Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2012Ferroelectricity in simple binary ZrO2 and HfO2
Müller, J.; Böscke, T.S.; Schröder, U.; Mueller, S.; Bräuhaus, D.; Böttger, U.; Frey, L.; Mikolajick, T.
Journal Article
2012Insights into electrical characteristics of silicon doped hafnium oxide ferroelectric thin films
Zhou, Dayu; Müller, J.; Xu, Jin; Knebel, S.; Bräuhaus, D.; Schröder, U.
Journal Article
2011Ferroelectric Zr0.5Hf0.5O2 thin films for nonvolatile memory applications
Müller, J.; Böscke, T.S.; Bräuhaus, D.; Schröder, U.; Böttger, U.; Sundqvist, J.; Kcher, P.; Mikolajick, T.; Frey, L.
Journal Article
2011Ferroelectricity in hafnium oxide thin films
Böscke, T.S.; Müller, J.; Bräuhaus, D.; Schröder, U.; Böttger, U.
Journal Article
2011Ferroelectricity in hafnium oxide: CMOS compatible ferroelectric field effect transistors
Boschke, T.S.; Müller, J.; Bräuhaus, D.; Schröder, U.; Böttger, U.
Conference Paper
2011Phase transitions in ferroelectric silicon doped hafnium oxide
Böscke, T.S.; Teichert, S.; Bräuhaus, D.; Müller, J.; Schröder, U.; Böttger, U.; Mikolajick, T.
Journal Article