Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2003Large-field particle beam optics for projection and proximity printing and for maskless lithography
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Gross, G.; Fortagne, O.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C.
Journal Article
2002Large-field ion-optics for projection and proximity printing and for mask-less lithography (ML2)
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C.
Conference Paper
1990Ion projection lithography - electronic alignment and dry development of IPL exposed resist materials
Buchmann, L.-M.; Heuberger, A.; Fallmann, W.; Paschke, F.; Stangl, G.; Chalupka, A.; Fegerl, J.; Löschner, H.; Malek, L.; Nowak, R.; Stengl, G.; Traher, C.; Wolf, P.; Fischer, R.
Journal Article
1988Sub-0.5-mym lithography with a new ion projection lithography machine using silicon open stencil masks
Csepregi, L.; Heuberger, A.; Müller, K.P.; Chalupka, A.; Hammel, E.; Löschner, H.; Stengl, G.; Buchmann, L.-M.
Journal Article