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| 2007 | Verfahren zur Herstellung eines Duennschichtsystems
Winkler, T.; Goedicke, K.; Bluethner, R.; Junghaehnel, M.; Buchberger, H.; Mueller, M.; Hebgen, A.; Schneider, H. | Patent |
| 2006 | "SV in-line" equipment concept with uninterrupted stream of substrate carriers for reactive sputtered optical multi layer coatings
Hentsch, W.; Fendler, R.; Krug, M.; Liepack, H.; Goedicke, K.; Frach, P.; Gottfried, C. | Conference Paper |
| 2006 | Kolbengehaeuse fuer Verbrennungskraftmaschinen sowie Vorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten eines Kolbengehaeuses
Fietzke, F.; Klostermann, H.; Goedicke, K.; Boecher, B. | Patent |
| 2006 | Oberflaechenveredeltes Objekt, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Objektes
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Gloess, D.; Frach, P. | Patent |
| 2006 | Pulse magnetron sputtering in a reactive gas mixture of variable composition to manufacture multilayer and gradient optical coatings
Lange, S.; Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K. | Conference Paper, Journal Article |
| 2006 | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas sowie Verwendung derselben
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Flaske, H.; Liebig, J.; Kirchhoff, V. | Patent |
| 2006 | Verfahren zum Vakuumbeschichten mit einer photohalbleitenden Schicht und Anwendung des Verfahrens
Frach, P.; Gloess, D.; Goedicke, K.; Klinkenberg, S.; Gottfried, C.; Kirchhoff, V. | Patent |
| 2006 | VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES PVD AL2O3 BESCHICHTETEN SCHNEIDWERKZEUGS
Schiller, S.; Goedicke, K.; Fietzke, F.; Zywitzki, O.; Sjoestrand, M.; Ljungberg, B. | Patent |
| 2005 | Einrichtung zum Beschichten eines stationaer angeordneten Substrats durch Puls-Magnetron-Sputtern
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C. | Patent |
| 2005 | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substratoberflaechen mittels Ladungstraegerbeschuss
Klostermann, H.; Fietzke, F.; Goedicke, K.; Wuensche, T.; Boecher, B. | Patent |
| 2005 | Verfahren und Vorrichtung zum Intensivieren einer gepulsten Magnetronentladung
Fietzke, F.; Klostermann, H.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Wuensche, T.; Boecher, B. | Patent |
| 2005 | Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren des Verdampfens mittels Schiffchenverdampfer
Wuensche, T.; Fietzke, F.; Goedicke, K.; Straach, S. | Patent |
| 2005 | Verfahren zur Herstellung eines Duennschichtsystems durch Puls-Magnetron-Sputtern
Goedicke, K.; Frach, P.; Bartzsch, H.; Kirchhoff, V.; Labitzke, R. | Patent |
| 2005 | Vorrichtung und Verfahren zum Aufbringen eines Duennschichtsystems mittels Zerstaeuben
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Lange, S. | Patent |
| 2004 | Einrichtung und Verfahren zum Beschichten von Substraten
Frach, P.; Bartzsch, H.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Liebig, J.; Kirchhoff, V. | Patent |
| 2004 | Einrichtung zum Beschichten durch Magnetron-Sputtern
Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Frach, P. | Patent |
| 2004 | Einrichtung zur Einstellung einer vorgegebenen Schichtdickenverteilung bei Vakuumbeschichtungsprozessen auf bewegten Substraten
Goedicke, K.; Liebig, J. | Patent |
| 2004 | Einrichtung zur Erzeugung einer Magnetron-Entladung
Goedicke, K.; Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Winkler, T. | Patent |
| 2004 | Gleitlager und Verfahren zu seiner Herstellung
Andler, G.; Heinss, J.; Goedicke, K.; Metzner, C. | Patent |
| 2004 | Gleitlagerschale und Verfahren zu ihrer Herstellung
Andler, G.; Heinss, J.; Goedicke, K.; Metzner, C. | Patent |
| 2004 | Graded refractive index layer systems for antireflective coatings and rugate filters deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Lange, S.; Frach, P.; Goedicke, K. | Conference Paper, Journal Article |
| 2004 | Katodenzerstaeubungsverfahren
Bartzsch, H.; Gottfried, C.; Frach, P.; Goedicke, K.; Lange, S. | Patent |
| 2004 | Korrosionsgeschuetztes Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung und Einrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Straach, S.; Kirchhoff, V.; Hofmann, K.; Hollstein, F. | Patent |
| 2004 | Pulse magnetron sputtering in a reactive gas mixture of variable composition to manufacture multilayer and gradient optical coatings
Lange, S.; Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 2004 | Silicon oxynitride rugate filters grown by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Lange, S.; Frach, P.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 2004 | Structure and properties of crystalline titanium oxide layers deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Zywitzki, O.; Modes, T.; Sahm, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gloss, D. | Conference Paper, Journal Article |
| 2004 | Verbundkoerper mit einer verschleissmindernden Oberflaechenschicht und Verfahren zu seiner Herstellung
Klostermann, H.; Fietzke, F.; Zywitzki, O.; Goedicke, K. | Patent |
| 2004 | Verfahren und Einrichtung zur plasmaaktivierten Schichtabscheidung durch Kathodenzerstaeubung nach dem Magnetron-Prinzip
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Wuensche, T.; Klostermann, H.; Liebig, J. | Patent |
| 2004 | Verfahren und Einrichtung zur wechselweisen Abscheidung zweier Materialien durch Kathoden-Zerstaeubung
Winkler, T.; Goedicke, K.; Bluethner, R.; Liebig, J. | Patent |
| 2004 | Verfahren zum Beschichten von Magnetspeicherplatten und danach hergestellte Magnetspeicherplatte
Buchberger, H.; Mueller, M.; Schneider, H.; Baur, H.; Lehnert, K.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Bluethner, R. | Patent |
| 2004 | Verfahren zum Bipolar-Magnetronsputtern
Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Frach, P.; Winkler, T. | Patent |
| 2004 | Verfahren zum reaktiven Magnetron-Sputtern
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Klostermann, H.; Wuensche, T. | Patent |
| 2004 | Verfahren zur Abscheidung transparenter leitfaehiger Schichten
Egel, M.; Winkler, T.; Goedicke, K. | Patent |
| 2003 | Abscheidung optisch, elektrisch und akustisch wirksamer Schichten mit dem Doppel-Ring-Magnetron
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K. | Journal Article |
| 2003 | Effect of pulse mode in reactive magnetron sputtering on structure and properties of titanium dioxide films
Frach, P.; Glöß, D.; Goedicke, K.; Zywitzki, O.; Sahm, H.; Modes, T. | Conference Paper |
| 2003 | Effect of pulse mode in reactive magnetron sputtering on structure and properties of titanium dioxide films
Frach, P.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Boecher, B.; Glöß, D.; Gottfried, C. | Conference Paper |
| 2003 | High rate deposition of insulating TiO2 and conducting ITO films for optical and display applications
Frach, P.; Glöß, D.; Goedicke, K.; Fahland, M.; Gnehr, W.-M. | Conference Paper, Journal Article |
| 2003 | Photokatalytisches Element zur Aufspaltung von Wasserstoff enthaltenden Verbindungen
Stephani, G.; Andersen, O.; Morgenthal, I.; Fietzke, F.; Goedicke, K.; Fricke, M. | Patent |
| 2003 | Properties of SiO2 and Al2O3 films for electrical insulation applications deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Glöß, D.; Bocher, B.; Frach, P.; Goedicke, K. | Journal Article, Conference Paper |
| 2003 | Verfahren und Einrichtung zum Betreiben von Magnetronentladungen
Goedicke, K.; Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Fietzke, F.; Kirchhoff, V.; Reschke, J. | Patent |
| 2003 | Verfahren zum Beschichten von Folie aus Nickel oder einer Nickellegierung und beschichtete Folie aus Nickel oder einer Nickellegierung
Goedicke, K.; Liebig, J.; Malobabic, P.; Hochreiter, E.; Gulikers, J. | Patent |
| 2003 | Verfahren zur Glanzbeschichtung von Kunststoffteilen, vorzugsweise fuer Fahrzeuge, und danach beschichtetes Kunststoffteil
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Kaeumle, F.; Separautzki, R. | Patent |
| 2002 | Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekruemmter Oberflaeche durch Pulsmagnetron- Zerstaeuben
Liebig, J.S.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V. | Patent |
| 2002 | Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekruemmter Oberflaeche durch Pulsmagnetron-Zerstaeuben
Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Liebig, J. | Patent |
| 2002 | Elektrodenanordnung fuer die magnetfeldgefuehrte plasmagestuetzte Abscheidung duenner Schichten im Vakuum
Winkler, T.; Weiske, D.; Egel, M.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Liebig, J.; Kopte, T. | Patent |
| 2002 | Energetic substrate bonbardment in reactive sputtering with flange-mounted magnetrons in different pulse modes
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C. | Conference Paper |
| 2002 | Ensuring long term stability of process and film parameters during target lifetime in reactive magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Böcher, B.; Gottfried, C. | Conference Paper |
| 2002 | High density pulsed plasma for the deposition of hard coatings on three-dimensional substrates
Klostermann, T.; Fietzke, F.; Zywitzki, O.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 2002 | Rutile and anatase phase TiO2 films obtained on unheated substrates by matched pulse mode and pulse parameters in reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Klinkenberg, S.; Sahm, H.; Modes, T. | Conference Paper |
| 2002 | Structure and properties of Al2O3 layers deposited by plasma activated electron beam evaporation
Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Morgner, H. | Conference Paper |
| 2002 | Verfahren und Einrichtung zur Herstellung von Schichtsystemen fuer optische Praezisionselemente
Liebig, J.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Winkler, T. | Patent |
| 2002 | Verfahren und Schaltungsanordnung zur pulsfoermigen Energieeinspeisung in Magnetronentladungen
Goedicke, K.; Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Handt, K.; Gueldner, H.; Wolf, H.; Eckholz, F. | Patent |
| 2001 | Einrichtung zum Magnetronzerstaeuben
Frach, P.; Goedicke, K.; Holfeld, A.; Gottfried, C. | Patent |
| 2001 | Einrichtung zum Magnetronzerstaeuben
Frach, P.; Goedicke, K.; Holfeld, A.; Gottfried, C.; Bartzsch, H. | Patent |
| 2001 | EINRICHTUNG ZUR BEHANDLUNG VON WERKSTUECKEN IN EINEM NIEDERDRUCK-PLASMA
Winkler, T.; Goedicke, K.; Fietzke, F.; Schiller, S.; Kirchhoff, V. | Patent |
| 2001 | Einrichtung zur reaktiven Beschichtung
Frach, P.; Walde, H.; Gottfried, C.; Holfeld, A.; Goedicke, K. | Patent |
| 2001 | Influence of the unipolar or bipolar pulse mode in reactive magnetron sputtering on the deposition and properties of optical films
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Klinkenberg, S. | Conference Paper |
| 2001 | Korrosionsgeschuetztes Stahlblech und Verfahren zu dessen Herstellung
Scheffel, B.; Goedicke, K.; Metzner, C.; Ehlers, K.; Steffen, R.; Schuhmacher, B.; Hagler, J. | Patent |
| 2001 | New plasma activation processes during the high-rate electron beam evaporation for large area coating
Scheffel, B.; Metzner, C.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V. | Conference Paper |
| 2001 | Stationary reactive pulse magnetron sputtering of optical multilayers and gradient layers on 8" substrates
Frach, P.; Bartzsch, H.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 2001 | Verfahren und Einrichtung zur pulsfoermigen Energiezufuehrung fuer ein Niederdruckplasma und deren Anwendung
Frach, P.; Goedicke, K.; Junghaehnel, M.; Kirchhoff, V.; Winkler, T.; Handt, K. | Patent |
| 2001 | Verfahren und Einrichtung zur Vorbehandlung von Substraten
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Reschke, J.; Hempel, W.; Scheffel, B.; Metzner, C.; Schiller, S. | Patent |
| 2001 | Verfahren zur Herstellung gleitflaechenseitig konkav gekruemmter Gleitelemente
Steeg, M.; Goedicke, K.; Kopte, T.; Metzner, C. | Patent |
| 2001 | Verfahren zur Herstellung von korrosionsgeschuetztem Stahlblech
Goedicke, K.; Metzner, C.; Berner, K.; Ehlers, K.D.; Steinhoff, H.; Duerr, W.; Schuhmacher, B. | Patent |
| 2001 | A versatile coating tool for reactive in-line sputtering in different pulse modes
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Klinkenberg, S. | Journal Article, Conference Paper |
| 2000 | Anode effects on energetic particle bombardment of the substrate in pulsed magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 2000 | Gleitelement mit konkaver Kruemmung und Verfahren zu seiner Herstellung
Goedicke, K.; Kopte, T.; Metzner, C.; Steeg, M. | Patent |
| 2000 | Influence of process parameters on the structure and the properties of ZrO2 coatings deposited by reactive pulsed magnetron sputtering (PMS)
Goedicke, K.; Liebig, J.-S.; Zywitzki, O.; Sahm, H. | Journal Article, Conference Paper |
| 2000 | Schaltungsanordnung und Verfahren zum Einspeisen von Elektroenergie in ein Plasma
Junghaehnel, M.; Handt, K.; Goedicke, K. | Patent |
| 2000 | Verfahren und Einrichtung zum Beschichten von Substraten mittels bipolarer Puls-Magnetron-Zerstaeubung
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Schiller, S. | Patent |
| 2000 | Verfahren und Einrichtung zur Regelung eines Vakuumbedampfungsprozesses
Goedicke, K.; Metzner, C.; Scheffel, B. | Patent |
| 1999 | Different pulse techniques for stationary reactive sputtering with double ring magnetron
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C. | Journal Article |
| 1999 | Einrichtung zum Betreiben einer Niederdruckentladung
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Winkler, T. | Patent |
| 1999 | ORGANISCHES SUBSTRAT MIT OPTSCHEN SCHICHTEN HERGESTELLT MITTELS MAGNETRON-ZERSTAEUBUNG UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG
Liebig, J.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Keller, G.; Bosmans, R.; Comble, P. | Patent |
| 1999 | Rod cathode arc-activated deposition (RAD). A new plasma-activated electron beam PVD process
Scheffel, B.; Metzner, C.; Goedicke, K.; Heinss, J.P.; Zywitzki, O. | Conference Paper |
| 1999 | Rod cathode arc-activated deposition (RAD). A new plasma-activated electron beam PVD process
Scheffel, B.; Metzner, C.; Goedicke, K.; Heinß, J.-P.; Zywitzki, O. | Journal Article |
| 1999 | Verfahren und Einrichtung zum plasmaaktivierten Bedampfen
Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Neumann, M.; Reschke, J.; Schiller, S. | Patent |
| 1999 | Verfahren zur Anpassung des Generators bei bipolaren Niederdruck-Glimmprozessen
Kirchhoff, V.; Schiller, S.; Reschke, J.; Goedicke, K. | Patent |
| 1998 | Einrichtung zum Aufstaeuben von Hartstoffschichten
Goedicke, K.; Fietzke, F. | Patent |
| 1998 | Einrichtung zur Vakuumbeschichtung von Gleitlagern
Metzner, C.; Heinss, J.; Goedicke, K.; Schiller, S.; Wixwat-Ernst, W.; Andler, G. | Patent |
| 1998 | In situ-force measurement for the determination of the evaporation rate with high-rate electron beam evaporation
Scheffel, B.; Goedicke, K. | Conference Paper, Journal Article |
| 1998 | PVD-Beschichtung von Metallband
Metzner, C.; Goedicke, K.; Heinss, J.P.; Scheffel, B. | Journal Article |
| 1998 | Transformer-free semiconductor switches for the energization of a pulsed PVD plasma
Reschke, J.; Goedicke, K.; Junghähnel, M.; Frach, P.; Mark, G. | Conference Paper |
| 1998 | Vakuumbeschichteter Verbundkoerper und Verfahren zu seiner Herstellung
Goedicke, K.; Hoetzsch, G.; Fietzke, F.; Zywitzki, O.; Schiller, S.; Reschke, J.; Hempel, W. | Patent |
| 1998 | Verbundkoerper aus vakuumbeschichtetem Sinterwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung
Goedicke, K.; Hoetzsch, G.; Fietzke, F.; Zywitzki, O.; Schiller, S.; Reschke, J.; Hempel, W. | Patent |
| 1998 | Verfahren zum Beschichten von Duennfilmmagnetplatten
Goedicke, K.; Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Lang, A.; Meyer, D.; Mueller, M.; Schneider, H.H.; Schneider, R.C. | Patent |
| 1998 | Verfahren zum Elektronenstrahlverdampfen
Schiller, S.; Goedicke, K.; Reschke, J.; Scheffel, B.; Metzner, C.; Kern, H. | Patent |
| 1998 | Verfahren zum plasmaaktivierten Elektronenstrahlverdampfen und Einrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
Scheffel, B.; Goedicke, K.; Metzner, C.; Heinss, J.P.; Schiller, S. | Patent |
| 1998 | Verfahren zur reaktiven Beschichtung
Frach, P.; Gottfried, C.; Walde, H.; Goedicke, K. | Patent |
| 1997 | Advanced possibilities for the stationary coating of substrates by means of pulsed magnetron sputtering
Schiller, S.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Frach, P. | Conference Paper |
| 1997 | The double ring magnetron process module - a tool for stationary deposition of metals, insulators and reactive sputtered compounds
Frach, P.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.; Goedicke, K. | Journal Article |
| 1997 | Electron beam - PVD for enhanced surface properties on metallic strips and sheets
Schiller, S.; Metzner, C.; Goedicke, K.; Hoetzsch, G.; Scheffel, B.; Heinss, J.P. | Conference Paper |
| 1997 | Enhanced surface properties of metallic sheets by high-rate electron beam evaporation
Heinss, J.P.; Goedicke, K.; Hoetzsch, G.; Metzner, C.; Scheffel, B. | Conference Paper |
| 1997 | Fortschritte beim Puls-Magnetron-Sputtern
Schiller, S.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Metzner, C. | Journal Article |
| 1997 | Korrosionsgeschuetztes Metall
Goedicke, K.; Neumann, M.; Schiller, S.; Kirchhoff, V.; Reschke, J.; Morgner, H.; Schmidt, H. | Patent |
| 1997 | Puls Plasma
Schiller, S.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Schiller, N. | Book Article |
| 1997 | Verfahren zum Aufbringen von Kohlenstoffschichten durch reaktives Magnetron-Sputtern
Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Goedicke, K.; Frach, P.; Mueller, M.; Haese, F.; Strecker, H.; Meyer, D.W. | Patent |
| 1997 | Verfahren zum plasmagestuetzten reaktiven Elektronenstrahlbedampfen
Schiller, S.; Kirchhoff, V.; Zeissig, G.; Schiller, N.; Goedicke, K.; Neumann, M. | Patent |
| 1997 | Verfahren zur Durchfuehrung von stabilen Niederdruck- Glimmprozessen
Kirchhoff, V.; Reschke, J.; Scheffel, B.; Goedicke, K. | Patent |
| 1996 | Adhesion behavior of PVD coatings on ECR plasma and ion beam treated polymer films
Milde, F.; Goedicke, K.; Fahland, M. | Journal Article |
| 1996 | Application of the magnetron activated deposition process (MAD Process) to coat polymer films with alumina in web coaters
Schiller, N.; Reschke, J.; Goedicke, K.; Neumann, M. | Conference Paper |
| 1996 | Deposition of alumina layers on plastic films using conventional boat evaporators
Schiller, N.; Reschke, J.; Goedicke, K.; Neumann, M. | Conference Paper |
| 1996 | The deposition of hard crystalline Al2O3 layers by means of bipolar pulsed magnetron sputtering
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Hempel, W. | Conference Paper |
| 1996 | Effect of the substrate temperature on the structure and properties of Al2O3 layers reactively deposited by pulsed magnetron sputtering
Zywitzki, O.; Hoetzsch, G.; Fietzke, F.; Goedicke, K. | Journal Article |
| 1996 | Einrichtung zum Vakuumbeschichten von Massengut
Goedicke, K.; Metzner, C.; Schmidt, J.; Heisig, U.; Schiller, S.; Reschke, J. | Patent |
| 1996 | Großflächen-Vorbehandlung für die physikalische Dampfabscheidung (PVD)
Schiller, S.; Goedicke, K.; Milde, F.; Hötzsch, G. | Book Article |
| 1996 | Der MAD-Prozeß - ein plasmaaktiviertes Hochrate-Vakuumbeschichtungsverfahren
Reschke, J.; Goedicke, K.; Schiller, S. | Book Article |
| 1996 | Plasma-activated electron beam deposition with diffuse cathodic vacuum arc discharge (SAD)
Metzner, C.; Scheffel, B.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 1996 | Plasma-activated electron beam deposition with diffuse cathodic vacuum arc discharge (SAD). A technique for coating strip steel
Metzner, C.; Scheffel, B.; Goedicke, K. | Journal Article, Conference Paper |
| 1996 | Plasmaaktivierung für Beschichtungstechnologien mit hohen Raten auf großen Flächen
Schiller, S.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 1996 | Transparente kristalline Aluminiumoxidschichten eröffnen neue Anwendungsfelder
Schiller, S.; Goedicke, K.; Hötzsch, G.; Fietzke, F.; Zywitzki, O. | Book Article |
| 1996 | Verfahren und Einrichtung zum plasmaaktivierten Elektronenstrahlverdampfen
Goedicke, K.; Scheffel, B.; Reschke, J.; Schiller, S.; Kirchhoff, V.; Werner, T. | Patent |
| 1996 | Verfahren und Einrichtung zur Regelung eines Vakuumbeschichtungsprozesses
Goedicke, K.; Metzner, C.; Scheffel, B. | Patent |
| 1996 | Verfahren und Einrichtung zur Regelung von plasmagestuetzten Vakuumbeschichtungsprozessen
Scheffel, B.; Goedicke, K.; Metzner, C.; Kirchhoff, V. | Patent |
| 1996 | Verfahren und Schaltung zur bipolaren pulsfoermigen Energieeinspeisung in Niederdruckplasmen
Walde, H.; Reschke, J.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Kirchhoff, V.; Frach, P. | Patent |
| 1996 | Verfahren zur Stabilisierung der Plasmaerzeugung mittels Elektronenstrahlverdampfer
Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Metzner, C.; Scheffel, B. | Patent |
| 1995 | Advantageous possibilities, design aspects and technical use of double ring magnetron sputter source
Frach, P.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Gottfried, C.; Walde, H.; Hentsch, W. | Conference Paper, Journal Article |
| 1995 | Chip-Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
Goedicke, K.; Panzer, S.; Heisig, U.; Schmidt, H.; Jarzak, W. | Patent |
| 1995 | Entwicklung neuartiger, durch Hochrate-Elektronenstrahlbedampfung herstellbarer Schichtverbunde und deren Eigenschaften - Verbundprojekt
Goedicke, K.; Metzner, C.; Hötzsch, G. | Conference Paper |
| 1995 | Korrosionsgeschuetztes Stahlblech, vorzugsweise Karosserieblech fuer den Fahrzeugbau und Verfahren zu seiner Herstellung
Goedicke, K.; Ehlers, K.D.; Litzke, H.; Wolfhard, D.; Steinhoff, H.; Duerr, W. | Patent |
| 1995 | Large-area pretreatment for physical vapor deposition
Schiller, S.; Goedicke, K.; Milde, F.; Hötzsch, G. | Journal Article, Conference Paper |
| 1995 | Magnetron activated deposition MAD process
Reschke, J.; Goedicke, K.; Schiller, S. | Conference Paper |
| 1995 | New developments in plasma-activated PVC technologies
Schiller, S.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 1995 | New developments in pulsed magnetron sputter technology for glass coater
Schiller, S.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Kopte, T. | Conference Paper |
| 1995 | Plasma-activated high rate EB deposition of metals and oxides onto strip steel
Schiller, S.; Goedicke, K.; Zywitzki, O.; Hötzsch, G. | Conference Paper |
| 1995 | Potenzen des Puls-Magnetron-Sputterns (PMS)
Schiller, S.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Metzner, C. | Journal Article |
| 1995 | Pulsed technology - a new era of magnetron sputtering
Schiller, S.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Kopte, T. | Conference Paper |
| 1995 | Transparent crystalline aluminium oxide layers deposited by pulsed sputtering. Technical report 1995/2
Schiller, S.; Goedicke, K.; Hötzsch, G. | Book |
| 1995 | Verfahren und Einrichtung fuer die ionengestuetzte Vakuumbeschichtung
Neumann, M.; Goedicke, K.; Schiller, S.; Reschke, J.; Morgner, H.; Milde, F.; Fietzke, F. | Patent |
| 1995 | Verfahren zur kontinuierlichen Messung der stofflichen Zusammensetzung des Dampfes einer Schmelze oder eines zu verdampfenden Materials im Vakuum
Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Schiller, N.; Nedon, W.; Schiller, S. | Patent |
| 1994 | Advances in pulsed magnetron sputtering (PMS-process)
Schiller, S.; Goedicke, K.; Metzner, C. | Conference Paper |
| 1994 | Advances in pulsed plasma technology (PMS-Process)
Schiller, S.; Goedicke, K.; Reschke, J. | Conference Paper |
| 1994 | New developments in plasma-activated high-rate EB evaporation for metal strip
Schiller, S.; Goedicke, K.; Hötzsch, G. | Conference Paper |
| 1994 | Plasma-activated high-rate evaporation using a spotless cathodic arc
Goedicke, K.; Scheffel, B.; Schiller, S. | Conference Paper |
| 1993 | Plasma-activated high-rate electron beam evaporation for coating metal strips
Schiller, S.; Goedicke, K.; Metzner, C. | Journal Article |
| 1993 | Potentials of the pulse magnetron sputter technology (PMST)
Schiller, S.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V. | Conference Paper |
| 1993 | Pulsed magnetron sputter technology
Schiller, S.; Goedicke, K.; Reschke, J.; Kirchhoff, V.; Schneider, S.; Milde, F. | Journal Article, Conference Paper |
| 1993 | Verfahren und Einrichtung zur Prozessstabilisierung beim Elektronenstrahlverdampfen
Kirchhoff, V.; Metzner, C.; Goedicke, K.; Schiller, S.; Kern, H. | Patent |
| 1992 | Elektronenstrahlverdampfen. Ein Verfahren zur Hochratebeschichtung
Hötzsch, G.; Goedicke, K.; Neumann, M. | Conference Paper |
| 1992 | Zerstaeubungseinrichtung
Heisig, U.; Frach, P.; Goedicke, K. | Patent |
| 1988 | Hochrate-Sputtertechnik und deren Einsatz in verschiedenen Industriezweigen
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K. | Journal Article |
| 1988 | On the use of a multiple magnetron arrangement for metallization of electronic components at high productivity
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Hartung, J. | Conference Paper, Journal Article |
| 1984 | Plasmatron sputtering for the production of high stability NiCr resistive films
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Bilz, H.; Henneberger, J.; Brode, W.; Dietrich, W. | Journal Article |
| 1982 | Methods and applications of plasmatron high rate sputtering in microelectronics, hybrid microelectronics and electronics
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Bilz, H.; Steinfelder, K. | Conference Paper, Journal Article |
| 1981 | Complete thin film system for hybrid circuits sputtered with the plasmatron
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Bilz, H.; Pfeil, G.; Henneberger, J.; Vogler, G. | Journal Article |
| 1981 | Verfahren und Einsatzmöglichkeiten des Plasmatron-Hochratezerstäubens für Beschichtungsaufgaben der Elektronik
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Bilz, H.; Steinfelder, K. | Journal Article |
| 1979 | Advances in high rate sputtering with magnetron-plasmatron processing and instrumentation
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Steinfelder, K.; Schade, K.; Teschner, G.; Henneberger, J. | Journal Article |
| 1979 | Dispersion-strengthened copper-based materials formed by high rate magnetron/plasmatron sputtering
Häußler, G.; Daut, H.-H.; Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K.; Hempel, W. | Journal Article, Conference Paper |
| 1978 | Alternierendes Ionenplattieren. Ein Beschichtungsverfahren mit periodischer Ioneneinwirkung
Goedicke, K.; Schiller, S.; Heisig, U. | Journal Article |
| 1978 | Electron beam evaporation and high-rate sputtering with plasmatron/magnetron systems - a comparison (Teil I)
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K. | Journal Article |
| 1978 | Electron beam evaporation and high-rate sputtering with plasmatron/magnetron systems - a comparison (Teil II)
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K. | Journal Article |
| 1977 | Comparison between electron beam evaporation and high-rate sputtering with the plasmatron
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K. | Conference Paper |
| 1977 | On the use of ring gap discharges for high-rate vacuum coating
Schiller, S.; Heisig, U.; Goedicke, K. | Journal Article |
| 1976 | High-rate sputtering with a torus plasmatron
Heisig, U.; Goedicke, K.; Schiller, S. | Conference Paper |
| 1975 | Alternating ion plating - a method of high-rate ion vapor deposition
Goedicke, K.; Schiller, S.; Heisig, U. | Journal Article |
| 1975 | Aspekte zur gezielten strukturierten Bedampfung in einer großtechnischen Drehkorbanlage
Heisig, U.; Goedicke, K.; Göricke, H.J. | Journal Article |
| 1973 | Lineare Verdampfer zur Herstellung von Schichten konstanter Dichte
Schiller, S.; Goedicke, K. | Journal Article |