Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2014EUV discharge lamp with moving protective component
Prümmer, Ralf; Jonkers, Jeroen
Patent
2010Angular ion emission characteristics of a laser triggered tin vacuum arc as light source for extreme ultraviolet lithography
Verbraak, H.; Küpper, F.; Jonkers, J.; Bergmann, K.
Journal Article
2008Extreme ultraviolet plasma source for future lithography
Wagenaars, E.; Mader, A.; Bergmann, K.; Jonkers, J.; Neff, W.
Journal Article
2008Power scaling of an extreme ultraviolet light source for future lithography
Wagenaars, E.; Küpper, F.; Klein, J.; Neff, W.; Damen, M.; Wel, P. van der; Vaudrevange, D.; Jonkers, J.
Journal Article
2008Sn DPP source-collector modules. Status of alpha resources, beta developments, and the scalability to HVM
Corthout, M.; Apetz, R.; Brudermann, J.; Damen, M.; Derra, G.; Franken, O.; Jonkers, J.; Klein, J.; Küpper, F.; Mader, A.; Neff, W.
Conference Paper
2006EUV aources for the alpha-tools
Pankert, J.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Damen, M.; Derra, G.; Franken, O.; Janssen, M.; Jonkers, J.; Klein, J.; Kraus, H.; Krücken, T.; List, A.; Loeken, M.; Mader, A.; Metzmacher, C.; Neff, W.; Probst, S.; Prümmer, R.; Rosier, O.; Schwabe, S.; Seiwert, S.; Siemons, G.; Vaudrevange, D.; Wagemann, D.; Weber, A.; Zink, P.; Zitzen, O.
Conference Paper
2005Gasentladungslampe fuer EUV-Strahlung
Neff, W.; Bergmann, K.; Jonkers, J.; Pankert, J.; Derra, G.
Patent
2005Integrating Philips' extreme UV source in the alpha-tools
Pankert, J.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Derra, G.; Janssen, M.; Jonkers, J.; Klein, J.; Krücken, T.; List, A.; Loeken, M.; Neff, W.; Probst, S.; Prummer, R.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Siemons, G.; Vaudrevange, D.; Wagemann, D.; Weber, A.; Zink, P.; Zitzen, O.
Conference Paper
2005Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem- Ultraviolettstrahlung oder weicher Roentgenstrahlung
Jonkers, J.; Vaudrevange, D.M.; Neff, W.
Patent
2004Frequency scaling in a hollow-cathode-triggered pinch plasma as radiation source in the extreme ultraviolet
Rosier, O.; Apetz, R.; Bergmann, K.; Jonkers, J.; Wester, R.; Neff, W.; Pankert, J.
Journal Article
2004Status of Philips' extreme UV source
Pankert, J.; Bergmann, K.; Klein, J.; Neff, W.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Smith, C.; Probst, S.; Vaudrevange, D.; Siemons, G.; Apetz, R.; Jonkers, J.; Locken, M.; Derra, G.; Krücken, T.; Zink, P.
Conference Paper
2004Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas durch elektrische Entladung in einem Entladungsraum
Neff, W.; Jonkers, J.; Bosch, E.; Derra, G.
Patent
2003Physical properties of the HCT EUV source
Pankert, J.; Bergmann, K.; Klein, J.; Neff, W.; Rosier, O.; Seiwert, S.; Smith, C.; Probst, S.; Vaudrevange, D.; Siemons, G.; Apetz, R.; Jonkers, J.; Löken, M.; Bosch, E.; Derra, G.; Krucken, T.; Zink, P.
Conference Paper