---|
| 2008 | RF superimposed DC sputtering of zinc tin oxide (ZTO) and indium zinc oxide (IZO)
Heimke, B.; Kopte, T.; Hartung, U.; Nyderle, R.; Junghähnel, M.; Krause, U.; Braun, J. | Conference Paper |
| 2007 | Verfahren und Vorrichtung zum Loeschen von Bogenentladungen
Krause, U.; Hartung, U.; Kopte, T. | Patent |
| 2006 | A controlled pulsed reactive magnetron sputtering process for oxide film deposition
Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Herrmann, M.; Welzel, T.; Richter, F.; Krause, U.; Kopte, T.; Peters, C.; Frach, P.; Cheng, Y. | Conference Paper |
| 2006 | High-rate deposition of MgO by reactive ac pulsed magnetron sputtering in the transition mode
Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Richter, F.; Peters, C.; Krause, U.; Kopte, T.; Cheng, Y. | Journal Article |
| 2005 | High-power diode laser bars as pump sources for fiberlasers and amplifiers
Bonati, G.; Hennig, P.; Wolff, D.; Voelckel, H.; Gabler, T.; Krause, U.; Tünnermann, A.; Reich, M.; Limpert, J.; Werner, E.; Liem, A. | Conference Paper |
| 2005 | Structure and secondary electron emission properties of MGO films deposited by pulsed mid-frequency magnetron sputtering
Peters, C.; Krause, U.; Kupfer, H.; Kleinhempel, R.; Richter, F. | Conference Paper |
| 2005 | Verfahren und Vorrichtung zum Einbringen von Gasen bei Vakuumbeschichtungsprozessen
Krause, U.; Hartung, U.; Kopte, T.; Krause, I. | Patent |
| 2005 | Vorrichtung und Verfahren zum reaktiven Beschichten von Objekten
Krause, U.; Hartung, U.; Peters, C.; Krause, I.; Kopte, T. | Patent |
| 2004 | Influence of O2 flow rate on the structural properties of MgO films deposited by dual magnetron sputtering
Cheng, Y.H.; Kupfer, H.; Krause, U.; Richter, F. | Conference Paper, Journal Article |
| 2004 | Verfahren und Einrichtung zur Reduzierung der Zuendspannung von Plasmen
Hartung, U.; Krause, U.; Kopte, T.; List, M. | Patent |
| 2003 | Verfahren und Einrichtung zur Reduzierung der Zuendspannung von Leistungspulsen gepulst betriebener Plasmen
Schulze, M.; Krause, U. | Patent |
| 2002 | Comparison of layer properties deposited with unipolar and bipolar pulsed magnetron sputtering
Krause, U.; Peters, C.; Rettich, T.; Wiedemuth, P. | Conference Paper |
| 2002 | Dual Magnetron Sputter System as dc cathode - an investigation of its electrical properties
Krause, U.; Rettich, T.; Wiedemuth, P. | Conference Paper |
| 2002 | Investigation of the behaviour of a lambda probe in reactive sputtering environment
Krause, U.; Hartung, J.; Peters, C.; Tautenhahn, I. | Conference Paper |
| 2002 | The resistance lowering effect of an additional ZnO-layer in a low-E-system on glass
Treichel, O.; Krause, U.; Peters, C.; Hartung, U.; Tautenhahn, I.; Gnehr, W.-M.; List, M. | Conference Paper |
| 2002 | Verfahren zur Erkennung von Ueberschlaegen in gepulst betriebenen Plasmen
Krause, U.; Schulze, M.; Kopte, T.; Kirchhoff, V. | Patent |
| 2001 | Deposition of magnesium oxide with reactive pulsed magnetron sputtering technology
Peters, C.; Krause, U. | Conference Paper |
| 2001 | Dynamic behavior of unipolar and bipolar pulsed magnetron sputtering
List, M.; Krause, U.; Wünsche, T. | Conference Paper |
| 2001 | Process dynamics of high power pulsed magnetron sputtering for large area coating
Krause, U.; List, M.; Mecke, H.; Sommer, S. | Conference Paper |
| 2001 | Requirements of power supply parameters for high-power pulsed magnetron sputtering
Krause, U.; List, M.; Fuchs, H. | Conference Paper |
| 2001 | Das Verhalten der elektrischen Parameter beim bipolaren Puls-Magnetron-Sputtern am Beispiel von Zinn- und Zinkoxid
Krause, U. | Dissertation |
| 2000 | Requirements for the system power supply sputter source for high power pulsed magnetron sputtering
Krause, U.; Schulze, M.; Fuchs, H. | Conference Paper |
| 1998 | Innovative Marktkonzepte für die Kreislaufwirtschaft. Industrielle Konzepte zur Nutzungsintensivierung und Lebensdauerverlängerung von Produkten
: Fleig, J.; Krause, U. | Conference Proceedings |