Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
1996Einrichtung zum Vakuumbeschichten von Massengut
Goedicke, K.; Metzner, C.; Schmidt, J.; Heisig, U.; Schiller, S.; Reschke, J.
Patent
1995Chip-Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
Goedicke, K.; Panzer, S.; Heisig, U.; Schmidt, H.; Jarzak, W.
Patent
1993Aspects and results of long-term stable deposition of Al2O3 with high-rate pulsed reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Heisig, U.; Gottfried, C.; Walde, H.
Conference Paper, Journal Article
1993Control of reactive DC magnetron sputtering of SnO2 by means of optical emission
Kirchhoff, V.; Heisig, U.
Conference Paper
1993Einrichtung zum Aufbringen elektrisch schlecht leitender oder isolierender Schichten durch reaktives Magnetronsputtern
Gottfried, C.; Walde, H.; Frach, P.; Heisig, U.
Patent
1992Zerstaeubungseinrichtung
Heisig, U.; Frach, P.; Liebergeld, H.; Holfeld, A.; Winkler, T.
Patent
1992Zerstaeubungseinrichtung
Heisig, U.; Frach, P.; Goedicke, K.
Patent
1991Plasma-Emissions-Monitorierung beim reaktiven DC-Magnetron-Sputtern
Schiller, S.; Heisig, U.; Strümpfel, J.
Conference Paper
1988Hochrate-Sputtertechnik und deren Einsatz in verschiedenen Industriezweigen
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.
Journal Article
1988On the use of a multiple magnetron arrangement for metallization of electronic components at high productivity
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Hartung, J.
Conference Paper, Journal Article
1988Reaktives DC-Plasmatron-Sputtern
Heisig, U.; Schiller, S.; Beister, G.; Strümpfel, J.; Reschke, J.; Korndörfer, C.
Conference Paper
1987Die Herstellung isolierender oxidischer Verschleißschutzschichten auf der Basis von Chrom-Silizium durch reaktives DC-Hochratezerstäuben
Schiller, S.; Heisig, U.; Korndörfer, C.; Steinfelder, K.
Journal Article
1987High-rate vapor deposition and large systems for coating processes
Schiller, S.; Beister, G.; Heisig, U.; Förster, H.
Journal Article
1987Reactive d.c. high-rate sputtering as production technology
Schiller, S.; Heisig, U.; Korndörfer, C.; Beister, G.; Reschke, J.; Steinfelder, K.; Strümpfel, J.
Conference Paper
1984Deposition of hard wear-resistant coatings by reactive D.C. plasmatron sputtering
Schiller, S.; Heisig, U.; Beister, G.; Steinfelder, K.; Strümpfel, J.; Korndörfer, C.; Sieber, W.
Journal Article
1984Plasmatron sputtering for the production of high stability NiCr resistive films
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Bilz, H.; Henneberger, J.; Brode, W.; Dietrich, W.
Journal Article
1982Cr-Si resistive films produced by magnetron-plasmatron sputtering
Schiller, S.; Heisig, U.; Steinfelder, K.; Korndörfer, C.
Journal Article
1982Electron beam technology
Schiller, S.; Heisig, U.; Panzer, S.
Book
1982Methods and applications of plasmatron high rate sputtering in microelectronics, hybrid microelectronics and electronics
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Bilz, H.; Steinfelder, K.
Conference Paper, Journal Article
1982On the investigation of d.c. plasmatron discharges by optical emission spectrometry
Schiller, S.; Heisig, U.; Steinfelder, K.; Strümpfel, J.; Voigt, R.; Fendler, R.; Teschner, G.
Journal Article
1982Zerstaeubungsanlage mit automatischer Beschickungseinrichtung
Kosch, W.; Weckend, S.; Teschner, G.; Heisig, U.
Patent
1981Complete thin film system for hybrid circuits sputtered with the plasmatron
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Bilz, H.; Pfeil, G.; Henneberger, J.; Vogler, G.
Journal Article
1981Reaktives DC-Hochratezerstäuben mit dem Plasmatron für industrielle Anwendungen
Schiller, S.; Heisig, U.; Steinfelder, K.; Strümpfel, J.; Sieber, W.
Journal Article
1981Verfahren und Einsatzmöglichkeiten des Plasmatron-Hochratezerstäubens für Beschichtungsaufgaben der Elektronik
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Bilz, H.; Steinfelder, K.
Journal Article
1980Metallization of ceramics for electronic components by magnetron-plasmatron coating
Schiller, S.; Heisig, U.; Steinfelder, K.; Mehr, D.; Thuss, B.; Petermann, R.
Journal Article
1979Advances in high rate sputtering with magnetron-plasmatron processing and instrumentation
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Steinfelder, K.; Schade, K.; Teschner, G.; Henneberger, J.
Journal Article
1979Beschichten von Reflektoren mit kleinem Krümmungsradius unter Ausnutzung der Gasstreuung
Steinfelder, K.; Heisig, U.; Strümpfel, J.
Journal Article
1979Dispersion-strengthened copper-based materials formed by high rate magnetron/plasmatron sputtering
Häußler, G.; Daut, H.-H.; Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Hempel, W.
Journal Article, Conference Paper
1979Reaktive D.C. sputtering with the magnetron-plasmatron for tantalum pentoxide and titanium dioxide films
Schiller, S.; Heisig, U.; Steinfelder, K.; Strümpfel, J.
Journal Article
1978Alternierendes Ionenplattieren. Ein Beschichtungsverfahren mit periodischer Ioneneinwirkung
Goedicke, K.; Schiller, S.; Heisig, U.
Journal Article
1978Electron beam evaporation and high-rate sputtering with plasmatron/magnetron systems - a comparison (Teil I)
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.
Journal Article
1978Electron beam evaporation and high-rate sputtering with plasmatron/magnetron systems - a comparison (Teil II)
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.
Journal Article
1977Comparison between electron beam evaporation and high-rate sputtering with the plasmatron
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.
Conference Paper
1977On the use of ring gap discharges for high-rate vacuum coating
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.
Journal Article
1977Pretreatment of metallic substrates with the plasmatron
Schiller, S.; Heisig, U.; Steinfelder, K.; Gehm, K.
Journal Article
1977Zum Einfluß der Beschleunigungsspannung des Elektronenstrahls auf den Einbrand
Schiller, S.; Panzer, S.; Heisig, U.; Ardenne, T. von
Journal Article
1976Automatic positioning seam tracking capability of electron beam welding
Schiller, S.; Panzer, S.; Heisig, U.; Ardenne, T. von
Conference Paper
1976Bedampfungstechnik. Verfahren, Einrichtungen, Anwendungen
Schiller, S.; Heisig, U.
Book
1976Elektronenstrahltechnologie
Schiller, S.; Heisig, U.; Panzer, S.
Book
1976High-rate sputtering with a torus plasmatron
Heisig, U.; Goedicke, K.; Schiller, S.
Conference Paper
1976New sputter-cleaning system for metallic substrates
Schiller, S.; Heisig, U.; Steinfelder, K.
Journal Article
1975Alternating ion plating - a method of high-rate ion vapor deposition
Goedicke, K.; Schiller, S.; Heisig, U.
Journal Article
1975Aspekte zur gezielten strukturierten Bedampfung in einer großtechnischen Drehkorbanlage
Heisig, U.; Goedicke, K.; Göricke, H.J.
Journal Article
1975Electron beam trimming of thin and thick film resistor networks
Schiller, S.; Heisig, U.; Panzer, S.
Journal Article
1974The physical fundamentals of thin film machining
Schiller, S.; Panzer, S.; Heisig, U.
Conference Paper
1967Die KME 3-Technik. Eine ökonomische Variante zur Herstellung von Dünnschicht-Hybrid-Schaltkreisen
Schleicher, E.; Thieme, O.; Henneberger, J.; Schiller, S.; Heisig, U.
Journal Article

 

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