Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Single- and Dual-variant Atomic Ordering in GaAsP Compositionally Graded Buffers on GaP and Si Substrates
France, R.M.; Feifel, Markus; Belz, J.; Beyer, A.; Volz, K.; Ohlmann, Jens; Lackner, David; Dimroth, Frank
Journal Article
2018Direct growth of III–V/silicon triple-junction solar cells with 19.7% efficiency
Feifel, Markus; Ohlmann, Jens; Benick, Jan; Hermle, Martin; Belz, Jürgen; Beyer, Andreas; Volz, Kerstin; Hannappel, Thomas; Bett, Andreas W.; Lackner, David; Dimroth, Frank
Journal Article
2017MOVPE Grown Gallium Phosphide-Silicon Heterojunction Solar Cells
Feifel, M.; Ohlmann, J.; Benick, J.; Rachow, T.; Janz, S.; Hermle, M.; Dimroth, F.; Belz, J.; Beyer, A.; Volz, K.; Lackner, D.
Journal Article
2005Das Rückgrat der deutschen Wirtschaft - motivieren, bewegen, stärken
Belz, J.; Wengel, J.; Diegner, B.; Hirsch-Kreinsen, H.; Kreysel, M.-A.; Pörschmann, G.
: Warschat, J.; Wagner, K.
Book
1991High-quality SOI-substrates for CMOS transistors
Belz, J.; Burbach, G.; Vogt, H.; Zimmer, G.
Conference Paper
1991Silicon-on-Insulator development in Europe
Belz, J.; Burbach, G.; Vogt, H.; Zimmer, G.
Journal Article
1990Batch process for the production of single crystal silicon membranes by the use of SIMOX-wafers
Belz, J.; Dura, H.-G.; Mokwa, W.; Vogt, H.; Zimmer, G.
Conference Paper
1990Characterization of CMOS-devices and circuits build on SIMOX-substrates
Belz, J.; Burbach, G.; Pieczynski, J.; Vogt, H.
Conference Paper
1990Characterization of CMOS-devices and circuits build on SIMOX-substrates
Belz, J.; Burbach, G.; Pieczynski, J.; Vogt, H.
Conference Paper
1990CMOS-Technologie auf SIMOX-Wafern
Belz, J.; Burbach, G.; Gassel, H.; Peter-Weidemann, J.; Vogt, H.
Book Article
1990Smart-Power-Schalter mit integrierter, dielektrisch isolierter CMOS-Ansteuerung
Belz, J.; Boguszewicz, R.; Burbach, G.; Fiedler, H.-L.; Karl, R.; Mütterlein, B.; Stein, E.; Vogt, F.P.; Vogt, H.
Conference Paper
1990Temperature behaviour of CMOS devices built on SIMOX substrates
Zimmermann, W.; Belz, J.; Burbach, G.; Vogt, H.
Conference Paper
1990Untersuchung und Entwicklung der CMOS-Technologie auf vergrabenem Isolator als einer neuen VLSI-Technologie. Berichtszeitraum 01.07.1987 - 31.09.1990. BMFT-Abschlußbericht 110620
Abel, H.B.; Gassel, H.; Belz, J.; Burbach, G.; Vogt, H.; Debusmann, K.; Peter-Weidemann, J.; Redlich, S.; Götzen, R.
Book
1989CMOS-Technologie auf SIMOX-Wafern
Belz, J.; Burbach, G.; Peter-Weidemann, J.; Vogt, H.
Book Article
1989CMOS/SOI-Technologie auf implantiert vergrabenem Isolator
Belz, J.; Burbach, G.; Vogt, H.; Zimmer, G.
Conference Paper
1989High quality silicon-on-insulator substrates by implanted oxygen ions
Belz, J.; Burbach, G.; Peter-Weidemann, J.; Vogt, H.; Zimmer, G.
Conference Paper
1989MESFETs in thin silicon on SIMOX
Vogt, Holger; Burbach, Gert; Belz, Joachim; Zimmer, Günter
Journal Article
1988Sauerstoff-Hochimplantationsanlage zur Herstellung von SIMOX-Wafern
Belz, J.
Book Article
1985Material and interface characterisation of buried silicon nitride for SOI-IC technology
Belz, J.; Vogt, H.; Zimmer, G.; Kaat, E.H. te
Conference Paper