Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2014Structure placement accuracy of wafer level stamps for substrate conformal imprint lithography
Fader, Robert; Förthner, Michael; Rumler, Maximilian; Rommel, Mathias; Bauer, Anton J.; Frey, Lothar; Verschuuren, Marc; Butschke, Jörg; Irmscher, Mathias; Storace, Eleonora; Ji, Ran; Schömbs, Ulrike
Poster
2009Charged particle multi-beam lithography evaluations for sub-16nm hp mask node fabrication and wafer direct write
Platzgummer, E.; Klein, C.; Joechl, P.; Loeschner, H.; Witt, M.; Pilz, W.; Butschke, J.; Jurisch, M.; Letzkus, F.; Sailer, H.; Irmscher, M.
Conference Paper
2009Latest results and computing performance of the ePLACE data preparation tool
Gramss, J.; Galler, R.; Neick, V.; Stoeckel, A.; Weidenmueller, U.; Melzer, D.; Suelzle, M.; Butschke, J.; Baetz, U.
Conference Paper
2009PML2: The maskless multibeam solution for the 22nm node and beyond
Klein, C.; Platzgummer, E.; Klikovits, J.; Piller, W.; Loeschner, H.; Bejdak, T.; Dolezel, P.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.; Jaschinsky, P.; Thrum, F.; Hohle, C.; Kretz, J.; Nogatch, J.T.; Zepka, A.
Conference Paper
2008MAGIC: A european program to push the insertion of maskless lithography
Pain, L.; Icard, B.; Tedesco, S.; Kampherbeck, B.; Gross, G.; Klein, C.; Loeschner, H.; Platzgummer, E.; Morgan, R.; Manakli, S.; Kretz, J.; Holhe, C.; Choi, K.-H.; Thrum, F.; Kassel, E.; Pilz, W.; Keil, K.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Letzkus, F.; Hudek, P.; Paraskevopoulos, A.; Ramm, P.; Weber, J.
Conference Paper
2008Projection maskless lithography (PML2)
Klein, C.; Platzgummer, E.; Loeschner, H.; Gross, G.; Dolezel, P.; Tmej, M.; Kolarik, V.; Klingler, W.; Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Witt, M.; Pilz, W.
Conference Paper
2003Large-field particle beam optics for projection and proximity printing and for maskless lithography
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Gross, G.; Fortagne, O.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C.
Journal Article
2002Large-field ion-optics for projection and proximity printing and for mask-less lithography (ML2)
Löschner, H.; Stengl, G.; Buschbeck, H.; Chalupka, A.; Lammer, G.; Platzgummer, E.; Vonach, H.; Jager, P.W.H. de; Käsmaier, R.; Ehrmann, A.; Hirscher, S.; Wolter, A.; Dietzel, A.; Berger, R.; Grimm, H.; Terris, B.D.; Brünger, W.H.; Adam, D.; Böhm, M.; Eichhorn, H.; Springer, R.; Butschke, J.; Letzkus, F.; Ruchhöft, P.; Wolfe, J.C.
Conference Paper
2001Reference plate manufacturing process for the ion projection lithography pattern lock system
Letzkus, F.; Butschke, J.; Irmscher, M.; Reuter, C.; Springer, R.; Eder, S.; Loschner, H.; Eberhardt, R.; Mohaupt, M.; Ehrmann, A.; Mathuni, J.; Panzer, B.; Struck, T.
Journal Article