Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2007Verfahren zur Herstellung eines Duennschichtsystems
Winkler, T.; Goedicke, K.; Bluethner, R.; Junghaehnel, M.; Buchberger, H.; Mueller, M.; Hebgen, A.; Schneider, H.
Patent
2006"SV in-line" equipment concept with uninterrupted stream of substrate carriers for reactive sputtered optical multi layer coatings
Hentsch, W.; Fendler, R.; Krug, M.; Liepack, H.; Goedicke, K.; Frach, P.; Gottfried, C.
Conference Paper
2006Kolbengehaeuse fuer Verbrennungskraftmaschinen sowie Vorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten eines Kolbengehaeuses
Fietzke, F.; Klostermann, H.; Goedicke, K.; Boecher, B.
Patent
2006Oberflaechenveredeltes Objekt, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Objektes
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Gloess, D.; Frach, P.
Patent
2006Pulse magnetron sputtering in a reactive gas mixture of variable composition to manufacture multilayer and gradient optical coatings
Lange, S.; Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.
Conference Paper, Journal Article
2006Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas sowie Verwendung derselben
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Flaske, H.; Liebig, J.; Kirchhoff, V.
Patent
2006Verfahren zum Vakuumbeschichten mit einer photohalbleitenden Schicht und Anwendung des Verfahrens
Frach, P.; Gloess, D.; Goedicke, K.; Klinkenberg, S.; Gottfried, C.; Kirchhoff, V.
Patent
2006VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES PVD AL2O3 BESCHICHTETEN SCHNEIDWERKZEUGS
Schiller, S.; Goedicke, K.; Fietzke, F.; Zywitzki, O.; Sjoestrand, M.; Ljungberg, B.
Patent
2005Einrichtung zum Beschichten eines stationaer angeordneten Substrats durch Puls-Magnetron-Sputtern
Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.
Patent
2005Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substratoberflaechen mittels Ladungstraegerbeschuss
Klostermann, H.; Fietzke, F.; Goedicke, K.; Wuensche, T.; Boecher, B.
Patent
2005Verfahren und Vorrichtung zum Intensivieren einer gepulsten Magnetronentladung
Fietzke, F.; Klostermann, H.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Wuensche, T.; Boecher, B.
Patent
2005Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren des Verdampfens mittels Schiffchenverdampfer
Wuensche, T.; Fietzke, F.; Goedicke, K.; Straach, S.
Patent
2005Verfahren zur Herstellung eines Duennschichtsystems durch Puls-Magnetron-Sputtern
Goedicke, K.; Frach, P.; Bartzsch, H.; Kirchhoff, V.; Labitzke, R.
Patent
2005Vorrichtung und Verfahren zum Aufbringen eines Duennschichtsystems mittels Zerstaeuben
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Lange, S.
Patent
2004Einrichtung und Verfahren zum Beschichten von Substraten
Frach, P.; Bartzsch, H.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Liebig, J.; Kirchhoff, V.
Patent
2004Einrichtung zum Beschichten durch Magnetron-Sputtern
Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Frach, P.
Patent
2004Einrichtung zur Einstellung einer vorgegebenen Schichtdickenverteilung bei Vakuumbeschichtungsprozessen auf bewegten Substraten
Goedicke, K.; Liebig, J.
Patent
2004Einrichtung zur Erzeugung einer Magnetron-Entladung
Goedicke, K.; Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Winkler, T.
Patent
2004Gleitlager und Verfahren zu seiner Herstellung
Andler, G.; Heinss, J.; Goedicke, K.; Metzner, C.
Patent
2004Gleitlagerschale und Verfahren zu ihrer Herstellung
Andler, G.; Heinss, J.; Goedicke, K.; Metzner, C.
Patent
2004Graded refractive index layer systems for antireflective coatings and rugate filters deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Lange, S.; Frach, P.; Goedicke, K.
Conference Paper, Journal Article
2004Katodenzerstaeubungsverfahren
Bartzsch, H.; Gottfried, C.; Frach, P.; Goedicke, K.; Lange, S.
Patent
2004Korrosionsgeschuetztes Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung und Einrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Straach, S.; Kirchhoff, V.; Hofmann, K.; Hollstein, F.
Patent
2004Pulse magnetron sputtering in a reactive gas mixture of variable composition to manufacture multilayer and gradient optical coatings
Lange, S.; Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.
Conference Paper
2004Silicon oxynitride rugate filters grown by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Lange, S.; Frach, P.; Goedicke, K.
Conference Paper
2004Structure and properties of crystalline titanium oxide layers deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Zywitzki, O.; Modes, T.; Sahm, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gloss, D.
Conference Paper, Journal Article
2004Verbundkoerper mit einer verschleissmindernden Oberflaechenschicht und Verfahren zu seiner Herstellung
Klostermann, H.; Fietzke, F.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.
Patent
2004Verfahren und Einrichtung zur plasmaaktivierten Schichtabscheidung durch Kathodenzerstaeubung nach dem Magnetron-Prinzip
Fietzke, F.; Goedicke, K.; Wuensche, T.; Klostermann, H.; Liebig, J.
Patent
2004Verfahren und Einrichtung zur wechselweisen Abscheidung zweier Materialien durch Kathoden-Zerstaeubung
Winkler, T.; Goedicke, K.; Bluethner, R.; Liebig, J.
Patent
2004Verfahren zum Beschichten von Magnetspeicherplatten und danach hergestellte Magnetspeicherplatte
Buchberger, H.; Mueller, M.; Schneider, H.; Baur, H.; Lehnert, K.; Goedicke, K.; Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Bluethner, R.
Patent
2004Verfahren zum Bipolar-Magnetronsputtern
Liebig, J.; Kirchhoff, V.; Goedicke, K.; Frach, P.; Winkler, T.
Patent
2004Verfahren zum reaktiven Magnetron-Sputtern
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Klostermann, H.; Wuensche, T.
Patent
2004Verfahren zur Abscheidung transparenter leitfaehiger Schichten
Egel, M.; Winkler, T.; Goedicke, K.
Patent
2003Abscheidung optisch, elektrisch und akustisch wirksamer Schichten mit dem Doppel-Ring-Magnetron
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.
Journal Article
2003Effect of pulse mode in reactive magnetron sputtering on structure and properties of titanium dioxide films
Frach, P.; Glöß, D.; Goedicke, K.; Zywitzki, O.; Sahm, H.; Modes, T.
Conference Paper
2003Effect of pulse mode in reactive magnetron sputtering on structure and properties of titanium dioxide films
Frach, P.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Boecher, B.; Glöß, D.; Gottfried, C.
Conference Paper
2003High rate deposition of insulating TiO2 and conducting ITO films for optical and display applications
Frach, P.; Glöß, D.; Goedicke, K.; Fahland, M.; Gnehr, W.-M.
Conference Paper, Journal Article
2003Photokatalytisches Element zur Aufspaltung von Wasserstoff enthaltenden Verbindungen
Stephani, G.; Andersen, O.; Morgenthal, I.; Fietzke, F.; Goedicke, K.; Fricke, M.
Patent
2003Properties of SiO2 and Al2O3 films for electrical insulation applications deposited by reactive pulse magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Glöß, D.; Bocher, B.; Frach, P.; Goedicke, K.
Journal Article, Conference Paper
2003Verfahren und Einrichtung zum Betreiben von Magnetronentladungen
Goedicke, K.; Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Fietzke, F.; Kirchhoff, V.; Reschke, J.
Patent
2003Verfahren zum Beschichten von Folie aus Nickel oder einer Nickellegierung und beschichtete Folie aus Nickel oder einer Nickellegierung
Goedicke, K.; Liebig, J.; Malobabic, P.; Hochreiter, E.; Gulikers, J.
Patent
2003Verfahren zur Glanzbeschichtung von Kunststoffteilen, vorzugsweise fuer Fahrzeuge, und danach beschichtetes Kunststoffteil
Goedicke, K.; Fietzke, F.; Kaeumle, F.; Separautzki, R.
Patent
2002Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekruemmter Oberflaeche durch Pulsmagnetron- Zerstaeuben
Liebig, J.S.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.
Patent
2002Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekruemmter Oberflaeche durch Pulsmagnetron-Zerstaeuben
Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Liebig, J.
Patent
2002Elektrodenanordnung fuer die magnetfeldgefuehrte plasmagestuetzte Abscheidung duenner Schichten im Vakuum
Winkler, T.; Weiske, D.; Egel, M.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Liebig, J.; Kopte, T.
Patent
2002Energetic substrate bonbardment in reactive sputtering with flange-mounted magnetrons in different pulse modes
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Gottfried, C.
Conference Paper
2002Ensuring long term stability of process and film parameters during target lifetime in reactive magnetron sputtering
Bartzsch, H.; Frach, P.; Goedicke, K.; Böcher, B.; Gottfried, C.
Conference Paper
2002High density pulsed plasma for the deposition of hard coatings on three-dimensional substrates
Klostermann, T.; Fietzke, F.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.
Conference Paper
2002Rutile and anatase phase TiO2 films obtained on unheated substrates by matched pulse mode and pulse parameters in reactive magnetron sputtering
Frach, P.; Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Gottfried, C.; Klinkenberg, S.; Sahm, H.; Modes, T.
Conference Paper
2002Structure and properties of Al2O3 layers deposited by plasma activated electron beam evaporation
Zywitzki, O.; Goedicke, K.; Morgner, H.
Conference Paper
2002Verfahren und Einrichtung zur Herstellung von Schichtsystemen fuer optische Praezisionselemente
Liebig, J.; Goedicke, K.; Kirchhoff, V.; Winkler, T.
Patent
2002Verfahren und Schaltungsanordnung zur pulsfoermigen Energieeinspeisung in Magnetronentladungen
Goedicke, K.; Winkler, T.; Junghaehnel, M.; Handt, K.; Gueldner, H.; Wolf, H.; Eckholz, F.
Patent
2001Einrichtung zum Magnetronzerstaeuben
Frach, P.; Goedicke, K.; Holfeld, A.; Gottfried, C.
Patent
2001Einrichtung zum Magnetronzerstaeuben
Frach, P.; Goedicke, K.; Holfeld, A.; Gottfried, C.; Bartzsch, H.
Patent
2001EINRICHTUNG ZUR BEHANDLUNG VON WERKSTUECKEN IN EINEM NIEDERDRUCK-PLASMA
Winkler, T.; Goedicke, K.; Fietzke, F.; Schiller, S.; Kirchhoff, V.
Patent
2001EINRICHTUNG ZUR BEHANDLUNG VON WERKSTUECKEN IN EINEM NIEDERDRUCK-PLASMA
Winkler, T.; Goedicke, K.; Fietzke, F.; Schiller, S.; Kirchhoff, V.
Patent